[發(fā)明專利]用于使用質(zhì)心采樣的局部口腔炎癥改進測量的方法和系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201880080114.8 | 申請日: | 2018-12-06 |
| 公開(公告)號: | CN111479499A | 公開(公告)日: | 2020-07-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | S·C·迪恩;A·J·戴維 | 申請(專利權(quán))人: | 皇家飛利浦有限公司 |
| 主分類號: | A61B5/00 | 分類號: | A61B5/00;A61B5/06 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務所 11256 | 代理人: | 董莘 |
| 地址: | 荷蘭艾恩*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 使用 質(zhì)心 采樣 局部 口腔 炎癥 改進 測量 方法 系統(tǒng) | ||
為定位用戶口部內(nèi)的牙齦炎癥,使用口腔護理設(shè)備(10)執(zhí)行下列步驟:(i)通過多個光源(48)以第一順序模式順序地發(fā)射(520)光,其中所述多個光源中的至少一些被配置為發(fā)射具有不同波長的光;(ii)以與所述第一順序模式相反的第二順序模式順序地發(fā)射(530)光;(iii)通過光檢測器(40)獲得(540)反射比測量值,以根據(jù)以第一順序模式發(fā)射的光來生成第一反射比數(shù)據(jù),并根據(jù)以第二順序模式發(fā)射的光生成第二反射比數(shù)據(jù);(iv)通過控制器(30)對每個波長的第一反射比數(shù)據(jù)和第二反射比數(shù)據(jù)求平均(550)以生成平均反射比數(shù)據(jù);和(v)使用平均反射比數(shù)據(jù)確定(570)所述位置的牙齦是否發(fā)炎。
技術(shù)領(lǐng)域
本公開總體上針對使用口腔護理設(shè)備對于局部牙齦炎癥的改進檢測的方法和系統(tǒng)。
背景技術(shù)
正確的刷牙(包括刷牙的時間和覆蓋范圍)有助于促進牙齒長期健康。不定期刷牙或刷牙不充分的人會遇到許多牙齒問題,尤其是在口腔的特定區(qū)域或部位中。在定期進行刷牙的人中,即使在遵循標準的刷牙規(guī)則(如每天刷牙兩次,每次兩分鐘)時,不正確的刷牙習慣可能導致差的刷牙覆蓋范圍,并因此導致在清潔過程中未被充分清潔的表面。
事實上,據(jù)估計美國50%的成年人患有牙周病,嚴重程度從牙齦炎到牙周炎不等。然而,消費者往往不能檢測牙周病的早期病征。因此,這類疾病可能只會在看牙醫(yī)時才被檢測到,此時疾病已經(jīng)發(fā)展到后期并且相當難以治療。
口部內(nèi)組織的炎癥是牙周疾病的關(guān)鍵病征之一。檢測到炎癥會預示疾病狀態(tài)存在,并會使人意識到需要進行治療以解決該問題。例如,牙齦發(fā)炎如果被檢測到,是通過適當?shù)募彝プo理可以逆轉(zhuǎn)的,而牙周炎引起的骨損失則需要專業(yè)治療。然而,現(xiàn)有的方法和設(shè)備不能充分地識別或量化組織的炎癥,特別是局部炎癥。例如,手持設(shè)備能實現(xiàn)的對牙齦炎癥的檢測不佳,因為這些設(shè)備要么分析口部的較大區(qū)域,從而導致較大的干擾檢測的信噪比,要么需要進行對用戶不友好的大量測量。此外,用戶手部的運動會導致手持設(shè)備產(chǎn)生偽影和較差讀數(shù)。結(jié)果導致牙周病經(jīng)常沒有被檢測到。
因此,在本領(lǐng)域中一直存在對如下口腔護理方法和設(shè)備的需求:該口腔護理方法和設(shè)備在檢測局部牙齦炎癥期間考慮到用戶手部運動。
發(fā)明內(nèi)容
本公開涉及使用口腔護理設(shè)備檢測組織炎癥的創(chuàng)新方法和系統(tǒng)。本文的各種實施例和實施方式涉及被配置為獲得牙齦組織的測量值以識別局部牙齦炎癥的口腔護理設(shè)備??谇蛔o理設(shè)備包括具有一個或多個光發(fā)射器和一個或多個光檢測器或成像器的配置的傳感器,以獲得關(guān)于在一個或多個被采樣位置處的牙齦組織的信息。該一個或多個光發(fā)射器被配置為發(fā)射光,使得以第一順序模式順序地發(fā)射多個不同的波長。該一個或多個光發(fā)射器還被配置為繼續(xù)發(fā)射光,使得以第二順序模式順序地發(fā)射多個不同的波長,其中第二順序模式與第一順序模式相反。一個或多個光檢測器被配置為從用戶的口部內(nèi)的位置獲得反射比測量值,以響應于以第一模式發(fā)射的光來生成該位置的第一反射比數(shù)據(jù),并響應于以第二模式發(fā)射的光來生成該位置的第二反射比數(shù)據(jù)。設(shè)備的控制器對多個檢測到的光波長中的每個波長的第一反射比數(shù)據(jù)和第二反射比數(shù)據(jù)求平均,以生成該位置的平均反射比數(shù)據(jù),然后將其用于確定該位置的牙齦是否發(fā)炎。
通常,在一個方面,提供了一種使用口腔護理裝置在用戶的口部內(nèi)定位牙齦炎癥的方法。該方法包括:(i)通過口腔護理設(shè)備的多個光源以第一順序模式順序地發(fā)射光,其中所述多個光源中的至少一些被配置為發(fā)射不同波長的光,從而產(chǎn)生多個發(fā)射光波長;(ii)通過口腔護理設(shè)備的所述多個光源以第二順序模式順序地發(fā)射光,其中第二順序模式與第一順序模式相反;(iii)由口腔護理設(shè)備的光檢測器獲得來自用戶口部內(nèi)的位置的反射比測量值,以響應于以第一順序模式發(fā)射的光來生成該位置的第一反射比數(shù)據(jù),并響應于以第二順序模式發(fā)射的光生成該位置的第二反射比數(shù)據(jù);(iv)通過口腔護理設(shè)備的控制器對所述多個發(fā)射光波長中的每一個的第一反射比數(shù)據(jù)和第二反射比數(shù)據(jù)求平均,以產(chǎn)生平均反射比數(shù)據(jù);和(v)通過控制器使用所述平均反射比數(shù)據(jù)確定該位置的牙齦是否發(fā)炎。
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