[發(fā)明專利]發(fā)光殼體

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910083828.0
• 申請日: 2019-01-29
• 公開（公告）號(hào): CN110529770B
• 公開（公告）日: 2023-01-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 簡宏文;林雨德;林義隆;王智勇
• 申請（專利權(quán)）人: 和碩聯(lián)合科技股份有限公司
• 主分類號(hào): F21S8/00
• 分類號(hào): F21S8/00;F21V3/10;F21V7/05;F21V7/24;F21V17/10;F21V19/00;G09F9/00;F21Y115/10
• 代理公司: 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100
• 代理人: 徐偉

1.一種發(fā)光殼體，應(yīng)用于一機(jī)殼，包括：

一發(fā)光模塊，包含一導(dǎo)光板及至少一發(fā)光單元，該導(dǎo)光板包含一上表面、一下表面及多個(gè)網(wǎng)點(diǎn)區(qū)域，該些網(wǎng)點(diǎn)區(qū)域位于該下表面，該至少一發(fā)光單元提供多個(gè)光線射入該導(dǎo)光板；

一殼體，設(shè)置于該發(fā)光模塊的上方并位于該導(dǎo)光板的該上表面，該殼體包含至少一透光區(qū)域，其中該至少一發(fā)光單元發(fā)出的部分該些光線經(jīng)由該些網(wǎng)點(diǎn)區(qū)域反射穿過該導(dǎo)光板的該上表面及該至少一透光區(qū)域；

一底板，設(shè)置于該發(fā)光模塊下方以反射該發(fā)光單元發(fā)出的光線；以及

一薄膜，貼附于該導(dǎo)光板相對(duì)于設(shè)置該網(wǎng)點(diǎn)區(qū)域的該上表面；

其中，該至少一發(fā)光單元發(fā)出的部份該些光線穿透該導(dǎo)光板并經(jīng)由該薄膜反射至該底板后，再次由該底板反射并穿過該導(dǎo)光板及該至少一透光區(qū)域。

2.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光殼體，其特征在于，該薄膜利用靜電吸附的方式貼附于該導(dǎo)光板相對(duì)于設(shè)置該網(wǎng)點(diǎn)區(qū)域的該上表面。

3.如權(quán)利要求2所述的發(fā)光殼體，其特征在于，該薄膜為非完全透明薄膜。

4.如權(quán)利要求2或3所述的發(fā)光殼體，其特征在于，該薄膜為半透明薄膜。

5.如權(quán)利要求2所述的發(fā)光殼體，其特征在于，該薄膜為聚乙烯薄膜。

6.如權(quán)利要求2所述的發(fā)光殼體，其特征在于，該薄膜完全覆蓋該導(dǎo)光板的該上表面。

7.如權(quán)利要求2所述的發(fā)光殼體，其特征在于，更包括另一薄膜，利用靜電吸附的方式貼附于該薄膜上方。

8.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光殼體，其特征在于，該殼體的一外表面噴涂一UV涂層，并覆蓋該至少一透光區(qū)域。

9.如權(quán)利要求8所述的發(fā)光殼體，其特征在于，中該UV涂層經(jīng)過多次重疊噴涂至完全遮蔽該至少一透光區(qū)域。

10.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光殼體，其特征在于，該殼體的該至少一透光區(qū)域包含相對(duì)設(shè)置的一內(nèi)表面以及一外表面，該內(nèi)表面為一內(nèi)凹表面且面向該發(fā)光模塊，該外表面形成一凹凸表面。

11.如權(quán)利要求10所述的發(fā)光殼體，其特征在于，該凹凸表面由一咬花結(jié)構(gòu)組成。

12.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光殼體，其特征在于，該殼體的該至少一透光區(qū)域包含相對(duì)設(shè)置的一內(nèi)表面以及一外表面，該內(nèi)表面為一內(nèi)凹表面且面向該發(fā)光模塊，該外表面形成一平滑表面。

13.如權(quán)利要求10或12所述的發(fā)光殼體，其特征在于，該內(nèi)凹表面是于內(nèi)表面以激光雕刻方式形成。