[發明專利]石英晶片的清洗方法

有效

• 申請號: 201910085017.4
• 申請日: 2019-01-29
• 公開（公告）號: CN109647784B
• 公開（公告）日: 2022-04-01
• 發明（設計）人: 歐陽林;歐陽晟;韓何明;歐陽華
• 申請（專利權）人: 廣州晶優電子科技有限公司
• 主分類號: B08B3/04
• 分類號: B08B3/04;B08B13/00
• 代理公司: 廣州潤禾知識產權代理事務所(普通合伙) 44446
• 代理人: 林偉斌

本發明涉及石英晶片加工領域，具體公開了一種石英晶片的清洗方法，依次包括以下步驟：將石英晶片通過排片工序安裝到鍍膜夾具中；將安裝好石英晶片的鍍膜夾具放入清洗槽中進行清洗；將清洗好的鍍膜夾具進行脫水甩干。本發明提出了一種新的清洗方案，先將石英晶片在鍍膜夾具上排片好后再清洗，如此能夠有效確保在清洗過程中，每片石英晶片具有獨立的清洗空間，能夠受到全方位的清洗，從而去除石英晶片表面的顆粒雜質、粘附塵埃等雜質，清洗效果優異，有助于提升后續鍍膜質量。同時，清洗后的石英晶片也無需從鍍膜夾具上拆下來進行轉移，可直接進行后續的鍍膜步驟，大大簡化了工藝的復雜程度，提高了生產效率。

技術領域

本發明涉及石英晶片加工領域，具體涉及一種石英晶片的清洗方法。

背景技術

隨著電子通信終端換代升級，對于壓電石英器件也提出了更高的要求，尤其是在穩定性和小型化方面更為突出。壓電石英器件中石英晶片是非常重要的組件之一，在石英晶片的加工過程中涉及到清洗清潔工序，清洗好后的晶片通過鍍膜形成電極電路，若石英晶片清洗效果不佳將會直接影響到鍍膜的效果，從而影響到后續成品質量，因此，清洗工序對最終產品質量有決定性因素的環節之一。

目前，石英晶體制造商的清洗方式是將一定數量的晶片放置在一個網籃中如圖1所示，然后將多個網籃12一起放入清洗槽11中進行清洗，如圖2所示，清洗干凈后使用酒精進行脫水或者使用甩干的方式脫水，如圖3所示，脫水后再進行烤干。該方案將多個晶片放置在同一個網籃中，由于晶片本身較薄，清洗時晶片之間很容易吸附在一起，片與片之間無法充分散開，而吸附在一起的晶片難以清洗干凈，晶片清洗時，特別是在晶片干燥以后，能明顯看到表面研磨砂的殘留，清洗效果差。

有人為了解決晶片容易相互吸附的問題，研發了一種石英晶片的清洗裝置。通過在單個清洗盒內對應只放置一個晶片，通過驅動電機帶動清洗筒旋轉，清洗液對清洗盒內的晶片進行沖刷清洗，同時，清洗盒與熱風機的噴氣頭一一對應，清洗完后用熱風機對每個清洗盒中的晶片進行干燥，如此使得每個清洗盒內的晶片充分干燥。該方案能夠避免晶片堆疊以及清洗過程中發生磕碰損傷，同時保證晶片清洗和干燥徹底，但是該方案的清洗和干燥效率過低，不利于生產效率的提升。

發明內容

本發明旨在克服上述現有技術的至少一種缺陷(不足)，提供一種清洗效果好、有助于提升鍍膜質量及生產效率的石英晶片的清洗方法。

本發明采取的技術方案是：一種石英晶片的清洗方法，依次包括以下步驟：將石英晶片通過排片工序安裝到鍍膜夾具中；將安裝好石英晶片的鍍膜夾具放入清洗槽中進行清洗；將清洗好的鍍膜夾具進行脫水甩干。

傳統的石英晶片的清洗方法往往是在排片前將石英晶片集中清洗，清洗過程中石英晶片不可避免會出現吸附堆疊，導致石英晶片清洗不干凈，從而影響到后續鍍膜的質量。本發明提出了一種新的清洗方案，先將石英晶片在鍍膜夾具上排片好后再清洗，如此能夠有效確保在清洗過程中，每片石英晶片具有獨立的清洗空間，能夠受到全方位的清洗，從而去除石英晶片表面的顆粒雜質、粘附塵埃等雜質，清洗效果優異，有助于提升后續鍍膜質量。同時，清洗后的石英晶片也無需從鍍膜夾具上拆下來進行轉移，可直接進行后續的鍍膜步驟，大大簡化了工藝的復雜程度，提高了生產效率。

同時，現有技術中，對清洗后的石英晶片往往需要用酒精進行脫水，一段時間后必須要更換新的酒精以防止清洗后的晶片再次污染，這樣就導致需要使用大量的酒精，提高了生產成本。本發明采用甩干脫水的方式，免去了酒精的使用，降低了生產成本。

作為一種優選方案，對鍍膜夾具的清洗具體為：將安裝好石英晶片的鍍膜夾具安裝到一清洗提籃中，然后將所述清洗提籃置入清洗槽中。

為了便于清洗和轉移，本方案將安裝好石英晶片的鍍膜夾具統一安裝到一清洗提籃中，為了增加單次清洗的石英晶片數量，提高清洗效率。本方案采用了在一個清洗裝置中放置多片鍍膜夾具的方式，鍍膜夾具之間設置一定的距離，保證每片鍍膜夾具上的石英晶片有足夠的清洗空間，能夠受到全方位的清洗。