[發明專利]液體處理系統有效
| 申請號: | 201880012455.1 | 申請日: | 2018-02-16 |
| 公開(公告)號: | CN110461773B | 公開(公告)日: | 2022-11-22 |
| 發明(設計)人: | J.貝格維斯特;D.斯坎茲 | 申請(專利權)人: | 華輪水務創新有限公司 |
| 主分類號: | C02F1/32 | 分類號: | C02F1/32;A61L2/10;B08B1/00;B08B9/00 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 姜云霞;譚祐祥 |
| 地址: | 瑞典斯*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 液體 處理 系統 | ||
一種液體處理系統(2;2’;102;202)包括:?布置在沿中心縱向軸線A設置的細長的保護性UV透明套筒(8;8’)內的至少一個紫外(UV)光處理燈(6),所述套筒(8;8’)具有外表面(10;10’)和基本圓形的截面形狀;和?細長反應器(12;12’;12”),其被配置接納所述套筒(8;8’),由此用于接納待處理的液體的細長的液體處理腔室(4;4’)設置在反應器(12;12’;12”)的內表面(14;14’)與套筒(8;8’)的外表面(10;10’)之間;其中所述液體處理系統(2)還包括:?至少一個細長清潔裝置(16;16’),該清潔裝置與套筒(8;8’)并排設置在液體處理腔室(4;4’)內并沿著細長套筒(8;8’)的長度的至少一部分設置,其中所述至少一個清潔裝置由反應器(12;12’;12”)朝向套筒(8;8’)的外表面(10;10’)壓縮,并且其中套筒和反應器中的至少一者被配置成圍繞縱向軸線A旋轉,使得至少一個清潔裝置(16;16’)將基本上在套筒(8;8’)的整個圓周上觸及并清潔套筒(8;8’)的外表面(10;10’)。
技術領域
本發明涉及一種液體處理系統,其包括至少一個紫外(UV)光處理燈。
背景技術
紫外光源用于處理液體有許多應用。瑞典Wallenius Water AB已經開發并在銷售液體處理設備,該設備包括帶有入口和出口的細長管狀處理腔室。在處理腔室中,布置至少一個大致管狀的保護性UV透明套筒(例如由熔融石英制成),并且在套筒內布置紫外光源,例如能夠產生在紫外區域中的波長的燈。
申請人開發的另一種類型的處理反應器還包括具有相對布置的入口和出口的處理腔室,其中紫外光源布置在細長套筒例如熔融石英套筒中。這些套筒垂直于待通過處理腔室處理的液體流布置。
上述處理單元在處理各種液體例如水方面運行良好,其中所描述的后一種處理單元特別適用于船舶壓載水的處理。除了被處理單元殺死的生物體,被處理的液體通常包括顆粒和其它固體物質。這些顆粒以及其它來自被殺死的生物體的殘余物傾向于粘附在處理單元的內表面上。聚集在表面上的這些顆粒和其它殘余物通常被稱為污垢。
紫外光處理,更具體地說是紫外光與熱的組合,有時會引發化學反應,導致內表面上的沉積。這些造成的沉積通常被稱為結垢。
結垢通常比污垢更難從表面移除。
這意味著為了使處理裝置具有最佳效率,必須定期清潔內部。根據現有技術中的一種解決方案,清潔是通過將清潔液體噴射到處理腔室來進行的,其中,清潔液體被開發用于移除表面上的污垢或結垢。然而,即使它們對于移除處理腔室表面上的污垢/結垢等沉積物是有效的,它們也需要在一段時間期間關閉處理單元,從而因此可不進行液體處理。
根據其它建議,已經設計了各種形式的擦拭器機構來從表面移除污垢/結垢。所有這些形式的擦拭器機構都起到從套筒的外表面上“擦拭掉”該層的作用。為了容納擦拭器機構,這種擦拭器機構通常需要在容納UV燈的套筒的外表面與容納套筒的周圍管道之間有大的環形空間。這種處理系統依賴于液體的透射率,以便允許UV光子通過套筒與殼體之間的環形區域到達液體中的污染物。
現在將在下面簡要討論技術領域中的一些專利和專利申請。
EP1371611涉及一種流體處理儀器。提供了一種包括多個清潔頭的清潔組件。清潔頭各自包括多個二氧化鈦部分,這些二氧化鈦部分偏壓在相應的UV燈的表面上。
US5227140涉及一種模塊化自清潔氧化腔室,該氧化腔室包括往復式刮削器,該往復式刮削器包括環形擦拭器,該環形擦拭器同時清潔圍繞的管狀模塊的內表面以及封閉石英管的外表面。擦拭器由液體驅動,并具有環形盤的形式,并由含氟彈性體組成。
EP1714944涉及一種類似于EP1371611的儀器的流體消毒儀器。清潔材料可以是織物或金屬,例如被二氧化鈦覆蓋的金屬網,并且可以被偏壓成與紫外光源接觸。
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