[發(fā)明專利]一種面光源的打件裝置及其打件方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910013187.1 | 申請日: | 2019-01-07 |
| 公開(公告)號: | CN109407367B | 公開(公告)日: | 2021-09-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 芮博超;王雪絨;陳雷;汪志強;馬鑫;孫川;王秋里 | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/13 | 分類號: | G02F1/13;G02F1/13357 |
| 代理公司: | 北京中博世達專利商標(biāo)代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 光源 裝置 及其 方法 | ||
1.一種面光源的打件裝置,其特征在于,包括:
抓取機構(gòu),所述抓取機構(gòu)包括至少一個抓取組,每個所述抓取組包括多個抓取臂,同一抓取組中的多個所述抓取臂用于從擴晶板上同時抓取多個LED晶元,并將多個LED晶元轉(zhuǎn)移到柔性電路板上;
行程放大機構(gòu),用于放大抓取了LED晶元的多個所述抓取臂之間的間距,以使相鄰兩個所述抓取臂之間的間距匹配所述柔性電路板上相鄰LED晶元待放位置之間的間距;
行程縮小機構(gòu),用于縮小釋放了LED晶元的多個所述抓取臂之間的間距,以使相鄰兩個所述抓取臂之間的間距匹配所述擴晶板上待抓取的多個LED晶元中相鄰LED晶元之間的間距;
其中,所述行程放大機構(gòu)和/或所述行程縮小機構(gòu)為圓盤狀結(jié)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的面光源的打件裝置,其特征在于,同一抓取組中的多個所述抓取臂用于在所述擴晶板上同時抓取一行或一列的LED晶元。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的面光源的打件裝置,其特征在于,同一抓取組中的多個所述抓取臂用于在所述擴晶板的行方向或列方向上間隔抓取LED晶元。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的面光源的打件裝置,其特征在于,所述抓取機構(gòu)包括多個所述抓取組,多個所述抓取組依次抓取所述擴晶板上的LED晶元。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的面光源的打件裝置,其特征在于,還包括對位機構(gòu),所述對位機構(gòu)用于調(diào)整所述抓取臂的位置和/或所述柔性電路板的位置,以使所述抓取臂上抓取的LED晶元與所述柔性電路板上的LED晶元待放位置之間的位置相匹配。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的面光源的打件裝置,其特征在于,所述對位機構(gòu)設(shè)置在所述柔性電路板上,所述對位機構(gòu)用于調(diào)整所述柔性電路板的位置。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的面光源的打件裝置,其特征在于,所述對位機構(gòu)包括X方向調(diào)節(jié)單元和Y方向調(diào)節(jié)單元,所述X方向調(diào)節(jié)單元用于控制所述柔性電路板在X方向上移動;所述Y方向調(diào)節(jié)單元用于控制所述柔性電路板在Y方向上移動。
8.一種面光源的打件方法,其特征在于,所述打件方法使用如權(quán)利要求1-7任一項所述的面光源的打件裝置,所述方法包括:
利用多個抓取臂同時抓取擴晶板上的多個LED晶元;
放大抓取了LED晶元的多個所述抓取臂之間的間距,以使相鄰兩個所述抓取臂之間的間距匹配柔性電路板上相鄰LED晶元待放位置之間的間距;
將多個所述抓取臂抓取的多個LED晶元放置在所述柔性電路板上對應(yīng)的LED晶元待放位置上;
縮小釋放了LED晶元的多個所述抓取臂之間的間距,以使相鄰兩個所述抓取臂之間的間距匹配所述擴晶板上待抓取的多個LED晶元中相鄰LED晶元之間的間距。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的面光源的打件方法,其特征在于,所述利用多個抓取臂同時抓取擴晶板上的多個LED晶元具體為:
利用多個抓取臂在擴晶板上同時抓取一行或一列的LED晶元。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





