[發(fā)明專利]面式敷貼組件在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201880035008.8 | 申請日: | 2018-04-23 |
| 公開(公告)號: | CN110662578A | 公開(公告)日: | 2020-01-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | D·萬德克;M·哈恩爾;K-O·施托克;M·里克;L·特魯特威格 | 申請(專利權(quán))人: | 奇諾格有限責(zé)任公司 |
| 主分類號: | A61N1/44 | 分類號: | A61N1/44;A61L2/14;H05H1/24 |
| 代理公司: | 72002 永新專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人: | 侯鳴慧 |
| 地址: | 德國杜*** | 國省代碼: | 德國;DE |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 敷貼組件 電極組件 電極區(qū)段 分離線 延伸 電介質(zhì) 等離子體 電介質(zhì)區(qū)段 高壓信號 結(jié)構(gòu)元件 匹配性 貼靠面 長形 減小 介電 埋入 屏蔽 貼靠 絕緣 遮蓋 受阻 阻擋 銜接 改進(jìn) | ||
一種面式敷貼組件,其構(gòu)造用于在所述敷貼組件的貼靠側(cè)(109)產(chǎn)生介電阻擋的等離子體,所述面式敷貼組件具有面式電極組件(112),所述面式電極組件埋入面式電介質(zhì)(102)中、能以高壓信號供給并且全面地相對不受阻電流被屏蔽,所述面式敷貼組件由此而具有改進(jìn)的穩(wěn)定性和與長形處理面的匹配性:所述敷貼組件以一寬度在縱向(L)上延伸并且在縱向(L)上具有多個相同地構(gòu)造的區(qū)段(101),所述區(qū)段分別具有在所述敷貼組件的寬度內(nèi)的電介質(zhì)區(qū)段和分別具有至少一個電極區(qū)段,所述區(qū)段(101)的電極區(qū)段在縱向(L)上相互銜接并且構(gòu)成在整個長度上延伸的電極組件(112),在橫向于所述縱向(L)延伸的設(shè)定分離線(103)上能夠使至少一個區(qū)段(101)與相鄰的區(qū)段(101)分離,用于在縱向(L)上減小貼靠面,并且在余下的區(qū)段(101)上,所述設(shè)定分離線(103)以絕緣的結(jié)構(gòu)元件(116)遮蓋。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種面式敷貼組件,其構(gòu)造用于在敷貼組件的貼靠側(cè)上產(chǎn)生介電阻擋的等離子體,所述面式敷貼組件具有至少一個面式電極組件,所述面式電極組件被埋入到面式電介質(zhì)中、能夠被供以高壓信號并且針對未被阻擋的電流被全面地屏蔽。
背景技術(shù)
由EP 2 723 447 B1已知一種這類的面式敷貼組件。電介質(zhì)具有中心區(qū)域,旋渦狀地形成多個螺旋的條帶從所述中心區(qū)域出發(fā)構(gòu)成敷貼組件的邊緣區(qū)域。為了使敷貼組件在電介質(zhì)的貼靠側(cè)上起作用的敷貼面與底板在尺寸方面匹配,旋渦狀地構(gòu)造的條帶能夠在合適的位置上借助于工具縮短,以便以所想要的方式減小貼靠面。以此方式,以所需要的尺寸的介電阻擋的等離子體場能夠借助于敷貼組件產(chǎn)生并且例如作用于人或者動物的身體的皮膚表面。在此,皮膚或者其它要處理的表面能夠作為對應(yīng)電極起作用(如果具有表面的身體是充分導(dǎo)電的)。以高壓供給電極,所述高壓足夠用于在敷貼組件和要處理的表面(尤其皮膚)之間的空氣氣隙內(nèi)產(chǎn)生等離子體。為了當(dāng)電極貼靠在要處理的表面上時實現(xiàn)限定的空氣氣隙,電介質(zhì)在其貼靠面上能夠設(shè)有呈粒結(jié)或者網(wǎng)格或者類似形式的結(jié)構(gòu),所述結(jié)構(gòu)的上側(cè)構(gòu)造用于貼靠在要處理的表面上并且在貼靠點、貼靠面或者貼靠線之間構(gòu)成足夠的空氣間隙,在所述空氣間隙中會發(fā)生介電阻擋的等離子體放電。
在將條帶切斷、例如用剪刀切斷之后,用絕緣的接觸元件搭接切割邊沿,所述絕緣的接觸元件引起與構(gòu)成電極的電導(dǎo)體(例如借助于切割接觸)的觸點接通。通過接觸元件將在外部產(chǎn)生的高壓信號傳輸?shù)诫姌O上。雖然敷貼組件的具有旋渦狀地構(gòu)成多于一個完整螺旋的條帶的構(gòu)造方式允許起作用的貼靠面與特殊的使用情況匹配,但是導(dǎo)致貼靠布置一定的不穩(wěn)定性。此外,如果例如有意處理不是基本上圓形地構(gòu)造而是長形地構(gòu)造的傷口,則貼靠面的匹配性受限。
發(fā)明內(nèi)容
因此,基于本發(fā)明的任務(wù)是:對已知類型的面式敷貼組件在其穩(wěn)定性和與非圓形的處理面的匹配性方面進(jìn)行改進(jìn)。
為了解決該任務(wù),開篇所提到的類型的面式敷貼組件的特征在于,敷貼組件以一寬度在縱向上延伸并且在縱向上具有多個相同地構(gòu)造的區(qū)段,所述區(qū)段分別具有在敷貼組件的寬度內(nèi)的電介質(zhì)區(qū)段并且分別具有至少一個電極區(qū)段,其中,所述區(qū)段的電極區(qū)段在縱向上相互銜接并且構(gòu)成在整個長度上延伸的電極組件,至少一個區(qū)段能夠在橫向于縱向延伸的設(shè)定分離線上與相鄰的區(qū)段分離,用于在縱向上減小貼靠面,并且在剩下的相鄰的區(qū)段上,所述設(shè)定分離線用絕緣的結(jié)構(gòu)元件遮蓋。
根據(jù)本發(fā)明提出一種面式敷貼組件的原則上更新的構(gòu)造,在所述構(gòu)造中,相同地構(gòu)造的區(qū)段具有電介質(zhì)的下述寬度:所述寬度與敷貼組件(除可能的膠粘劑附著物外)的寬度一致。通過一個區(qū)段或者多個區(qū)段的可能的分離能夠使敷貼組件的長度與相應(yīng)的使用情況相匹配。在此,寬度保持不變。由于沿著設(shè)定分離線分離區(qū)段,在剩下的區(qū)段(現(xiàn)在,所述剩下的區(qū)段為邊緣區(qū)段)中,所屬的電極區(qū)段伸入到設(shè)定分離線上的分離面中并且能直接觸點接通,例如由執(zhí)行等離子處理的人使其觸點接通。這通過下述方式避免:根據(jù)本發(fā)明的敷貼組件以絕緣的結(jié)構(gòu)元件遮蓋在剩下的區(qū)段中的設(shè)定分離線,所述絕緣的結(jié)構(gòu)元件因此也在電介質(zhì)的寬度上(也就是說,在敷貼組件的貼靠面的寬度上)延伸。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于奇諾格有限責(zé)任公司,未經(jīng)奇諾格有限責(zé)任公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201880035008.8/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





