[發(fā)明專(zhuān)利]用于以介電阻擋方式進(jìn)行等離子體處理的電極裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201880035307.1 | 申請(qǐng)日: | 2018-07-23 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN110692284B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-07-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 迪爾克·萬(wàn)德克;米爾科·哈恩;里昂哈德·圖爾蒂格;卡爾-奧托·施托克;梅拉妮·里克 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 奇諾格有限責(zé)任公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H05H1/24 | 分類(lèi)號(hào): | H05H1/24;A61N1/44;A61L2/14 |
| 代理公司: | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 丁永凡;張春水 |
| 地址: | 德國(guó)杜*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 阻擋 方式 進(jìn)行 等離子體 處理 電極 裝置 | ||
本發(fā)明涉及一種用于對(duì)物體的表面以介電阻擋方式進(jìn)行等離子體處理的電極裝置,所述電極裝置具有至少一個(gè)柔性的、面狀的電極(1)和由面狀的、柔性的第一材料構(gòu)成的電介質(zhì)(2),所述電介質(zhì)借助于阻礙直接的電流流動(dòng)的層(3)保護(hù)電極(1)免受待處理的表面影響。所述電介質(zhì)(2)能夠經(jīng)由具有突出部(7)的結(jié)構(gòu)(4)放置在所述待處理的表面上,其中在所述突出部(7)之間構(gòu)成用來(lái)構(gòu)成等離子體的空氣腔(5),所述空氣腔具有朝向待處理的表面敞開(kāi)的側(cè)和通過(guò)電介質(zhì)(2)的阻礙直接的電流流動(dòng)的層(3)形成的底部側(cè)的封閉部。所述結(jié)構(gòu)(4)具有大量由第二材料構(gòu)成的間隔元件(6),所述第二材料的柔性小于第一材料的柔性,并且結(jié)構(gòu)(4)的突出部(7)部分地或者完全地通過(guò)間隔元件(6)形成。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種用于對(duì)物體的表面以介電阻擋方式進(jìn)行等離子體處理的電極裝置,其具有至少一個(gè)柔性的面狀的電極和由面狀的柔性的第一材料構(gòu)成的電介質(zhì),所述電介質(zhì)借助于阻礙直接的電流流動(dòng)的層保護(hù)電極免受待處理的表面影響,其中電介質(zhì)能夠經(jīng)由具有突出部的結(jié)構(gòu)放置在待處理的表面上并且在此在突出部之間構(gòu)成用來(lái)構(gòu)成等離子體的空氣腔,所述空氣腔具有朝向待處理的表面敞開(kāi)的側(cè)和通過(guò)電介質(zhì)的阻礙直接的電流流動(dòng)的層形成的底部側(cè)的封閉部。
背景技術(shù)
電極裝置的至少一個(gè)電極可與對(duì)于產(chǎn)生等離子體而言必要的高壓連接,所述高壓優(yōu)選用作為交變電壓。
電極裝置尤其能夠有利地設(shè)計(jì)用于,使用物體的待處理的表面作為對(duì)應(yīng)電極。為此,物體必須是導(dǎo)電體,例如人體或者動(dòng)物身體或者其他導(dǎo)電體,其中所述人體或者動(dòng)物身體的皮膚表面應(yīng)當(dāng)被處理。
出于該目的,例如可行的是,僅使用唯一的電極來(lái)生成等離子體并且使用表面或物體作為對(duì)應(yīng)電極(接地)。由此,有利地實(shí)現(xiàn)在物體內(nèi)部的大的處理深度。
此外例如可行的是,在電極裝置中設(shè)置至少兩個(gè)電極,所述電極加載有同樣的高壓電勢(shì),使得設(shè)置有電極裝置的待處理的表面用作為用于形成等離子體的對(duì)應(yīng)電極。替選地,例如可行的是,這兩個(gè)電極反相地供給有交變高壓,其中待處理的表面還作用為對(duì)應(yīng)電極。
替選地,然而例如也可行的是,至少兩個(gè)電極用作為電極和對(duì)應(yīng)電極,使得等離子體在電極之間產(chǎn)生并且作為身體中的表面等離子體能夠變得有效。但是由此在正常的能量輸入的情況下在物體區(qū)域中僅能夠?qū)崿F(xiàn)小的處理深度。
在本申請(qǐng)的范疇中將“空氣腔”理解為空腔,所述空腔通常填充有空氣,但是對(duì)于特定的應(yīng)用情況而言也能夠填充有適當(dāng)?shù)臍怏w,以便構(gòu)成特殊的等離子體。
對(duì)于一開(kāi)始提到類(lèi)型的電極裝置而言重要的是,電介質(zhì)形成連貫的層,借助于所述層保護(hù)電極免受待處理的表面影響。該層阻礙在電極和待處理的表面之間的直接的或者電的電流流動(dòng)并且就本申請(qǐng)而言是阻礙直接的電流流動(dòng)的層。
一開(kāi)始提到類(lèi)型的電極裝置通過(guò)DE?10?2009?060?627?B4已知。其構(gòu)造實(shí)現(xiàn):電極裝置也能夠放置在不規(guī)則地拱起的表面上以執(zhí)行等離子體處理。為了能夠在待處理的表面和電介質(zhì)的阻礙直接的電流流動(dòng)的層之間構(gòu)成對(duì)于構(gòu)成等離子體必要的空氣腔,在此提出,電介質(zhì)在其指向待處理的表面的側(cè)上設(shè)有具有突出部的結(jié)構(gòu)。所述結(jié)構(gòu)在此例如由突起的結(jié)節(jié)構(gòu)成,所述結(jié)節(jié)構(gòu)成空氣可透過(guò)的間隙。
一開(kāi)始提到類(lèi)型的另一電極裝置從DE?10?2015?117?715?A1中已知。該電極裝置也構(gòu)成有如下結(jié)構(gòu),當(dāng)電極裝置放置在表面上時(shí)借助于該結(jié)構(gòu)能夠產(chǎn)生等離子體。所述結(jié)構(gòu)在此是由彼此鄰接的壁構(gòu)成的柵格結(jié)構(gòu),所述壁對(duì)大量的構(gòu)成空氣腔的室限界,所述室具有通過(guò)電介質(zhì)的阻礙直接的電流流動(dòng)的層形成的底部側(cè)的封閉部以及朝向待處理的表面敞開(kāi)的側(cè)。所述室在此例如能夠具有方形的、圓形的、橢圓的或者多邊形的橫截面。
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