[發(fā)明專利]一種用于薄膜沉積系統(tǒng)的沉積單元

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201880018055.1
• 申請(qǐng)日: 2018-02-28
• 公開（公告）號(hào): CN110382737B
• 公開（公告）日: 2021-09-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: T.M.斯帕思;L.W.塔特
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 伊斯曼柯達(dá)公司
• 主分類號(hào): C23C16/455
• 分類號(hào): C23C16/455;C23C16/54
• 代理公司: 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 安寧;李建新

1.一種用于薄膜沉積系統(tǒng)的沉積單元，包括:

機(jī)器基部；

一個(gè)或多個(gè)沉積頭，各沉積頭包括:

輸出面，所述輸出面具有多個(gè)氣體開口；

安裝面，所述安裝面與所述輸出面相對(duì)并且與所述輸出面平行，所述安裝面包括多個(gè)沉積頭氣體端口；以及

氣體通道，所述氣體通道將在所述輸出面上的所述氣體開口中的各個(gè)連接到所述沉積頭氣體端口中的一個(gè)；以及

氣體歧管，所述氣體歧管剛性地附接到所述機(jī)器基部，所述氣體歧管包括：

附接面，所述附接面具有一個(gè)或多個(gè)界面區(qū)域，各界面區(qū)域構(gòu)造為與沉積頭的所述安裝面交界，并且包括在與所述沉積頭氣體端口相對(duì)應(yīng)的位置中的多個(gè)歧管氣體端口；

多個(gè)氣體連接；以及

氣體通道，所述氣體通道將所述歧管氣體端口中的各個(gè)連接到所述氣體連接中的一個(gè)；

其中，所述沉積頭中的各個(gè)在界面區(qū)域中以定位在所述歧管氣體端口與所述沉積頭氣體端口之間的密封元件來(lái)剛性地緊固到所述氣體歧管；

其中，各沉積頭的所述安裝面及所述氣體歧管的所述附接面包括對(duì)準(zhǔn)特征，所述對(duì)準(zhǔn)特征用于使各沉積頭與所述氣體歧管的所述界面區(qū)域?qū)?zhǔn)；

其中，所述氣體開口為在所述沉積頭的所述輸出面上在跨軌道方向上延伸的氣體縫，并且其中，運(yùn)動(dòng)控制器使基體在與所述跨軌道方向正交的沿軌道方向上移動(dòng)；并且

其中，與所述沉積頭中的兩個(gè)相對(duì)應(yīng)的所述界面區(qū)域在所述跨軌道方向上與彼此相鄰，使得相鄰的沉積頭具有鄰接端部，其中，相鄰的沉積頭的所述鄰接端部包括互鎖結(jié)構(gòu)，所述互鎖結(jié)構(gòu)具有一系列交替的突起部和凹部，使得在相鄰的沉積頭中的一個(gè)上的所述鄰接端部上的所述突起部適配到在相鄰的沉積頭中的另一個(gè)上的所述鄰接端部上的所述凹部中。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的沉積單元，其中，與所述沉積頭相關(guān)聯(lián)的所述密封元件通過(guò)承載器元件來(lái)互相連接。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的沉積單元，其中，所述承載器元件包括與所述沉積頭或所述氣體歧管的所述對(duì)準(zhǔn)特征接合的特征。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的沉積單元，其中，所述承載器元件在所述沉積頭的所述安裝面之上延伸。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的沉積單元，其中，所述沉積頭的所述安裝面或所述氣體歧管的所述附接面包括對(duì)應(yīng)的穴，所述承載器元件適配在所述對(duì)應(yīng)的穴內(nèi)。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的沉積單元，其中，密封元件集成地形成到所述承載器元件中。

7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的沉積單元，其中，密封元件插入到在所述承載器元件中的孔中。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的沉積單元，其中，所述密封元件以彈性材料或可延展的可塑性變形的材料來(lái)制成。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的沉積單元，其中，所述沉積頭氣體端口或所述歧管氣體端口被沉孔特征包圍，并且其中，所述密封元件適配在所述沉孔特征內(nèi)。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的沉積單元，其中，所述沉孔特征包括與所述密封元件接合的環(huán)形凸起特征。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的沉積單元，其中，所述沉積單元包括多個(gè)沉積頭，并且其中，緊固的沉積頭定位成使得所述沉積頭的所述輸出面全部大致共面。

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的沉積單元，其中，各所述沉積頭的所述安裝面中的至少部分接觸所述氣體歧管的所述附接面的對(duì)應(yīng)部分。

13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的沉積單元，其中，在各沉積頭的所述輸出面中的所述氣體開口包括多個(gè)氣體輸出開口，對(duì)應(yīng)的氣態(tài)材料通過(guò)所述多個(gè)氣體輸出開口從所述沉積頭流出。