[發(fā)明專利]一種二硒化鎢薄片/氧化鋅納米帶結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)晶體管光電探測(cè)器及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910049102.5 | 申請(qǐng)日: | 2019-01-18 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109817757B | 公開(公告)日: | 2021-02-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 郭楠;賈怡;常慧聰;肖林 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)空間技術(shù)研究院 |
| 主分類號(hào): | H01L31/112 | 分類號(hào): | H01L31/112;H01L31/0392;H01L31/0296;H01L31/18 |
| 代理公司: | 中國(guó)航天科技專利中心 11009 | 代理人: | 張麗娜 |
| 地址: | 100194 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 二硒化鎢 薄片 氧化鋅 納米 帶結(jié)型 場(chǎng)效應(yīng) 晶體管 光電 探測(cè)器 及其 制備 方法 | ||
本發(fā)明涉及一種二硒化鎢薄片/氧化鋅納米帶結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)晶體管光電探測(cè)器及其制備方法,該光電探測(cè)器為納米材料結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)晶體管光電探測(cè)器,具體是指將p型的二硒化鎢(WSe2)薄片和n型的氧化鋅(ZnO)納米帶接觸形成p?n結(jié),同時(shí)WSe2薄片作為感光材料連接在頂柵電極與ZnO納米帶導(dǎo)電溝道之間。WSe2薄片受光激發(fā)產(chǎn)生光生載流子形成導(dǎo)電通道,頂柵電壓通過(guò)該導(dǎo)電通道施加到p?n結(jié)處,調(diào)節(jié)ZnO納米帶中耗盡區(qū)的寬度來(lái)實(shí)現(xiàn)溝道電導(dǎo)的調(diào)節(jié),提高器件的光增益和響應(yīng)速度。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種二硒化鎢薄片/氧化鋅納米帶結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)晶體管光電探測(cè)器及其制備方法,該光電探測(cè)器為納米材料結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)晶體管光電探測(cè)器,具體是指將p型的二硒化鎢(WSe2)薄片和n型的氧化鋅(ZnO)納米帶接觸形成p-n結(jié),同時(shí)WSe2薄片作為感光材料連接在頂柵電極與ZnO納米帶導(dǎo)電溝道之間。WSe2薄片受光激發(fā)產(chǎn)生光生載流子形成導(dǎo)電通道,頂柵電壓通過(guò)該導(dǎo)電通道施加到p-n結(jié)處,調(diào)節(jié)ZnO納米帶中耗盡區(qū)的寬度來(lái)實(shí)現(xiàn)溝道電導(dǎo)的調(diào)節(jié),提高器件的光增益和響應(yīng)速度。
背景技術(shù)
低維材料因其獨(dú)特的光學(xué)性質(zhì)(例如寬帶響應(yīng)以及較快的載流子動(dòng)力學(xué)過(guò)程)展示出其作為光敏元件的巨大潛力。但低維材料較薄的原子層級(jí)的厚度也使得其不能像體材料那樣對(duì)光實(shí)現(xiàn)完全吸收,因此光的利用效率很低,進(jìn)而抑制了器件的光響應(yīng)率。近幾年,研究人員嘗試將不同的低維材料結(jié)合形成復(fù)合結(jié)構(gòu),以提高光電探測(cè)器的性能。其中,通過(guò)引入缺陷輔助的響應(yīng)機(jī)制延長(zhǎng)光生載流子的壽命獲得超高的響應(yīng)增益。然而,這種器件的缺點(diǎn)是載流子壽命較長(zhǎng)導(dǎo)致響應(yīng)時(shí)間較慢,即增益-響應(yīng)時(shí)間相互制約的問(wèn)題。解決這個(gè)問(wèn)題的關(guān)鍵是需要開發(fā)一種新的器件結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)增益機(jī)制與載流子壽命的解耦,同時(shí)提高增益并縮短響應(yīng)時(shí)間。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的技術(shù)解決問(wèn)題是:克服增益-響應(yīng)時(shí)間相互制約的問(wèn)題,提出一種二硒化鎢薄片/氧化鋅納米帶結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)晶體管光電探測(cè)器及其制備方法。
本發(fā)明的技術(shù)解決方案是:
一種二硒化鎢薄片/氧化鋅納米帶結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)晶體管光電探測(cè)器,該光電探測(cè)器包括ZnO納米帶、WSe2薄片、Si/SiO2襯底、源電極、漏電極和頂柵電極;
所述的ZnO納米帶、WSe2薄片、源電極、漏電極、頂柵電極均位于Si/SiO2襯底上,ZnO納米帶的一端與源電極相連,ZnO納米帶的另一端與漏電極相連;WSe2薄片的一端壓在ZnO納米帶上,另一端壓在頂柵電極上;
所述的ZnO納米帶為結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)晶體管的導(dǎo)電溝道,源電極和漏電極用于收集ZnO納米帶的電信號(hào),WSe2薄片為感光材料,用于在頂柵電極和ZnO溝道之間形成一個(gè)受光照調(diào)節(jié)的導(dǎo)電通道。
一種二硒化鎢薄片/氧化鋅納米帶結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)晶體管光電探測(cè)器的制備方法,該方法的步驟包括:
(1)采用化學(xué)氣相傳輸?shù)姆椒ㄉL(zhǎng)ZnO納米帶;
(2)將步驟(1)制備的ZnO納米帶物理轉(zhuǎn)移到Si/SiO2(285nm)襯底上;
(3)在步驟(2)得到的帶有ZnO納米帶的Si/SiO2(285nm)襯底上利用電子束光刻技術(shù)制備源電極圖形、漏電極圖形和頂柵電極圖形,并對(duì)源電極圖形、漏電極圖形和頂柵電極圖形進(jìn)行熱蒸鍍后得到源電極、漏電極和頂柵電極;
源電極壓在ZnO納米帶的一端,漏電極壓在ZnO納米帶的另一端,頂柵電極不與ZnO納米帶接觸;
(4)采用機(jī)械剝離的方法在PDMS膜(Polydimethylsiloxane,聚二甲基硅氧烷)上制備WSe2的薄片;
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過(guò)該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





