[實用新型]一種應用于化學氣相沉積設備的導螺桿有效
| 申請號: | 201822241690.6 | 申請日: | 2018-12-29 |
| 公開(公告)號: | CN210030884U | 公開(公告)日: | 2020-02-07 |
| 發明(設計)人: | 郭猛猛;張欣;黃彪 | 申請(專利權)人: | 上海華力集成電路制造有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/458 | 分類號: | C23C16/458 |
| 代理公司: | 31211 上海浦一知識產權代理有限公司 | 代理人: | 郭四華 |
| 地址: | 201203 上海市浦*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 固定件 聯軸器 連接孔 指針 導螺桿 螺絲 制動螺絲 承載臺 固定軸 針臺 化學氣相沉積設備 集成電路生產設備 本實用新型 生產效率 向下移動 成品率 晶圓 穿過 支撐 應用 | ||
本實用新型提供一種應用于化學氣相沉積設備的導螺桿,涉及集成電路生產設備,包括:導螺桿本體、固定件、聯軸器、至少一制動螺絲和調節螺絲,所述固定件固定連接在所述導螺桿本體上,所述固定件包括至少一連接孔,所述聯軸器包括至少一連接孔,所述至少一制動螺絲穿過所述聯軸器上的至少一連接孔和所述固定件上的至少一連接孔,使所述聯軸器與所述固定件連接,所述調節螺絲位于所述固定件與所述聯軸器之間,調節所述調節螺絲使所述聯軸器相對于所述固定件向上或向下移動,所述聯軸器連接指針承載臺固定軸,所述指針承載臺固定軸與指針承針臺固定連接,所述指針承針臺用于支撐多根指針,以提高晶圓的成品率、生產效率,降低成本。
技術領域
本實用新型涉及一種集成電路生產設備,尤其涉及一種應用于化學氣相沉積設備的導螺桿。
背景技術
在集成電路生產過程中,化學氣相沉積成膜是其中必不可少的步驟,因此化學氣相沉積成膜設備成為集成電路生產過程中的重要設備。化學氣相沉積成膜工藝是在化學氣相沉積成膜設備的腔體內的高溫環境下,通過對特定的工藝氣體在等離子體增強條件下在硅片表面進行化學氣相沉積形成薄膜,它的特點是成膜速度快,薄膜均勻度好。化學氣相沉積成膜設備的結構復雜,每一個零部件的可靠性均會影響晶圓的成品率。
因此,高可靠性的化學氣相沉積成膜設備非常重要。
實用新型內容
本實用新型的目的在于提供一種應用于化學氣相沉積設備的導螺桿,以提高晶圓的成品率、生產效率,降低成本。
本實用新型提供的應用于化學氣相沉積設備的導螺桿,包括:導螺桿本體、固定件、聯軸器、至少一制動螺絲和調節螺絲,所述固定件固定連接在所述導螺桿本體上,所述固定件包括至少一連接孔,所述聯軸器包括至少一連接孔,所述至少一制動螺絲穿過所述聯軸器上的至少一連接孔和所述固定件上的至少一連接孔,使所述聯軸器與所述固定件連接,所述調節螺絲位于所述固定件與所述聯軸器之間,調節所述調節螺絲使所述聯軸器相對于所述固定件向上或向下移動,所述聯軸器連接指針承載臺固定軸,所述指針承載臺固定軸與指針承針臺固定連接,所述指針承針臺用于支撐多根指針。
更進一步的,所述指針承載臺固定軸上包括固定螺絲和裝配螺栓,所述固定螺絲和所述裝配螺栓與所述指針承針臺固定連接。
更進一步的,所述固定件包括固定件本體和與固定件本體垂直的固定件平臺,所述固定件本體上包括至少一固定孔,在所述導螺桿本體上與所述固定件本體上的至少一固定孔對應的位置也包括至少一固定孔,一固定裝置穿過所述固定件本體上的至少一固定孔和所述導螺桿本體上的至少一固定孔,將所述固定件本體固定連接在所述導螺桿本體上。
更進一步的,所述聯軸器為平臺狀,所述固定件上的至少一連接孔位于所述固定件平臺上,所述至少一制動螺絲依次穿過所述固定件平臺上的至少一連接孔和所述聯軸器上的至少一連接孔,使所述聯軸器與所述固定件可移動的安裝連接,且使所述固定件平臺與所述聯軸器平行設置。
更進一步的,所述連接孔為螺孔,所述制動螺絲為彈簧螺絲。
更進一步的,所述固定孔為螺孔,所述固定裝置為彈簧螺栓。
更進一步的,所述導螺桿還包括波紋管,所述波紋管位于所述聯軸器與所述指針承載臺固定軸之間。
更進一步的,所述調節螺絲為扳手旋轉調節螺絲。
更進一步的,所述調節螺絲固定于所述聯軸器上。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于上海華力集成電路制造有限公司,未經上海華力集成電路制造有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201822241690.6/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





