[發明專利]用于均勻化氣體的混合的設備在審
| 申請號: | 201880019412.6 | 申請日: | 2018-02-09 |
| 公開(公告)號: | CN110462384A | 公開(公告)日: | 2019-11-15 |
| 發明(設計)人: | T.D.杜布;J.戈特沙爾德;E.沃巴赫;M.溫特 | 申請(專利權)人: | 艾默生過程管理兩合公司 |
| 主分類號: | G01N21/76 | 分類號: | G01N21/76;G01N1/38;G01N33/00 |
| 代理公司: | 11105 北京市柳沈律師事務所 | 代理人: | 許睿嶠<國際申請>=PCT/EP2018 |
| 地址: | 德國*** | 國省代碼: | 德國;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 內導管 外導管 流體 底端 均勻化 導通 化學發光檢測器 穿過 機械工程領域 均勻化設備 第二流體 光子損失 技術進步 混合物 凹進部 凹進的 反應區 短路 探測器 淬滅 內壁 外壁 出口 行進 引入 流動 | ||
1.一種用于均勻化兩種流體的設備(100),包括:
a)外導管(102);
b)內導管(104),其穿過所述外導管(102);
c)第一通道(104),其穿過所述內導管(102)限定,用于導通所述兩種流體中的一種;
d)所述外導管(102)的內壁(102’)與所述內導管(104)的外壁(104’)間隔開,以限定第二通道(102A),用于導通所述兩種流體中的第二流體;
e)所述外導管(102)限定底端(102B);
f)所述內導管(104)限定相對于所述底端(102B)凹進的第一出口(104B);以及
g)反應區(106),其限定在所述第一出口(104B)和所述底端(102B)之間的凹進部中,用于從所述第一通道(104A)和所述第二通道(102A)引入所述兩種流體以均勻化。
2.如權利要求1所述的設備(100),其中,所述外導管(102)和所述內導管(104)是同軸的。
3.如權利要求1所述的設備(100),其中,所述第一通道(104A)和所述第二通道(102A)是同軸的。
4.如權利要求1所述的設備(100),包括排出端口(108),用于在均勻化之后從所述反應區(106)排出所述流體。
5.如權利要求1所述的設備(100),其中,所述內導管(104)和所述外導管(102)是不銹鋼,且所述外導管(102)的內壁(102’)和所述內導管(104)的外壁(104’)被拋光。
6.如權利要求1所述的設備(100),其中,所述外導管(102)具有兩個入口(110),該兩個入口配置在所述外導管(102)上的徑向相對的位置處。
7.如權利要求6所述的設備(100),其中,等量的第二流體經由所述兩個入口(110)饋送給所述反應區(106)。
8.如權利要求1所述的設備(100),其中,所述底端(102B)定位在光子檢測器(200)附近,所述光子檢測器用于檢測由通過第一通道(104A)的含有一氧化氮的樣品流體和通過第二通道(102A)的臭氧的反應在所述反應區(106)中產生的光子,所述兩種流體在所述反應區(106)中反應。
9.一種均勻化兩種流體的過程,其通過將所述兩種流體引入通過相對于外導管(102)凹進內導管(104)的出口(104B)而形成的反應區(106)中,所述兩種流體中的一種被引導通過所述內導管進入所述反應區(106)中,外導管(102)穿過所述內導管(104),所述兩種流體中的第二流體通過所述內導管(104)的外壁(104’)和所述外導管(102)的內壁(102’)之間的環形空間被饋送到所述反應區(106)中。
10.如權利要求9所述的過程,其中,所述流體中的每一種可以是單一流體或流體混合物。
11.如權利要求9所述的過程,其中,所述流體中的每一種在引入所述第一通道和第二通道之前被預加壓。
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