[發(fā)明專利]用于使用質(zhì)心采樣的局部口腔炎癥改進(jìn)測(cè)量的方法和系統(tǒng)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201880080114.8
• 申請(qǐng)日: 2018-12-06
• 公開（公告）號(hào): CN111479499A
• 公開（公告）日: 2020-07-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: S·C·迪恩;A·J·戴維
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 皇家飛利浦有限公司
• 主分類號(hào): A61B5/00
• 分類號(hào): A61B5/00;A61B5/06
• 代理公司: 北京市金杜律師事務(wù)所 11256
• 代理人: 董莘

1.一種使用口腔護(hù)理設(shè)備(10)定位用戶口部?jī)?nèi)的牙齦炎癥的方法(500)，所述方法包括：

通過(guò)所述口腔護(hù)理設(shè)備的多個(gè)光源(48)以第一順序模式順序地發(fā)射(520)光，其中所述多個(gè)光源中的至少一些被配置為發(fā)射具有不同波長(zhǎng)的光，從而產(chǎn)生多個(gè)發(fā)射光波長(zhǎng)；

通過(guò)所述口腔護(hù)理設(shè)備的所述多個(gè)光源以第二順序模式順序地發(fā)射(530)光，其中所述第二順序模式與所述第一順序模式相反；

通過(guò)所述口腔護(hù)理設(shè)備的光檢測(cè)器(40)獲得(540)來(lái)自所述用戶口部?jī)?nèi)的位置的反射比測(cè)量值，以響應(yīng)于以所述第一順序模式發(fā)射的所述光來(lái)生成所述位置的第一反射比數(shù)據(jù)，以及響應(yīng)于以所述第二順序模式發(fā)射的所述光來(lái)生成所述位置的第二反射比數(shù)據(jù)；

通過(guò)所述口腔護(hù)理設(shè)備的控制器(30)對(duì)所述多個(gè)發(fā)射光波長(zhǎng)中的每一個(gè)的第一反射比數(shù)據(jù)和第二反射比數(shù)據(jù)求平均(550)，以生成平均反射比數(shù)據(jù)；和

通過(guò)所述控制器使用所述平均反射比數(shù)據(jù)確定(570)所述位置處的牙齦是否發(fā)炎。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，進(jìn)一步包括步驟：通過(guò)所述控制器使用平均反射比數(shù)據(jù)確定(560)所述位置是否包括牙齦。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，進(jìn)一步包括步驟：提供(580)關(guān)于一個(gè)位置處的牙齦是否包括炎癥的信息。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述口腔護(hù)理設(shè)備包括多個(gè)光檢測(cè)器，每個(gè)所述光檢測(cè)器被配置為從所述用戶口部?jī)?nèi)的不同位置獲得反射比測(cè)量值，以生成針對(duì)相應(yīng)位置的反射比數(shù)據(jù)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中確定一個(gè)位置處的牙齦是否發(fā)炎的步驟包括確定所述牙齦的近似組織氧合水平，其中低組織氧合水平指示牙齦發(fā)炎。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述多個(gè)光源和所述光檢測(cè)器被定位成使得所述位置處的表面不被所述多個(gè)光源直接照射。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述第一順序模式和/或所述第二順序模式還包括時(shí)間點(diǎn)，在所述時(shí)間點(diǎn)所述多個(gè)光源不發(fā)射光。

8.一種使用口腔護(hù)理設(shè)備(10)定位用戶口部?jī)?nèi)的牙齦炎癥的方法(500)，所述方法包括：

通過(guò)所述口腔護(hù)理設(shè)備的一個(gè)或多個(gè)光檢測(cè)器(40)順序地檢測(cè)(540)由所述口腔護(hù)理設(shè)備的一個(gè)或多個(gè)光源(48)發(fā)射的光，其中所述一個(gè)或多個(gè)光檢測(cè)器配置成以第一順序模式測(cè)量多個(gè)波長(zhǎng)，并根據(jù)檢測(cè)到的光生成第一反射比數(shù)據(jù)；

通過(guò)所述口腔護(hù)理設(shè)備的所述一個(gè)或多個(gè)光檢測(cè)器以第二順序模式順序地檢測(cè)(540)光，其中所述第二順序模式與所述第一順序模式相反，并根據(jù)檢測(cè)到的光生成第二反射比數(shù)據(jù)；

通過(guò)所述口腔護(hù)理設(shè)備的控制器(30)對(duì)檢測(cè)到的所述多個(gè)波長(zhǎng)中的每個(gè)波長(zhǎng)的第一反射比數(shù)據(jù)和第二反射比數(shù)據(jù)求平均(550)，以生成平均反射比數(shù)據(jù)；和

通過(guò)所述控制器使用所述平均反射比數(shù)據(jù)確定(570)位置處的牙齦是否發(fā)炎。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，進(jìn)一步包括以下步驟：通過(guò)所述控制器使用平均反射比數(shù)據(jù)來(lái)確定(560)所述位置是否包括牙齦。

10.一種設(shè)備(10)，所述設(shè)備被配置為定位用戶口部?jī)?nèi)的牙齦炎癥，包括：

多個(gè)光源(48)，被配置為以第一順序模式并且隨后以第二順序模式順序地發(fā)射光，其中所述第二順序模式與所述第一順序模式相反，并且其中所述多個(gè)光源中的至少一些光源發(fā)射具有不同波長(zhǎng)的光，從而產(chǎn)生多個(gè)發(fā)射光波長(zhǎng)；

光檢測(cè)器(40)，被配置為獲得來(lái)自所述用戶口部?jī)?nèi)的位置的反射比測(cè)量值，以響應(yīng)于以所述第一順序模式發(fā)射的所述光來(lái)生成所述位置的第一反射比數(shù)據(jù)，并響應(yīng)于以所述第二順序模式發(fā)射的所述光生成所述位置的第二反射比數(shù)據(jù)；和

控制器(30)，被配置為：(i)針對(duì)所述多個(gè)發(fā)射光波長(zhǎng)中的每一個(gè)的第一反射比數(shù)據(jù)和第二反射比數(shù)據(jù)求平均，以生成平均反射比數(shù)據(jù)；以及(ii)使用所述平均反射比數(shù)據(jù)確定所述位置處的牙齦是否發(fā)炎。