[發明專利]抗蝕劑組合物以及抗蝕劑圖案形成方法

在審

• 申請號: 201880006892.2
• 申請日: 2018-01-12
• 公開（公告）號: CN110192151A
• 公開（公告）日: 2019-08-30
• 發明（設計）人: 生川智啟;藤崎真史;長峰高志;高木大地
• 申請（專利權）人: 東京應化工業株式會社
• 主分類號: G03F7/004
• 分類號: G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039
• 代理公司: 上海立群專利代理事務所(普通合伙) 31291
• 代理人: 毛立群

1.一種抗蝕劑組合物，通過曝光產生酸、并且對顯影液的溶解性因酸的作用而變化，其特征在于，

含有對顯影液的溶解性因酸的作用而變化的基材成分(A)與通過曝光產生酸的產酸劑成分(B)，

所述產酸劑成分(B)包含以下述通式(b1)表示的化合物與以下述通式(b2)表示的化合物，

【化1】

通式(b1)中，Rb¹¹是具有取代基的芳基，Rb¹²以及Rb¹³分別獨立地為可具有取代基的碳數1～10的烷基、乙酰基、碳數1～10的烷氧基、羧基或羥基，nb12是0～2的整數，nb13是0～4的整數，X^-是反荷陰離子，

【化2】

通式(b2)中，R²⁰¹～R²⁰³分別獨立地表示可具有取代基的芳基，Z^-是反荷陰離子。

2.如權利要求1所述的抗蝕劑組合物，其特征在于，所述通式(b1)中的X^-所表示的反荷陰離子，是以下述通式(b-1)～(b-3)的任一通式表示的陰離子，

【化3】

通式(b-1)～(b-3)中，R¹⁰¹、R¹⁰⁴～R¹⁰⁸分別獨立地為可具有取代基的環式基、可具有取代基的鏈狀烷基或可具有取代基的鏈狀烯基，R¹⁰⁴、R¹⁰⁵可以相互鍵合而形成環，R¹⁰⁶～R¹⁰⁸的任意兩個可以相互鍵合而形成環，R¹⁰²是氟原子或碳數為1～5的氟代烷基，Y¹⁰¹是含有單鍵或氧原子的2價連接基團，V¹⁰¹～V¹⁰³分別獨立地為單鍵、亞烷基或氟代亞烷基，L¹⁰¹～L¹⁰²分別獨立地為單鍵或氧原子，L¹⁰³～L¹⁰⁵分別獨立地為單鍵、-CO-或-SO₂-。

3.如權利要求1或2所述的抗蝕劑組合物，其特征在于，所述通式(b2)中的Z^-所表示的反荷陰離子，是以下述通式(b-1)～(b-3)的任一通式表示的陰離子，

【化4】

通式(b-1)～(b-3)中，R¹⁰¹、R¹⁰⁴～R¹⁰⁸分別獨立地為可具有取代基的環式基、可具有取代基的鏈狀烷基或可具有取代基的鏈狀烯基，R¹⁰⁴、R¹⁰⁵可以相互鍵合而形成環，R¹⁰⁶～R¹⁰⁸的任意兩個可以相互鍵合而形成環，R¹⁰²是氟原子或碳數為1～5的氟代烷基，Y¹⁰¹是含有單鍵或氧原子的2價連接基團，V¹⁰¹～V¹⁰³分別獨立地為單鍵、亞烷基或氟代亞烷基，L¹⁰¹～L¹⁰²分別獨立地為單鍵或氧原子，L¹⁰³～L¹⁰⁵分別獨立地為單鍵、-CO-或-SO₂-。

4.一種抗蝕劑圖案形成方法，其包括：

在支承體上使用如權利要求1～3的任一項所述的抗蝕劑組合物而形成抗蝕劑膜的工序；

將所述抗蝕劑膜曝光的工序；

以及將所述曝光后的抗蝕劑膜顯影而形成抗蝕劑圖案的工序。