[發(fā)明專利]用于將X射線光柵對準(zhǔn)到X射線輻射源的設(shè)備和方法以及X射線圖像采集系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201880024793.7 | 申請日: | 2018-12-10 |
| 公開(公告)號: | CN110621230B | 公開(公告)日: | 2021-08-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | C·科克;G·福格特米爾;T·克勒;J·W·M·雅各布斯;S·烏尼克里希南;D·赫爾梅斯;A·M·B·范莫爾 | 申請(專利權(quán))人: | 皇家飛利浦有限公司;荷蘭應(yīng)用科學(xué)研究會(TNO) |
| 主分類號: | A61B6/00 | 分類號: | A61B6/00 |
| 代理公司: | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002 | 代理人: | 孟杰雄 |
| 地址: | 荷蘭艾*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 射線 光柵 對準(zhǔn) 輻射源 設(shè)備 方法 以及 圖像 采集 系統(tǒng) | ||
本發(fā)明涉及一種用于將X射線光柵對準(zhǔn)到X射線輻射源的設(shè)備,所述設(shè)備(10)包括:至少兩個平面X射線光柵段(11?19);至少一個對準(zhǔn)單元(31?39),其用于對準(zhǔn)至少兩個平面X射線光柵段之一;其中,至少兩個平面X射線光柵段(11?19)并排布置并形成X射線光柵(20);其中,至少兩個平面X射線光柵段(11?19)均包括用于X射線輻射的光柵表面(41?49),每個光柵表面(41?49)包括幾何中心;其中,光柵表面(41?49)的中每個的法線(21?29)定義公共平面(73),其中,法線(21?29)與光柵表面(41?49)的幾何中心相交;其中,至少兩個平面X射線光柵段(11?19)中的至少第一平面X射線光柵段能繞垂直于公共平面(73)的軸(131?139)旋轉(zhuǎn);并且其中,至少兩個平面X射線光柵段(11?19)中能繞軸(131?139)旋轉(zhuǎn)的第一平面X射線光柵段連接到至少一個對準(zhǔn)單元(31?39)中的第一對準(zhǔn)單元。本發(fā)明提供了提供改進(jìn)的X射線光柵(20)的設(shè)備(10)和方法(100)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及用于將X射線光柵對準(zhǔn)到X射線輻射源的設(shè)備和方法,以及X射線圖像采集系統(tǒng)。
背景技術(shù)
暗場X射線圖像采集使用小角度散射來獲取從常規(guī)X射線成像不能獲得的信息。暗場X射線圖像采集系統(tǒng)使用三個光柵:G0、G1和G2。光柵G0和G1很小,并且通常被布置成靠近X射線輻射源。G0光柵布置在X射線輻射源處,并用于提供虛擬源的二維陣列。G1光柵可以調(diào)制X射線輻射的幅度或相位。G2光柵用于分析已經(jīng)穿過要成像的對象的X射線輻射的波陣面。G2光柵被布置成靠近X射線輻射探測器,并且優(yōu)選地覆蓋X射線輻射探測器的有效區(qū)域的整個尺寸。
光柵G0和G2包括利用對X射線輻射透明的條隔開的用于阻擋X射線輻射的材料條。X射線阻擋條必須具有有限的厚度以能夠阻擋X射線輻射。光柵在X射線輻射源上具有焦點,即,條沿著X射線圖像采集系統(tǒng)的光軸取向。然而,幾乎所有的生產(chǎn)方法都導(dǎo)致未聚焦的光柵結(jié)構(gòu),即,光柵條都彼此平行。
JP 2001 206161A描述了第一吸收型光柵,所述第一吸收型光柵包括沿著虛擬圓柱表面排列的多個小光柵,所述虛擬圓柱表面的中心軸是穿過X射線焦點和X射線輻射源的虛擬線。相位差分圖像生成計算器對每個光柵施加校正量,從而計算強(qiáng)度變化的相位偏差。
DE 101 36 795A1描述了一種光柵,其以平面方式制造,并且然后通過機(jī)械應(yīng)力達(dá)到彎曲的形狀。
發(fā)明內(nèi)容
因此,需要能提供一種提供改進(jìn)的X射線光柵的對準(zhǔn)的設(shè)備和方法。
本發(fā)明的目的通過獨立權(quán)利要求的主題解決。從屬權(quán)利要求中并入了其他實施例。應(yīng)當(dāng)注意,本發(fā)明的以下描述的方面也適用于X射線圖像采集系統(tǒng)、方法、計算機(jī)程序單元和計算機(jī)可讀介質(zhì)。
根據(jù)本發(fā)明,提供了一種用于將X射線光柵對準(zhǔn)到X射線輻射源的設(shè)備,所述設(shè)備包括:至少兩個平面X射線光柵段;以及用于對準(zhǔn)至少兩個平面X射線光柵段之一的至少一個對準(zhǔn)單元;其中,至少兩個平面X射線光柵段并排布置并形成X射線光柵;其中,至少兩個平面X射線光柵段中的每個包括用于X射線輻射的光柵表面,每個光柵表面包括幾何中心;其中,光柵表面中的每個的法線定義一個公共平面,其中,法線與光柵表面的幾何中心相交;其中,至少兩個平面X射線光柵段中的至少第一平面X射線光柵段能繞垂直于公共平面的軸旋轉(zhuǎn);其中,至少兩個平面X射線光柵段中的第一平面X射線光柵段連接到至少一個對準(zhǔn)單元中的第一對準(zhǔn)單元。
因此,至少兩個平面X射線光柵段中的至少一個可以由對應(yīng)的對準(zhǔn)單元個體地對準(zhǔn)。在這樣做時,將平面X射線光柵段連接到對準(zhǔn)單元。然而,在一些實施例中,能夠?qū)⒍嘤谝粋€平面X射線光柵段連接到對準(zhǔn)單元,以將多個平面X射線光柵段對準(zhǔn)到焦點或法線。由于X射線光柵的至少兩個平面X射線光柵段中的至少一個的個體對準(zhǔn),因此X射線光柵的至少一部分包括聚焦到X射線焦點的光柵結(jié)構(gòu)。在優(yōu)選的示范性實施例中,每個平面X射線段可以由對準(zhǔn)單元對準(zhǔn)。在該實施例中,每個平面X射線光柵段連接到對準(zhǔn)單元,即,每個平面X射線光柵段以一對一的方式連接到其自己的單獨的個體單元。
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