[實用新型]毫米波/太赫茲波成像設備

有效

• 申請號: 201822275833.5
• 申請日: 2018-12-29
• 公開（公告）號: CN209296945U
• 公開（公告）日: 2019-08-23
• 發明（設計）人: 陳志強;趙自然;游燕;馬旭明;武劍
• 申請（專利權）人: 清華大學;同方威視技術股份有限公司
• 主分類號: G01V8/10
• 分類號: G01V8/10
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 張啟程

1.一種毫米波/太赫茲波成像設備，其特征在于，包括殼體、數據處理裝置以及位于所述殼體內的校準源、準光學組件和毫米波/太赫茲波探測器陣列，

所述殼體上設置有供被檢對象自發輻射或反射回來的毫米波/太赫茲波穿過的窗口；

所述準光學組件適用于將來自所述被檢對象的毫米波/太赫茲波反射并匯聚至所述毫米波/太赫茲波探測器陣列，并包括適用于接收并反射來自所述被檢對象的毫米波/太赫茲波的反射板，所述反射板與所述殼體可轉動地連接以對來自所述被檢對象位于視場不同位置的部分的波束進行反射；

所述校準源位于所述準光學組件的物面上；

所述毫米波/太赫茲波探測器陣列適用于接收來自所述準光學組件的毫米波/太赫茲波以及來自所述校準源的毫米波/太赫茲波；以及

所述數據處理裝置與所述毫米波/太赫茲波探測器陣列連接以接收來自所述毫米波/太赫茲波探測器陣列的對于所述被檢對象的圖像數據以及對于所述校準源的校準數據，并基于所述校準數據更新所述被檢對象的毫米波/太赫茲波圖像數據。

2.根據權利要求1所述的毫米波/太赫茲波成像設備，其特征在于，所述校準源發射的毫米波/太赫茲波經所述反射板反射到所述毫米波/太赫茲波探測器陣列。

3.根據權利要求1所述的毫米波/太赫茲波成像設備，其特征在于，所述校準源的長度方向平行于所述反射板的轉動軸線，所述校準源的長度大于等于所述毫米波/太赫茲波探測器陣列的在平行于所述轉動軸線方向上的視場大小。

4.根據權利要求1所述的毫米波/太赫茲波成像設備，其特征在于，所述反射板的轉動軸線水平設置，以使得所述反射板對來自所述被檢對象位于視場不同豎直位置的部分的毫米波/太赫茲波進行反射。

5.根據權利要求1所述的毫米波/太赫茲波成像設備，其特征在于，所述反射板的轉動軸線豎直設置，以使得所述反射板對來自所述被檢對象位于視場不同水平位置的部分的毫米波/太赫茲波進行反射。

6.根據權利要求1所述的毫米波/太赫茲波成像設備，其特征在于，所述反射板的背面設置有轉軸，所述轉軸的兩端與所述殼體可轉動地連接。

7.根據權利要求6所述的毫米波/太赫茲波成像設備，其特征在于，還包括適用于驅動所述轉軸轉動的驅動裝置。

8.根據權利要求1-7中任一項所述的毫米波/太赫茲波成像設備，其特征在于，還包括實時檢測所述反射板的角位移的角位移測量機構。

9.根據權利要求1-7中任一項所述的毫米波/太赫茲波成像設備，其特征在于，所述校準源為吸波材料、黑體或半導體致冷器。