[發(fā)明專利]包含黏土顆粒和炭黑的聚酰亞胺薄膜及其制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201880095601.1
• 申請日: 2018-09-28
• 公開（公告）號: CN112399984B
• 公開（公告）日: 2023-08-04
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 金紀(jì)勛;李吉男;崔禎烈
• 申請（專利權(quán)）人: 聚酰亞胺先端材料有限公司
• 主分類號: C08J5/18
• 分類號: C08J5/18;C08K3/34;C08L79/08;C08K3/04;C08G73/10
• 代理公司: 北京派特恩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11270
• 代理人: 李光輝;馬芬

1.一種聚酰亞胺薄膜，其特征在于，相對于所述聚酰亞胺薄膜的總重量，包含：

85重量％至94.5重量％的聚酰亞胺樹脂；

2重量％至5重量％的扁平型黏土顆粒；以及

5重量％至10重量％的炭黑，

其中，各組分的總重量為100重量％，

所述黏土顆粒分散至薄膜中以形成多個阻擋層，

至少一部分炭黑位于所述阻擋層之間，

所述聚酰亞胺薄膜以厚度為基準(zhǔn)評估的耐堿指數(shù)為60％以上，

其中，所述聚酰亞胺薄膜在可視光區(qū)域中的透光率為0.5％以下，并且拉伸強(qiáng)度為225MPa以上。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚酰亞胺薄膜，其特征在于，

所述黏土顆粒以選自以下狀態(tài)中的至少一種狀態(tài)形成多個阻擋層，至少一部分炭黑位于所述阻擋層之間：

(a)第一狀態(tài)，黏土顆粒的長軸與聚酰亞胺薄膜的機(jī)器方向成0°至45°的角度；以及

(b)第二狀態(tài)，黏土顆粒的長軸與聚酰亞胺薄膜的橫向成0°至45°的角度。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的聚酰亞胺薄膜，其特征在于，所述第一狀態(tài)為黏土顆粒的長軸相對于聚酰亞胺薄膜的機(jī)器方向平行以形成多個阻擋層的狀態(tài)。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的聚酰亞胺薄膜，其特征在于，所述第二狀態(tài)為黏土顆粒的長軸相對于聚酰亞胺薄膜的橫向平行以形成多個阻擋層的狀態(tài)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚酰亞胺薄膜，其特征在于，

所述黏土顆粒以選自以下狀態(tài)中的至少一種狀態(tài)形成多個阻擋層，至少一部分炭黑位于所述阻擋層之間：

(a)第三狀態(tài)，黏土顆粒設(shè)置于聚酰亞胺薄膜的表面上；

(b)第四狀態(tài)，黏土顆粒與聚酰亞胺薄膜的表面相鄰設(shè)置；以及

(C)第五狀態(tài)，黏土顆粒設(shè)置于聚酰亞胺薄膜內(nèi)部。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚酰亞胺薄膜，其特征在于，所述黏土顆粒為選自由頁硅酸鹽、層之間填充了鈉離子的頁硅酸鹽、層之間填充了鉀離子的頁硅酸鹽以及它們經(jīng)季銨離子處理過的黏土組成的組中的至少一種。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的聚酰亞胺薄膜，其特征在于，所述頁硅酸鹽為選自由蒙脫石、鋰蒙脫石、皂石、貝得石、硬石膏、蛭石、鉻膨潤石、鋅蒙脫石、含氟鋰蒙脫石、瑪格迪特、高嶺石以及埃洛石組成的組中的至少一種。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚酰亞胺薄膜，其特征在于，

所述聚酰亞胺樹脂衍生自聚酰亞胺酸，

所述聚酰亞胺酸為由至少一種二酐單體以及至少一種二胺單體聚合而成的酸。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的聚酰亞胺薄膜，其特征在于，所述二酐單體選自由均苯四甲酸二酐、3,3',4,4'-聯(lián)苯四甲酸二酐、2,3,3',4'-聯(lián)苯四甲酸二酐、氧雙鄰苯二甲酸二酐、二苯基砜-3,4,3',4'-四羧酸二酐、雙(3,4-二羧苯基)硫醚二酐、2,2-雙(3,4-二羧苯基)-1,1,1,3,3,3-六氟丙烷二酐、2,3,3',4'-二苯甲酮四羧酸二酐、3,3',4,4'-二苯甲酮四羧酸二酐、雙(3,4-二羧苯基)甲烷二酐、2,2-雙(3,4-二羧苯基)丙烷二酐、對-亞苯基雙(偏苯三酸酯單酸酐)、對聯(lián)亞苯基雙(偏苯三酸酯單酸酐)、間-三苯基-3,4,3',4'-四羧酸二酐、對-三苯基-3,4,3',4'-四羧酸二酐、1,3-雙(3,4-二羧基苯氧基)苯二酐、1,4-雙(3,4-二羧基苯氧基)苯二酐、1,4-雙(3,4-二羧基苯氧基)聯(lián)苯二酐、2,2-雙[(3,4-二羧基苯氧基)苯基]丙烷二酐、2,3,6,7-萘四甲酸二酐、1,4,5,8-萘四甲酸二酐、4,4'-(2,2-六氟異亞丙基)二鄰苯二甲酸二酐組成的組中的至少一種。