[發明專利]框架一體型掩模有效
| 申請號: | 201880057136.2 | 申請日: | 2018-09-11 |
| 公開(公告)號: | CN111357129B | 公開(公告)日: | 2023-05-02 |
| 發明(設計)人: | 張澤龍;李裕進 | 申請(專利權)人: | 悟勞茂材料公司 |
| 主分類號: | H10K71/16 | 分類號: | H10K71/16;C23C14/04;C25D1/10 |
| 代理公司: | 北京鴻元知識產權代理有限公司 11327 | 代理人: | 姜虎;陳英俊 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 框架 體型 | ||
1.一種框架一體型掩模,其由多個掩模與用于支撐掩模的框架一體形成,其中,框架包括:
邊緣框架部;
至少一個第一柵格框架部,其朝向第一方向延伸形成,且兩端與邊緣框架部連接;以及
至少一個第二柵格框架部,其朝向與第一方向垂直的第二方向延伸形成,并與第一柵格框架部交叉,而且兩端與邊緣框架部連接,
各掩模與框架的上部一體地連接,
邊緣框架部、第一柵格框架部、第二柵格框架部以及多個掩模的材料為因瓦,
邊緣框架部、第一柵格框架部以及第二柵格框架部形成為一體,邊緣框架部的厚度大于第一柵格框架部及第二柵格框架部的厚度,
第一柵格框架部及第二柵格框架部的垂直于長度方向的截面形狀為三角形、梯形或者邊、角中至少一個為弧形的三角形、梯形。
2.如權利要求1所述的框架一體型掩模,其中,框架沿著第一方向、與第一方向垂直的第二方向中的至少一方向具有多個掩模單元區域。
3.如權利要求2所述的框架一體型掩模,其中,掩模單元區域為,除邊緣框架部、第一柵格框架部及第二柵格框架部所占區域以外的中空狀的區域。
4.如權利要求2所述的框架一體型掩模,其中,各掩模單元區域連接有各掩模。
5.如權利要求4所述的框架一體型掩模,其中,各掩模包括一個掩模單元。
6.如權利要求4所述的框架一體型掩模,其中,各掩模包括多個掩模單元。
7.如權利要求2所述的框架一體型掩模,其中,框架沿著第一方向和第二方向具有n×m個掩模單元區域,其中n、m為整數,
在框架的各掩模單元區域上連接有各掩模,多個掩模的掩模單元的數量總和大于n×m個。
8.如權利要求7所述的框架一體型掩模,其中,多個掩模的掩模單元的數量總和為n×m個的k倍,其中k為整數。
9.如權利要求1所述的框架一體型掩模,其中,框架沿著與第一方向垂直的方向具有多個掩模單元區域,
各掩模包括多個掩模單元,而且框架的各掩模單元區域上連接有各掩模。
10.如權利要求1所述的框架一體型掩模,其中,掩模包括形成有多個掩模圖案的掩模圖案部以及掩模圖案部周邊的虛設部,
虛設部的至少一部分與框架連接。
11.如權利要求1所述的框架一體型掩模,其中,邊緣框架部與第一柵格框架部之間的間隔等于第一柵格框架部與其相鄰的第一柵格框架部之間的間隔。
12.如權利要求1所述的框架一體型掩模,其中,邊緣框架部為四邊形。
13.如權利要求1所述的框架一體型掩模,其中,連接在一掩模單元區域的掩模與連接在所述掩模單元區域相鄰的掩模單元區域的掩模之間的PPA(像素位置精度)不超過3μm。
14.一種框架,其連接有多個掩模,其中,框架包括:
邊緣框架部;
至少一個第一柵格框架部,其朝第一方向延伸形成,而且兩端與邊緣框架部連接;以及
至少一個第二柵格框架部,其朝向與第一方向垂直的第二方向延伸形成,并與第一柵格框架部交叉,而且兩端與邊緣框架部連接,
其中,邊緣框架部、第一柵格框架部以及第二柵格框架部形成為一體,邊緣框架部的厚度大于第一柵格框架部及第二柵格框架部的厚度,
第一柵格框架部及第二柵格框架部的垂直于長度方向的截面形狀為三角形、梯形或者邊、角中至少一個為弧形的三角形、梯形。
15.如權利要求14所述的框架,其中,沿著第一方向、與第一方向垂直的第二方向中的至少一方向具有多個掩模單元區域。
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