[發(fā)明專(zhuān)利]基板有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201880048877.4 | 申請(qǐng)日： | 2018-07-27 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN110959134B | 公開(kāi)（公告）日： | 2023-01-03 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 裴南錫;李承憲;章盛皓;吳東炫;樸鎮(zhèn)宇;黃智泳;柳正善;徐漢珉;宋哲沃 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | 株式會(huì)社LG化學(xué) |
| 主分類(lèi)號(hào)： | G02F1/1339 | 分類(lèi)號(hào)： | G02F1/1339 |
| 代理公司： | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人： | 趙丹;尚光遠(yuǎn) |
| 地址： | 韓國(guó)*** | 國(guó)省代碼： | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 基板 | ||
1.一種基板，包括：
基礎(chǔ)層；
形成在所述基礎(chǔ)層上的透明柱狀間隔物；
存在于所述透明柱狀間隔物與所述基礎(chǔ)層之間的黑層，和
在所述黑層與所述基礎(chǔ)層之間的電極層，其中所述電極層接觸所述黑層和所述基礎(chǔ)層，并且
其中所述基礎(chǔ)層為柔性基礎(chǔ)層，
其中所述黑層為包括第一層和第二層的多層結(jié)構(gòu)，
其中所述第一層為金屬層并且所述第二層為金屬氧化物層、金屬氮化物層和金屬氧氮化物層中的一者，并且
其中所述金屬層、所述金屬氧化物層、所述金屬氮化物層和所述金屬氧氮化物層中的金屬中的每一者具有0.55或更大的物理延性值。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板，其中所述透明柱狀間隔物的底部的面積T與所述黑層的面積B的比率T/B在0.5至1.5的范圍內(nèi)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板，其中所述黑層的面積等于或小于所述透明柱狀間隔物的底部的面積。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板，其中所述黑層和所述透明柱狀間隔物彼此交疊。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板，其中所述金屬層、所述金屬氧化物層、所述金屬氮化物層和所述金屬氧氮化物層中的金屬中的每一者具有0.6或更大的物理延性值。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板，其中所述黑層為在所述第一層的兩側(cè)上包括所述第二層的多層結(jié)構(gòu)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板，其中所述黑層的厚度在30nm至5000nm的范圍內(nèi)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或6所述的基板，其中所述第一層和所述第二層各自的厚度在30nm至200nm的范圍內(nèi)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板，其中所述透明柱狀間隔物為在頂部具有半球形部分的半球形間隔物。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板，其中所述金屬層、所述金屬氧化物層、所述金屬氮化物層和所述金屬氧氮化物層中的金屬中的每一者為金、鉛、鈮、鈀、鉑、銀、釩、錫、鋁或銅。
11.一種光學(xué)裝置，包括根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板和第二基板，所述第二基板與所述基板相對(duì)設(shè)置并且通過(guò)所述基板中的間隔物保持與所述基板的間隙。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的光學(xué)裝置，其中在所述基板與所述第二基板之間的所述間隙中存在液晶材料。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào)，上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的；用于上述操作的技術(shù)或工藝；變頻；非線性光學(xué)；光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如，轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制；非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制，即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
