[發(fā)明專利]一種基于掩模版拐角圓化的計算光刻方法及裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910103564.0
• 申請日: 2019-02-01
• 公開（公告）號: CN109634070B
• 公開（公告）日: 2020-09-01
• 發(fā)明（設計）人: 閻江;梁文青
• 申請（專利權(quán)）人: 墨研計算科學（南京）有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京弘權(quán)知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(普通合伙) 11363
• 代理人: 逯長明;許偉群

1.一種基于掩模版拐角圓化的計算光刻方法，其特征在于，包括：

獲取圓化處理圖形以及預先設計的掩模版圖形，其中，所述掩模版圖形為理想的掩模版圖形，所述圓化處理圖形用于對所述掩模版圖形進行圓化處理，所述圓化處理圖形中包括圓弧邊，所述圓化處理圖形包括第一圓化處理圖形以及第二圓化處理圖形，所述第一圓化處理圖形與所述第二圓化處理圖形的透射率相反，所述圓化處理圖形為通過將矩形去除一個固定形狀之后所剩的圖形，所述固定形狀為直角扇形，所述直角扇形以所述矩形的頂點為圓心，以所述矩形的邊長為半徑；

根據(jù)所述掩模版圖形，通過傅里葉變換，獲取第一響應函數(shù)，所述第一響應函數(shù)為所述掩模版圖形在頻域上的響應函數(shù)；

根據(jù)所述圓化處理圖形，通過傅里葉變換，獲取第二響應函數(shù)，所述第二響應函數(shù)為所述圓化處理圖形在頻域上的響應函數(shù)；

根據(jù)所述掩模版圖形，獲取所述掩模版圖形中的拐角，并標識所述拐角的類型，所述拐角的類型包括凸角以及凹角；

根據(jù)所述拐角的類型，將所述圓化處理圖形增加到所述掩模版圖形中，對所述掩模版進行圓化處理，其中，若所述拐角為凸角，則將所述第一圓化處理圖形增加到所述凸角處，所述第一圓化處理圖形與所述掩模版圖形的透射率相反；若所述拐角為凹角，則將所述第二圓化處理圖形增加到所述凹角處，所述第二圓化處理圖形與所述掩模版圖形的透射率相同；

根據(jù)圓化處理后的掩模版，獲取所述圓化處理后的掩模版中包括的幾何圖形；

根據(jù)所述第一響應函數(shù)以及所述第二響應函數(shù)，獲取第三響應函數(shù)，所述第三響應函數(shù)為所述幾何圖形在頻域上的響應函數(shù)；

根據(jù)所述第三響應函數(shù)，獲取晶圓表面的光強分布。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述圓化處理圖形，通過傅里葉變換，獲取第二響應函數(shù)，包括：

根據(jù)傅里葉變換，通過以下公式獲取所述矩形在頻域上的響應函數(shù)：

M^rect(f，g)＝l²×sinc(l×f)×sinc(l×g)；

其中，M^rect()表示所述矩形在頻域上的響應函數(shù)，(f，g)為頻域坐標系上的坐標表示，l表示所述矩形的邊長，sinc()表示數(shù)學運算中的辛格函數(shù)；

根據(jù)傅里葉變換，通過以下公式獲取所述直角扇形在頻域上的響應函數(shù)：

其中，M^sector()表示所述直角扇形在頻域上的響應函數(shù)，i表示虛數(shù)單位，且i²＝-1，atan()表示數(shù)學運算中的反正切函數(shù)，J_n表示第一類Bessel函數(shù)，n表示所述第一類Bessel函數(shù)的階數(shù)，r表示所述直角扇形的半徑，∑()表示數(shù)學運算中的求和函數(shù)，

根據(jù)所述矩形在頻域上的響應函數(shù)以及所述直角扇形在頻域上的響應函數(shù)，通過以下公式獲取所述第二響應函數(shù)：

M₂(f，g)＝M^rect(f，g)-M^sector(f，g)；

其中，M₂(f，g)表示所述第二響應函數(shù)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述第一響應函數(shù)以及所述第二響應函數(shù)，獲取第三響應函數(shù)，包括：

通過以下公式獲取所述第三響應函數(shù)：

其中，M(f，g)表示所述第三響應函數(shù)，M₁(f，g)表示所述第一響應函數(shù)，α_j＝±1，j表示所述掩模版圖形中多邊形的第j個頂點，所述掩模版圖形中包括多個多邊形。