[發明專利]涂布組合物、防反射膜及其制造方法、層疊體以及太陽能電池模塊有效
| 申請號: | 201880008438.0 | 申請日: | 2018-02-01 |
| 公開(公告)號: | CN110225949B | 公開(公告)日: | 2021-06-04 |
| 發明(設計)人: | 藤卷綾菜;椿英明;北川浩隆;五十部悠 | 申請(專利權)人: | 富士膠片株式會社 |
| 主分類號: | C09D183/04 | 分類號: | C09D183/04;C03C17/25;C08G77/24;C09D5/33;C09D7/61;C09D7/63;G02B1/111;G02B1/113;H01L31/0216 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 組合 反射 及其 制造 方法 層疊 以及 太陽能電池 模塊 | ||
本發明提供一種涂布組合物及其應用,所述涂布組合物包含:聚合物粒子,數均一次粒徑為30nm~200nm;硅氧烷樹脂,重均分子量為600~6000,且包含選自單元(1)、(2)及(3)中的至少1種單元,且單元(1)、(2)及(3)的總計質量相對于硅氧烷樹脂的總質量為95質量%以上;以及溶劑。R1各自表示碳原子數1~8的烷基或碳原子數1~8的氟化烷基,R2各自表示氫原子或碳原子數1~8的烷基,當包含單元(1)及(2)這兩者時,由R1或R2表示的碳原子數1~8的烷基可以相同也可以不同。單元(1):R1?Si(OR2)2O1/2單元;單元(2):R1?Si(OR2)O2/2單元;單元(3):R1?Si?O3/2單元。
技術領域
本公開涉及一種涂布組合物、防反射膜及其制造方法、層疊體以及太陽能電池模塊。
背景技術
近年來,用于以各種涂布方法涂布、形成數μm~數10nm程度的薄層的涂布組合物廣泛使用于光學薄膜、印刷、光刻用途。例如,水性涂布液使用以水為主成分的溶劑,因此所形成的膜的表面能低,透明性優異。另一方面,將有機溶劑作為主成分的涂布液也具有涂布液的粘性低且涂布液的表面張力低等優點,無論哪種涂布液均可使用于各種用途。
作為這些涂布液的具體用途,例如可舉出防反射膜、光學透鏡、光學薄膜、各種顯示器的薄層晶體管(TFT)用平坦化膜、結露防止膜、防污膜、表面保護膜等。其中,防反射膜例如能夠適用于太陽能電池模塊、監控攝像機、照明機器、標識等保護膜,因此是有用的。
例如在太陽能電池模塊中,配置于太陽光入射的一側的最表層的玻璃(所謂的擋風玻璃)的反射特性對發電效率有較大影響,因此從提高發電效率的觀點出發,提出有各種玻璃用的防反射涂布液。
作為能夠應用于太陽能電池模塊的防反射膜的技術,例如提出有各種關于二氧化硅類多孔質膜的技術。
在日本特開2016-001199號公報中,記載有一種在以二氧化硅為主成分的基質中具有多個空孔的二氧化硅類多孔質膜,所述二氧化硅類多孔質膜的折射率為1.10~1.38的范圍內,作為上述空孔,包含直徑20nm以上的空孔,在最表面開口的直徑20nm以上的空孔的數量為13個/106nm2以下,所述二氧化硅類多孔質膜即使直接形成于玻璃板上時,也能夠經長期而維持多孔質結構,且具有優異的防反射性及耐久性。
并且,作為能夠形成二氧化硅類多孔質膜的技術,例如在日本專利第4512250號公報中,作為在電子組件產業中有用的低介電常數的多孔性電介質物質及其制造方法,公開有將能夠去除的聚合物致孔劑分散于與致孔劑實質性相溶的硅氧烷等電介質物質中,使電介質物質硬化,使其并非實質性地分解致孔劑而是形成電介質基質物質,對于電介質基質物質,無需實質性地分解,而是至少局部性地去除致孔劑來形成多孔性電介質物質的內容等。
發明內容
發明要解決的技術課題
在此,例如適用于太陽能電池模塊的擋風玻璃的防反射膜由于配置于模塊的最表面,因此不僅要求防反射性,還要求耐劃傷性的提高。而且,在太陽能電池模塊的裝配工序中,乙烯-乙酸乙烯基共聚物(以下簡單稱作“EVA”。)等樹脂用作密封材料,還要求即使在擋風玻璃最表面的防反射膜上附著密封材料而被污染時,也能夠容易地去除(例如剝離、擦拭等)的防污性。并且,防反射膜從能夠獲得高防反射性的觀點來看,要求形成膜厚的偏差小的薄膜,但對太陽能電池模塊用的擋風玻璃的表面以賦予防眩性為目的而賦予梨皮模樣的凹凸結構,難以沿其表面凹凸形成膜厚偏差小的防反射膜。
然而,還無法提供可獲得防反射性、耐劃傷性及防污性均優異的膜的涂布組合物、或防反射性、耐劃傷性及防污性均優異的防反射膜。
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- 專利分類
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C09D183-16 .其中所有的硅原子與氧以外的原子連接





