[發(fā)明專利]用于測(cè)量涂層的厚度的設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201880003195.1 | 申請(qǐng)日: | 2018-08-14 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN109791046B | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-05-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 克里斯蒂安·捷普;麥克·里克特;約翰·赫因肯 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 微-埃普西龍測(cè)量技術(shù)有限兩合公司 |
| 主分類號(hào): | G01B15/02 | 分類號(hào): | G01B15/02 |
| 代理公司: | 深圳永慧知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44378 | 代理人: | 宋鷹武 |
| 地址: | 德國(guó)奧*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 測(cè)量 涂層 厚度 設(shè)備 | ||
1.一種用于確定導(dǎo)電基板(18)上的介電層(16)的厚度的測(cè)量設(shè)備,包括:
用于電磁場(chǎng)的諧振腔(2),所述諧振腔具有旋轉(zhuǎn)對(duì)稱壁(4)以及與敞開(kāi)端(8)相反的端板(6),其中,所述諧振腔(2)適于被定位成使所述敞開(kāi)端(8)位于在所述基板(18)上的所述介電層(16)上,使得所述基板創(chuàng)建所述諧振腔的壁;
天線(10),所述天線適于在所述諧振腔中激發(fā)電磁場(chǎng);
反射測(cè)量單元(12),所述反射測(cè)量單元連接至所述天線(10)并且被配置成確定所述諧振腔(2)中的所述電磁場(chǎng)的至少一種特性;以及
評(píng)估電路(14),所述評(píng)估電路連接至所述反射測(cè)量單元(12)并且被配置成根據(jù)所述電磁場(chǎng)的所確定的至少一種特性來(lái)確定所述介電層(16)的厚度;
其中,所述旋轉(zhuǎn)對(duì)稱壁(4)的直徑在所述諧振腔(2)的縱向方向上從所述敞開(kāi)端(8)到所述端板(6)進(jìn)行變化;
其中,在所述敞開(kāi)端(8)處的開(kāi)口(20)的直徑小于給定操作頻率下的用于柱形中空波導(dǎo)的頻率相關(guān)截止直徑(dc)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測(cè)量設(shè)備,其中,所述天線(10)布置在所述諧振腔(2)內(nèi)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的測(cè)量設(shè)備,其中,所述天線(10)具有適于激發(fā)對(duì)應(yīng)于TE0np模式的場(chǎng)形態(tài)的形狀,其中,n和p是自然數(shù)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的測(cè)量設(shè)備,其中,所述模式為TE01p模式。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的測(cè)量設(shè)備,其中,所述模式為TE011模式。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測(cè)量設(shè)備,其中,所述天線(10)與所述反射測(cè)量單元(12)的連接件包括抑制或者支持特定頻率的傳播的濾波器。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的測(cè)量設(shè)備,其中,所述濾波器包括具有共軸設(shè)計(jì)和/或利用微帶技術(shù)進(jìn)行配置的匹配網(wǎng)絡(luò)(26)。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的測(cè)量設(shè)備,其中,所述濾波器包括具有內(nèi)導(dǎo)體(28)的匹配網(wǎng)絡(luò)(26),所述內(nèi)導(dǎo)體包括具有不同直徑的部分。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測(cè)量設(shè)備,其中,所述天線(10)嵌入在陶瓷基板中。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的測(cè)量設(shè)備,其中,整個(gè)諧振腔(2)填充有所述陶瓷基板,并且,所述旋轉(zhuǎn)對(duì)稱壁(4)和所述端板(6)被施加至所述陶瓷基板外側(cè)作為金屬層。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測(cè)量設(shè)備,其中,所述旋轉(zhuǎn)對(duì)稱壁(4)的直徑的變化被調(diào)適為使得所述電磁場(chǎng)具有的場(chǎng)形態(tài)對(duì)應(yīng)于TE0np模式,其中,n和p是自然數(shù)。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的測(cè)量設(shè)備,其中,所述旋轉(zhuǎn)對(duì)稱壁(4)的直徑的變化被調(diào)適為使得所述電磁場(chǎng)具有的場(chǎng)形態(tài)對(duì)應(yīng)于TE01p模式。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的測(cè)量設(shè)備,其中,所述旋轉(zhuǎn)對(duì)稱壁(4)的直徑的變化被調(diào)適為使得所述電磁場(chǎng)具有的場(chǎng)形態(tài)對(duì)應(yīng)于TE011模式。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測(cè)量設(shè)備,其中,所述諧振腔(2)采用的形狀是截錐、雙截錐、與截錐結(jié)合的柱體、或者它們的組合。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測(cè)量設(shè)備,其中,所述旋轉(zhuǎn)對(duì)稱壁(4)的形狀通過(guò)使高階曲線旋轉(zhuǎn)進(jìn)行描述。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的測(cè)量設(shè)備,其中,所述旋轉(zhuǎn)對(duì)稱壁(4)的形狀通過(guò)旋轉(zhuǎn)雙曲面的一部分或旋轉(zhuǎn)橢球面的一部分進(jìn)行描述。
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