[發(fā)明專利]防反射膜

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201880020698.X
• 申請(qǐng)日: 2018-03-14
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN110462450B
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-11-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 和田賢三;吉田啟史
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 郡是株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G02B1/111
• 分類號(hào): G02B1/111;B32B9/00
• 代理公司: 北京信慧永光知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11290
• 代理人: 洪俊梅;張淑珍

提供在提高生產(chǎn)率的同時(shí)顯示良好的光學(xué)特性和耐擦傷性的防反射膜。一種防反射膜，其特征在于，所述防反射膜是在透明基材膜的至少一個(gè)面上以第1中折射率層、高折射率層、低折射率層、第2中折射率層的順序?qū)盈B4層的光學(xué)調(diào)整層的防反射膜；所述第1中折射率層是含有無(wú)機(jī)材料的層，所述高折射率層是含有無(wú)機(jī)材料的層，所述低折射率層是含有粘合劑樹(shù)脂和無(wú)機(jī)微粒的固化層，所述第2中折射率層是以選自氧化硅、氟化鎂、氟化鋰中的一種或多種材料為主要成分的層；在所述第2中折射率層的表面形成有以具有硅烷偶聯(lián)基的氟類潤(rùn)滑劑為主要成分的潤(rùn)滑劑層。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及防反射膜。

背景技術(shù)

防反射膜應(yīng)用于陰極管顯示裝置(CRT)、等離子顯示板(PDP)、液晶顯示裝置(LCD)、投影顯示器、電致發(fā)光顯示器(ELD)等各種顯示裝置；觸摸面板；光學(xué)透鏡；眼鏡鏡片；光刻工藝中的防反射處理和太陽(yáng)能電池板表面的防反射處理等各個(gè)領(lǐng)域。

作為這樣的防反射膜，以往使用在透明基材膜上層疊無(wú)機(jī)化合物的透明薄膜而成的多層防反射膜。例如，在專利文獻(xiàn)1中公開(kāi)了通過(guò)干式法形成無(wú)機(jī)化合物的透明薄膜并進(jìn)行層疊的方法。作為干式法，可以列舉真空蒸鍍、濺射法、CVD法等。

此外，替代干式法，提出了通過(guò)濕式法形成防反射膜的方法。在專利文獻(xiàn)2中公開(kāi)了一種通過(guò)濕式法在透明基材膜上通過(guò)涂布形成低折射率層、高折射率層、中折射率層各層的形成材料成分的光學(xué)功能層，并形成防反射膜的方法。通過(guò)重復(fù)涂布單體的工序和使單體聚合而形成聚合物的工序，依次形成各光學(xué)功能層。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開(kāi)昭61-245449號(hào)公報(bào)

專利文獻(xiàn)2：日本特開(kāi)平2-245702號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題

但是，專利文獻(xiàn)1公開(kāi)的通過(guò)干式法而來(lái)的無(wú)機(jī)化合物的多層蒸鍍膜作為防反射膜雖具有優(yōu)異的光學(xué)特性，但由于具有基材尺寸限制和處理時(shí)間，因此存在生產(chǎn)率低、不適合大量生產(chǎn)這樣的問(wèn)題。此外，專利文獻(xiàn)2公開(kāi)的通過(guò)濕式法形成防反射膜的方法雖具有制造容易且生產(chǎn)率高的特征，但與用干式法制造的防反射膜相比，存在光學(xué)特性、耐擦傷性低這樣的問(wèn)題。

本發(fā)明是鑒于上述課題而完成，其目的在于提供在提高生產(chǎn)率的同時(shí)顯示良好的光學(xué)特性和耐擦傷性的防反射膜。

解決技術(shù)問(wèn)題的技術(shù)手段

本發(fā)明的上述目的通過(guò)防反射膜而達(dá)成，所述防反射膜的特征在于，所述防反射膜是在透明基材膜的至少一個(gè)面上以第1中折射率層、高折射率層、低折射率層、第2中折射率層的順序?qū)盈B4層的光學(xué)調(diào)整層的防反射膜；所述第1中折射率層是含有無(wú)機(jī)材料的層，所述高折射率層是含有無(wú)機(jī)材料的層，所述低折射率層是含有粘合劑樹(shù)脂和無(wú)機(jī)微粒的固化層，所述第2中折射率層是以選自氧化硅、氟化鎂、氟化鋰中的一種或多種材料為主要成分的層；在所述第2中折射率層的表面形成有以具有硅烷偶聯(lián)基的氟類潤(rùn)滑劑為主要成分的潤(rùn)滑劑層(滑剤層)；所述第1中折射率層的膜厚為85nm～150nm，所述高折射率層的膜厚為20nm～55nm，所述低折射率層的膜厚為50nm～100nm，所述第2中折射率層的膜厚為10nm～50nm；所述第1中折射率層的折射率為1.55～1.60，所述第2中折射率層的折射率為1.41～1.50。

此外，在該防反射膜中，所述高折射率層的折射率優(yōu)選為1.65～1.75。

此外，所述低折射率層的折射率優(yōu)選為1.30～1.40。

此外，所述含有無(wú)機(jī)材料的層優(yōu)選為含有粘合劑樹(shù)脂和無(wú)機(jī)微粒的固化層。

此外，優(yōu)選膜厚按照所述第2中折射率層、所述高折射率層、所述低折射率層、所述第1中折射率層的順序增大。