[發明專利]用于填充介質的填充水平的電容性測量的設備和方法

有效

• 申請號: 201880068166.3
• 申請日: 2018-10-08
• 公開（公告）號: CN111247400B
• 公開（公告）日: 2022-04-08
• 發明（設計）人: H·舒爾特海斯;G·考德爾
• 申請（專利權）人: 貝迪亞發動機技術集團公司
• 主分類號: G01F23/263
• 分類號: G01F23/263
• 代理公司: 深圳市百瑞專利商標事務所(普通合伙) 44240
• 代理人: 金輝

1.一種用于在能夠填充有填充介質的填充體積（3）中的填充介質（2）的填充水平的電容性測量的設備（1），包括：

-第一測量元件（5），

-布置的第二測量元件（6），其中，第二測量元件（6）創建為使得在第二測量元件（6）的第一部分（6a）和第二測量元件（6）的第二部分（6b）之間形成電勢梯度,并且第二測量元件(6)的導電率低于第一測量元件(5)的導電率；

-電壓產生裝置（7），所述電壓產生裝置（7）與第二測量元件（6）相關聯并且設計為產生第一電壓（U1）和第二電壓（U2），并將第一電壓（U1）和第二電壓（U2）施加到第二測量元件（6）；

-控制裝置（8），所述控制裝置（8）與電壓產生裝置（7）相關聯并且設計為控制電壓產生裝置（7）的運作，使得將第一和第二電壓（U1、U2）在第一時間間隔內以交替的方式施加到第二測量元件（6）的第一和第二部分（6a、6b），其中，將第一電壓（U1）施加到第二測量元件（6）的第一部分（6a），將第二電壓（U2）施加到第二測量元件（6）的第二部分（6b），以測量第一測量元件（5）和第二測量元件（6）之間的第一電荷，并且在所述第一時間間隔之后的第二時間間隔內，將第一電壓（U1）施加到第二測量元件（6）的第二部分（6b），而將第二電壓（U2）施加到第二測量元件（6）的第一部分（6a），以測量第一測量元件（5）和第二測量元件（6）之間的第二電荷；

-測量設備（9），其設計用于在將第一和第二電壓（U1、U2）交替施加到第二測量元件（6）的第一和第二部分（6a、6b）期間測量第一和第二測量元件（5、6）之間的電荷。

2.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，評估設備（10）與測量設備（9）相關聯，并且設計用于基于填充體積（3）中的填充介質（2）的填充水平，在將第一和第二電壓（U1、U2）交替施加到第二測量元件（6）的第一和第二部分（6a、6b）期間評估所測量的電荷。

3.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，第一測量元件（5）和第二測量元件（6）并排布置，其中，第一測量元件（5）和第二測量元件（6）形成電容器裝配件。

4.根據權利要求3所述的設備，其特征在于，第一測量元件（5）設計為板狀的或管狀的，并且第二測量元件（6）設計為板狀的或桿狀的。

5.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，第二測量元件（6）包括至少一個測量電阻器。

6.根據權利要求5所述的設備，其特征在于，測量電阻器設計為電阻元件，所述電阻元件布置或形成為沿著第二測量元件（6）的縱軸連續地延伸。

7.根據權利要求5所述的設備，其特征在于，測量電阻器設計為電阻元件，所述電阻元件布置或形成為在第二測量元件（6）的基底元件（18）上連續地延伸。

8.根據權利要求5所述的設備，其特征在于，測量電阻器由沿著第二測量元件（6）的縱軸布置或形成的多個分立的電阻元件形成在所述第二測量元件的基底元件（18）上。

9.根據權利要求1-8中任一項所述的設備，其特征在于，第二測量元件（6）至少部分地包括由絕緣材料制成的絕緣涂層（17），所述絕緣涂層（17）形成第二測量元件（6）的電絕緣。

10.根據權利要求1-8中任一項所述的設備，其特征在于，第二測量元件（6）全部地包括由絕緣材料制成的絕緣涂層（17），所述絕緣涂層（17）形成第二測量元件（6）的電絕緣。

11.根據權利要求1-8中任一項所述的設備，其特征在于，第二測量元件（6）的第一部分（6a）形成在第二測量元件（6）的第一自由端的區域中或由第二測量元件（6）的第一自由端形成，第二測量元件（6）的第二部分（6b）形成在第二測量元件（6）的第二自由端的區域中或由第二測量元件（6）的第二自由端形成。