[發(fā)明專利]層疊膜

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201880054096.6
• 申請日: 2018-08-21
• 公開（公告）號: CN111032338B
• 公開（公告）日: 2022-06-17
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 牧寺雅巳;有村孝;山下恭弘;花岡秀典
• 申請（專利權(quán)）人: 住友化學(xué)株式會社
• 主分類號: B32B9/00
• 分類號: B32B9/00;C23C16/42;H01L51/50;H05B33/02;H05B33/04;H05B33/14
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 朱丹

本發(fā)明提供一種層疊膜，其具有基材、和層疊于該基材的至少一個面的薄膜層，該薄膜層含有硅原子、氧原子及碳原子，在表示該薄膜層的膜厚方向上的自薄膜層的表面起的距離、與位于該距離的點的薄膜層中所含的碳原子數(shù)相對于所含的硅原子、氧原子及碳原子的合計數(shù)而言的比率(碳原子比率)的關(guān)系的碳分布曲線中，具有至少3個極值，極大值的最大值與極大值的最小值的差為14at％以下，并且具有至少1個滿足式(1)～(3)的關(guān)系的不連續(xù)區(qū)域：3at％≤a－b(1)3at％≤b－c(2)0.5＜(a－c)/dx(3)。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及圖像顯示裝置等中所用的層疊膜。

背景技術(shù)

氣體阻隔性膜可以合適地用作適于飲料食品、化妝品、洗滌劑等物品的填充包裝的包裝用容器。近年來，提出過一種層疊膜，其以塑料膜等作為基材，在基材的一個表面層疊以氧化硅、氮化硅、氧氮化硅、氧化鋁等物質(zhì)作為形成材料的薄膜而成，并具有氣體阻隔性，對其要求在有機電致發(fā)光(EL)元件、液晶(LCD)元件等電子器件中展開應(yīng)用，進行了大量的研究。作為在塑料基材的表面上形成此種無機物的薄膜的方法，已知有真空蒸鍍法、濺射法、離子鍍法等物理氣相生長法(PVD)、減壓化學(xué)氣相生長法、等離子體化學(xué)氣相生長法等化學(xué)氣相生長法(CVD)。例如，專利文獻1中，公開過具備含有硅原子、氧原子及碳原子的薄膜層(氣體阻隔層)、且碳分布曲線實質(zhì)上連續(xù)地變化的彎曲性高的層疊膜。

現(xiàn)有技術(shù)文獻

專利文獻

專利文獻1：國際公開第2013/146964號

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明所要解決的問題

然而，以往的層疊膜存在薄膜層表面的潤濕性不夠充分的情況，形成于薄膜層表面上的功能層等的膜厚變得不均勻，在將層疊膜應(yīng)用于顯示元件等時，有時產(chǎn)生元件的特性降低等不佳狀況。

因而，本發(fā)明的目的在于，提供一種薄膜層表面的潤濕性優(yōu)異的層疊膜。

用于解決問題的方法

本發(fā)明人為了解決上述問題進行了深入研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，在具有薄膜層的層疊膜中，若在薄膜層設(shè)置給定的不連續(xù)區(qū)域，則薄膜層表面的潤濕性得到改善，從而完成了本發(fā)明。即，本發(fā)明中包含以下的內(nèi)容。

[1]一種層疊膜，其具有基材、和層疊于該基材的至少一個面的薄膜層，該薄膜層含有硅原子、氧原子及碳原子，在表示該薄膜層的膜厚方向上的自薄膜層的表面起的距離、與位于該距離的點的薄膜層中所含的碳原子數(shù)相對于所含的硅原子、氧原子及碳原子的合計數(shù)而言的比率(碳原子比率)的關(guān)系的碳分布曲線中，具有至少3個極值，極大值的最大值與極大值的最小值的差為14at％以下，并且具有至少1個滿足式(1)～(3)的關(guān)系的不連續(xù)區(qū)域：

3at％≤a－b (1)

3at％≤b－c (2)

0.5＜(a－c)/dx (3)

[式(1)～式(3)中，在碳分布曲線中，在將該薄膜層的膜厚方向上的從基材側(cè)起的相互相鄰的極值依次設(shè)為極大值A(chǔ)、極小值C、極大值B時，a表示極大值A(chǔ)的碳原子比率(at％)，b表示極大值B的碳原子比率(at％)，c表示極小值C的碳原子比率(at％)，dx表示極大值A(chǔ)與極小值C的距離(nm)]。

[2]根據(jù)[1]中記載的層疊膜，其中，所述碳分布曲線中的最小值大于1at％且為5at％以下。

[3]根據(jù)[1]或[2]中記載的層疊膜，其中，在所述碳分布曲線中，極小值的最大值與極小值的最小值的差為14～19at％。