[發(fā)明專利]顯示裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201880060980.0 | 申請日: | 2018-09-18 |
| 公開(公告)號: | CN111108431A | 公開(公告)日: | 2020-05-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 西蒙·瓊斯;威廉·里維斯 | 申請(專利權(quán))人: | 弗萊克英納寶有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1335 | 分類號: | G02F1/1335;G02F1/1333;H04N5/225;G06F1/16;G02F1/133 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 范芳茗 |
| 地址: | 英國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示裝置 | ||
1.一種顯示裝置,包括:
第一封裝層;
第二封裝層,設(shè)置在所述第一封裝層上方并與所述第一封裝層間隔開;
顯示介質(zhì),設(shè)置在所述第一封裝層與所述第二封裝層之間;
至少一個光學(xué)器件,位于所述第一封裝層和所述顯示介質(zhì)下方;
其中至少所述第一封裝層覆蓋所述至少一個光學(xué)器件。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中所述顯示介質(zhì)和所述第二封裝層各自覆蓋所述至少一個光學(xué)器件。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的顯示裝置,還包括設(shè)置在所述第一封裝層下方的至少一個透明窗口區(qū)域,并且其中所述至少一個光學(xué)器件位于所述至少一個透明窗口區(qū)域中。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示裝置,還包括在所述第一封裝層下方的第一偏振器。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯示裝置,其中所述至少一個透明窗口區(qū)域是在所述第一偏振器內(nèi)的腔。
6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的顯示裝置,還包括在所述第一偏振器下方的背光區(qū)域。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯示裝置,其中所述第一偏振器的所述至少一個透明窗口區(qū)域在所述背光區(qū)域內(nèi)延伸。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯示裝置,其中所述至少一個光學(xué)器件至少部分地位于所述第一偏振器內(nèi)并至少部分地位于所述背光區(qū)域內(nèi)。
9.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的顯示裝置,包括在所述第二封裝層上方的第二偏振器。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的顯示裝置,包括在所述第二偏振器內(nèi)的另一透明窗口區(qū)域。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的顯示裝置,其中所述第二偏振器中的所述另一透明窗口區(qū)域的位置與所述第一偏振器中的所述透明窗口的位置基本對齊。
12.根據(jù)權(quán)利要求10或11所述的顯示裝置,其中所述第二偏振器中的所述另一透明窗口區(qū)域包括透明材料。
13.根據(jù)權(quán)利要求10至12中任一項所述的顯示裝置,還包括:
在所述第二偏振器上的觸摸感應(yīng)層;以及
在所述觸摸感應(yīng)層上的覆蓋窗。
14.根據(jù)權(quán)利要求3至13中任一項所述的顯示裝置,還包括多條導(dǎo)線,所述導(dǎo)線中的至少一些導(dǎo)線被布線在所述至少一個透明窗口區(qū)域周圍。
15.根據(jù)權(quán)利要求3至13中任一項所述的顯示裝置,還包括多條導(dǎo)線,所述導(dǎo)線中的至少一些導(dǎo)線被布線穿過所述至少一個透明窗口區(qū)域。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的顯示裝置,其中所述導(dǎo)線中的被布線穿過所述透明窗口區(qū)域的所述至少一些導(dǎo)線包括透明材料。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的顯示裝置,其中所述透明材料包括氧化銦錫ITO。
18.根據(jù)權(quán)利要求16或17所述的顯示裝置,其中所述透明材料的折射率與所述第一封裝層的折射率相似。
19.根據(jù)權(quán)利要求16、17或18所述的顯示裝置,其中所述透明材料與所述第一封裝層的折射率匹配,使得所述透明窗口區(qū)域內(nèi)的所述導(dǎo)線不妨礙所述至少一個光學(xué)器件的操作。
20.根據(jù)權(quán)利要求15至19中任一項所述的顯示裝置,還包括在所述導(dǎo)線中的所述至少一些導(dǎo)線與所述第一封裝層之間的非導(dǎo)電材料的連續(xù)層,所述連續(xù)層與所述導(dǎo)線相比具有相似的折射率。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





