[實用新型]一種免拆換晶振片的清潔裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201822225233.8 | 申請日: | 2018-12-28 |
| 公開(公告)號: | CN209227054U | 公開(公告)日: | 2019-08-09 |
| 發(fā)明(設計)人: | 劉志文;鄒成 | 申請(專利權(quán))人: | 湖畔光電科技(江蘇)有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/54 | 分類號: | C23C14/54;B08B7/00 |
| 代理公司: | 北京律遠專利代理事務所(普通合伙) 11574 | 代理人: | 全成哲 |
| 地址: | 213200 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 激光發(fā)生器 晶振片 清潔裝置 通孔 排料管道 柱形透鏡 本實用新型 抽氣泵 定位盤 蒸鍍腔 免拆 吸收激光能量 相對應位置 室內(nèi) 空間連通 一端連接 有機材料 鍍金層 蒸發(fā) 激光 背離 穿過 清潔 脫離 | ||
本實用新型公開了一種免拆換晶振片的清潔裝置,該清潔裝置設置于蒸鍍腔室內(nèi),包括激光發(fā)生器、柱形透鏡和排料管道,所述激光發(fā)生器設置于所述蒸鍍腔室內(nèi)的定位盤背離所述晶振片一側(cè),與所述激光發(fā)生器相對應位置的所述定位盤上設置有通孔,所述激光發(fā)生器與所述通孔之間設置有所述柱形透鏡,所述排料管道一端與所述激光發(fā)生器與所述通孔之間的空間連通,另一端連接抽氣泵。本實用新型的清潔裝置通過激光發(fā)生器產(chǎn)生激光經(jīng)柱形透鏡形成條狀光,穿過通孔作用在晶振片上,有機材料吸收激光能量后,蒸發(fā)脫離晶振片鍍金層,然后被抽氣泵從排料管道中抽走,達到了有效清潔晶振片的目的。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及一種免拆換晶振片的清潔裝置。
背景技術(shù)
在真空腔室內(nèi),當開始鍍膜時,部分有機材料會沉積到晶振片鍍金層,晶振片以此來檢測鍍膜速率。隨著晶振片鍍金層有機材料的增加,其振動頻率發(fā)生變化,晶振片性能下降,需要更換晶振片。目前情況,日常生產(chǎn)中,晶振片使用壽命短,晶振片更換繁瑣費時,且晶振片價格昂貴導致成本增大。
實用新型內(nèi)容
為了解決上述技術(shù)問題,本實用新型的目的是提供一種免拆換晶振片的清潔裝置,在不降低晶振片性能的情況下清潔晶振片表面有機材料,延長晶振片使用壽命,節(jié)省了時間、人力、成本。
為解決上述技術(shù)問題,本實用新型采用如下技術(shù)方案:
一種免拆換晶振片的清潔裝置,該清潔裝置設置于蒸鍍腔室內(nèi),包括激光發(fā)生器、柱形透鏡和排料管道,所述激光發(fā)生器設置于所述蒸鍍腔室內(nèi)的定位盤背離所述晶振片一側(cè),與所述激光發(fā)生器相對應位置的所述定位盤上設置有通孔,所述激光發(fā)生器與所述通孔之間設置有所述柱形透鏡,所述排料管道一端與所述激光發(fā)生器與所述通孔之間的空間連通,另一端連接抽氣泵。
進一步的,所述激光發(fā)生器為波長248nm的KrF準分子激光發(fā)生器、波長308nm的XeCl準分子激光發(fā)生器、波長193nm的ArF準分子激光發(fā)生器、Nd:YAG固體激光發(fā)生器、CO2激光發(fā)生器或半導體激光發(fā)生器。
進一步的,所述通孔的設置位置與所述定位盤上原自帶孔的位置對稱。
進一步的,所述排料管道為耐高溫且內(nèi)壁不輕易粘附有機材料的管道。
進一步的,所述排料管道包括不銹鋼管,所述不銹鋼管內(nèi)壁鍍有聚四氟乙烯。
進一步的,所述抽氣泵為真空泵或干泵。
進一步的,所述排料管道連接于所述柱形透鏡與所述通孔之間。
進一步的,所述排料管道靠近所述通孔設置以便于吸收有機材料。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實用新型的有益技術(shù)效果:
激光發(fā)生器產(chǎn)生激光通過柱形透鏡形成條狀光,穿過通孔作用在晶振片上,有機材料吸收激光能量后,蒸發(fā)脫離晶振片鍍金層,然后被抽氣泵從排料管道中抽走,達到了有效清潔晶振片的目的。
附圖說明
下面結(jié)合附圖說明對本實用新型作進一步說明。
圖1為本實用新型免拆換晶振片的清潔裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為晶振片在晶振片轉(zhuǎn)盤的分布示意圖;
附圖標記說明:1-激光發(fā)生器;2-柱形透鏡;3-排料管道;4-排料管道;5-定位盤;6-晶振片;7-晶振片轉(zhuǎn)盤。
具體實施方式
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





