[發明專利]雙環[2.2.2]辛烷衍生物的合成

有效

• 申請號: 201880080011.1
• 申請日: 2018-10-10
• 公開（公告）號: CN111433181B
• 公開（公告）日: 2023-08-04
• 發明（設計）人: Y.R.胡;R.T.亨布雷;G.C.塔斯廷;劉鑄舫;S.J.亞當斯
• 申請（專利權）人: 伊士曼化工公司
• 主分類號: C07C67/055
• 分類號: C07C67/055;C07C35/31
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 郭佩;楊戩

1.一種方法，其包括使下式的化合物

任選在至少一種下列化合物存在下與(i)包含鈀化合物的過渡金屬催化劑和(ii)氧化劑接觸；

(I)下式的化合物

其中R選自氫；和任選被選自C₁-C₆烷氧基、鹵素、硝基和氰基的一個或多個基團取代的C_1-C₁₂烷基；

R*選自氫；任選被選自C₁-C₆烷氧基、鹵素、硝基和氰基的一個或多個基團取代的C_1-C₁₂烷基；和堿金屬陽離子；或

(II)具有至少一個下式的C₁-C₁₂烷酰氧基基團的化合物

以提供下式的化合物

其中各R₁獨立地為氫或下式的基團

其進一步包括選自(a)、(b)或(c)的步驟：

(a)在強酸存在下與一氧化碳反應，接著用(i)水或(ii)式R-OH的醇的至少一種淬滅，以提供下式的化合物的步驟

所述步驟(a)任選進一步包括以下步驟：

在非均相銅催化劑或均相釕催化劑存在下與氫氣接觸以提供下式的化合物

任選接著還原胺化以提供下式的化合物

(b)轉化成下式的化合物的步驟：

其包括(I)與腈在酸存在下的反應，接著水解成相應的胺；

所述步驟(b)任選進一步包括用光氣(COCl₂)處理以提供下式的化合物：

或

(c)(I)的鹵化以提供下式的化合物的步驟：

其中x是鹵素；

所述步驟(c)任選進一步包括選自下列的步驟：

a.在強酸存在下與一氧化碳反應，接著用(i)水或(ii)式R-OH的醇的至少一種淬滅，以提供下式的化合物

b.通過用氨處理而胺化以提供下式的化合物：

或

c.通過在鈷或釕催化劑的至少一種存在下在大約90至250℃的溫度和大約5至300巴的壓力下用一氧化碳和氫氣處理而加氫甲?；?，以提供下式的化合物：

所述步驟c任選進一步包括：

a.任選在均相和/或非均相催化劑存在下用氧化劑處理以提供下式的化合物：

或

b.任選在均相和/或非均相催化劑存在下氫化以提供下式的化合物：

2.權利要求1的方法，以步驟(a)為代表。

3.權利要求2的方法，其進一步包括在氫化催化劑存在下與氫氣接觸以提供下式的化合物

4.權利要求3的方法，其進一步包括還原胺化以提供下式的化合物

5.權利要求2的方法，其進一步包括下列步驟之一：

(i)形成銨鹽，接著施加熱；

(ii)形成?；u，接著用氨處理；或

(iii)形成酸酐，接著用氨處理；

以提供下式的化合物

6.權利要求5的方法，其進一步包括任選在催化劑存在下氫化，以提供下式的化合物

7.權利要求1的方法，以步驟(b)為代表。

8.權利要求7的方法，其進一步包括在鈷或釕催化劑的至少一種存在下在大約90至250℃的溫度和大約5至300巴的壓力下用一氧化碳和氫氣處理；以提供下式的化合物：

9.權利要求1的方法，以步驟(c)為代表。

10.權利要求9的方法，其進一步包括在強酸存在下與一氧化碳反應以提供下式的化合物：