[實(shí)用新型]一種用于真空鍍膜機(jī)的放料架有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201822224496.7 | 申請日: | 2018-12-28 |
| 公開(公告)號: | CN209493627U | 公開(公告)日: | 2019-10-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 蔣貴霞;賈建國 | 申請(專利權(quán))人: | 昆山英利悅電子有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/50 | 分類號: | C23C14/50;C23C14/24 |
| 代理公司: | 南京縱橫知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32224 | 代理人: | 董建林 |
| 地址: | 215300 江蘇省蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 底蓋 支撐桿 上蓋 底座 放料板 本實(shí)用新型 真空鍍膜機(jī) 放料架 彈片 滑槽 滑塊 垂直 真空鍍膜工序 固定相連 滑動相連 活動安裝 生產(chǎn)效率 自由狀態(tài) 螺釘 波浪型 頂表面 線接觸 底端 鍍膜 拉環(huán) 覆蓋 | ||
本實(shí)用新型公開了一種用于真空鍍膜機(jī)的放料架,包括底座、支撐桿和若干個放料板,所述底座的頂表面上設(shè)有滑槽;所述支撐桿垂直于所述底座設(shè)置,其底端設(shè)有滑塊,并通過所述滑塊與底座上的滑槽滑動相連,頂端處于自由狀態(tài),其外表面上設(shè)有拉環(huán);所述放料板垂直于所述支撐桿設(shè)置,各放料板均包括底蓋、上蓋和中間彈片;所述底蓋的一端與所述支撐桿固定相連,所述上蓋覆蓋在所述底蓋上,二者上均設(shè)有若干個鍍膜孔,且二者通過螺釘相連;所述中間彈片的橫截面呈波浪型,其活動安裝在所述上蓋和底蓋之間,且與上蓋和底蓋上相互靠近的一側(cè)之間為線接觸。本實(shí)用新型能夠大大縮短真空鍍膜工序時間,提高生產(chǎn)效率。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型屬于真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種用于真空鍍膜機(jī)的放料架。
背景技術(shù)
真空鍍膜機(jī)指的就是真空度較高的情況下進(jìn)行的鍍膜設(shè)備,大致包括真空離子蒸發(fā)鍍膜機(jī)、磁控濺射鍍膜機(jī)、PLD激光濺射沉積鍍膜機(jī)等。真空鍍膜機(jī)內(nèi)必須設(shè)置放料架來放置基材,現(xiàn)有的放置架大多結(jié)構(gòu)比較單一,且無法改變,因此,當(dāng)完成基材其中一面的鍍膜后,還需要對基材進(jìn)行翻轉(zhuǎn),進(jìn)行另一面的鍍膜,大大影響了鍍膜效率,從而增大了生產(chǎn)的時間成本以及人力成本。
實(shí)用新型內(nèi)容
針對上述問題,本實(shí)用新型提出一種用于真空鍍膜機(jī)的放料架,能夠大大縮短真空鍍膜機(jī)的降溫時間,提高生產(chǎn)效率。
實(shí)現(xiàn)上述技術(shù)目的,達(dá)到上述技術(shù)效果,本實(shí)用新型通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):
一種用于真空鍍膜機(jī)的放料架,包括:
底座,所述底座的頂表面上設(shè)有滑槽;
支撐桿,所述支撐桿垂直于所述底座設(shè)置,其底端設(shè)有滑塊,并通過所述滑塊與底座上的滑槽滑動相連,頂端處于自由狀態(tài),其外表面上設(shè)有拉環(huán);
若干個放料板,所述放料板垂直于所述支撐桿設(shè)置,各放料板均包括底蓋、上蓋和中間彈片;所述底蓋的一端與所述支撐桿固定相連,所述上蓋覆蓋在所述底蓋上,二者上均設(shè)有若干個鍍膜孔,且二者通過螺釘相連;所述中間彈片的橫截面呈波浪型,其活動安裝在所述上蓋和底蓋之間,且與上蓋和底蓋上相互靠近的一側(cè)之間為線接觸。
優(yōu)選地,所述中間彈片處于靜止?fàn)顟B(tài)時的長度為上蓋板和底蓋板長度的3/5~4/5。
優(yōu)選地,所述滑槽的延伸方向與鍍膜室前后壁之間的連線相平行。
優(yōu)選地,所述鍍膜室的外壁上設(shè)有掛鉤,所述掛鉤上設(shè)有推拉件,所述推拉件包括拉鉤和拉桿,所述拉鉤與所述拉環(huán)相配合,且設(shè)于所述拉桿的端部。
優(yōu)選地,所述拉桿為伸縮桿。
優(yōu)選地,所述放料板的數(shù)量為偶數(shù),等分設(shè)于支撐桿的相對兩側(cè),且位于支撐桿同一側(cè)的各放料板之間的距離大于放料板轉(zhuǎn)動時所需要的距離。
優(yōu)選地,所述中間彈片由合金材料制成。
優(yōu)選地,所述滑塊的橫截面呈T型。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型的有益效果:
本實(shí)用新型的一種用于真空鍍膜機(jī)的放料架,設(shè)置了與底板,也起到對鍍膜機(jī)腔體進(jìn)行散熱的效果,因此,能夠大大縮短真空鍍膜機(jī)的降溫時間,提高生產(chǎn)效率。
附圖說明
圖1為本實(shí)用新型一種實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本實(shí)用新型一種實(shí)施例的放料板的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
為了使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白,以下結(jié)合實(shí)施例,對本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解,此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本實(shí)用新型,并不用于限定本實(shí)用新型。
下面結(jié)合附圖對本實(shí)用新型的應(yīng)用原理作詳細(xì)的描述。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





