[發明專利]金屬掩膜裝置

在審

• 申請號: 201910099209.0
• 申請日: 2019-01-31
• 公開（公告）號: CN109735801A
• 公開（公告）日: 2019-05-10
• 發明（設計）人: 姜亮
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電半導體顯示技術有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24
• 代理公司: 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙) 44300
• 代理人: 黃威

1.一種金屬掩膜裝置，其特征在于，包括：

外框，所述外框包括中空區；

位于所述中空區內的金屬掩膜層，包括：

金屬圖案層，包括至少一第一開口，所述第一開口的形狀與目標基板中像素單元的形狀相同；以及

位于所述金屬圖案層上的隔熱層；

當對所述目標基板進行加工時，所述金屬圖案層靠近所述目標基板，所述隔熱層遠離所述目標基板。

2.根據權利要求1所述的金屬掩膜裝置，其特征在于，

所述隔熱層的材料為二氧化硅。

3.根據權利要求1所述的金屬掩膜裝置，其特征在于，

所述隔熱層還包括第二開口；

所述第二開口與所述第一開口的形狀相同。

4.根據權利要求1所述的金屬掩膜裝置，其特征在于，

所述像素單元外邊界與所述第一開口在所述目標基板的正投影面的外邊界的間距為a，a大于0。

5.根據權利要求1所述的金屬掩膜裝置，其特征在于，

所述金屬圖案層還包括位于所述第一開口內的第一凸起；

所述第一凸起在所述目標基板上的正投影面與所述像素單元不重合。

6.根據權利要求1所述的金屬掩膜裝置，其特征在于，

所述金屬掩膜裝置還包括呈板條狀的至少兩個支撐條；

部分所述支撐條沿第一方向跨設于所述外框的中空區；

其余部分所述支撐條沿第二方向跨設于所述外框的中空區，以構成支撐網；

所述支撐條的兩端分別與所述外框連接；

所述第一方向與所述第二方向交叉。

7.根據權利要求6所述的金屬掩膜裝置，其特征在于，

所述外框還包括位于第一表面上的第一凹槽；

所述支撐條內嵌于所述第一凹槽內，并將所述金屬圖案層支撐于所述中空區上。

8.根據權利要求1所述的金屬掩膜裝置，其特征在于，

所述外框還包括位于所述中空腔側面的第二凹槽；

所述金屬圖案層內嵌于所述第二凹槽內。

9.根據權利要求8所述的金屬掩膜裝置，其特征在于，

所述金屬圖案層內還包括連續的中空腔體；

所述中空腔體內填充有冷卻流體。

10.根據權利要求9所述的金屬掩膜裝置，其特征在于，

所述金屬圖案層還包括第一進口和第一出口；

所述冷卻液通過所述第一進口流入所述中空腔體，并通過所述第一出口流出所述中空腔體，對所述金屬圖案層進行降溫處理。