[實用新型]一種釉面磚生產用施釉設備有效
| 申請號: | 201822220549.8 | 申請日: | 2018-12-27 |
| 公開(公告)號: | CN209453817U | 公開(公告)日: | 2019-10-01 |
| 發明(設計)人: | 阮仞清 | 申請(專利權)人: | 江門市金瑞寶陶瓷有限公司 |
| 主分類號: | B28B11/04 | 分類號: | B28B11/04;B01F7/18 |
| 代理公司: | 北京華仲龍騰專利代理事務所(普通合伙) 11548 | 代理人: | 李靜 |
| 地址: | 529100 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 釉面磚 底部外壁 頂部外壁 底板 本實用新型 釉面磚生產 半圓槽 放置板 固定桿 固定座 緩沖墊 進釉口 施釉 釉管 釉料 釉箱 倒刺 等距離分布 底板頂部 頂部內壁 螺紋連接 從設備 密封蓋 內壁 外壁 粘接 晃動 沉淀 轉動 | ||
本實用新型公開了一種釉面磚生產用施釉設備,包括底板,所述底板底部外壁的兩側均開有半圓槽,且兩個半圓槽的頂部內壁均設置有固定座,兩個所述固定座的底部外壁均粘接有緩沖墊,且兩個緩沖墊的底部外壁均設置有等距離分布的軟倒刺,所述底板頂部外壁的兩側均設置有固定桿,且兩個固定桿的頂部外壁設置有儲釉箱,所述儲釉箱頂部外壁的一側開有進釉口,且進釉口的內壁設置有進釉管,所述進釉管的頂部外壁螺紋連接有密封蓋。本實用新型能夠防止由于釉料的靜置時間過長導致釉料產生沉淀,能夠防止由于振動導致設備發生晃動從而使釉面磚從設備上脫落對釉面磚的表面造成損壞,防止由于放置板轉動產生的離心力導致釉面磚從放置板上脫落。
技術領域
本實用新型涉及釉面磚生產技術領域,尤其涉及一種釉面磚生產用施釉設備。
背景技術
釉面磚是磚的表面經過施釉高溫高壓燒制處理的瓷磚,這種瓷磚是由土胚和表面的釉面兩個部分構成的,在對釉面磚生產的過程中,通常會通過施釉設備對釉面磚的表面進行施釉處理。
但是,現有的施釉設備在對釉面磚進行施釉的過程中,由于工作時間過久,可能會導致釉料在儲釉箱的內部發生沉淀從而對設備的施釉工作造成影響,此外,在施釉的過程中,設備可能會產生振動,從而可能會導致釉面磚從設備上脫落掉落到地面上對釉面磚的表面造成損壞。因此,亟需設計一種釉面磚生產用施釉設備來解決此類問題。
實用新型內容
本實用新型的目的是為了解決現有技術中存在的缺點,而提出的一種釉面磚生產用施釉設備。
為了實現上述目的,本實用新型采用了如下技術方案:
一種釉面磚生產用施釉設備,包括底板,所述底板底部外壁的兩側均開有半圓槽,且兩個半圓槽的頂部內壁均設置有固定座,兩個所述固定座的底部外壁均粘接有緩沖墊,且兩個緩沖墊的底部外壁均設置有等距離分布的軟倒刺,所述底板頂部外壁的兩側均設置有固定桿,且兩個固定桿的頂部外壁設置有儲釉箱,所述儲釉箱頂部外壁的一側開有進釉口,且進釉口的內壁設置有進釉管,所述進釉管的頂部外壁螺紋連接有密封蓋,所述底板的頂部內壁位于中間的位置開有沉孔,且沉孔的內壁設置有軸承,所述的內壁設置有轉動桿,且轉動桿的外壁設置有等距離呈環形分布的攪拌軸,所述攪拌軸的外壁遠離轉動桿的一端設置有攪拌葉,且攪拌葉的一側外壁和攪拌軸的一側外壁均開有等距離分布的導流孔,所述儲釉箱的底部外壁位于中間的位置開有排釉口,且排釉口的內壁設置有排釉管,排釉管的一側外壁設置有電磁閥,所述排釉管的底部外壁設置有導釉管。
作為本實用新型再進一步的方案:所述導釉管底部外壁的兩側均開有螺紋孔,且兩個螺紋孔的內部均螺紋連接有霧化噴頭。
作為本實用新型再進一步的方案:所述底板頂部外壁的一側開有放置槽,且放置槽的底部內壁設置有第一電動機,第一電動機輸出軸的一端設置有主動齒輪。
作為本實用新型再進一步的方案:所述底板的頂部外壁靠近中間的位置轉動連接有轉動軸,且轉動軸的頂部外壁通過螺栓連接有放置板,放置板的頂部外壁設置有等距離分布的凸塊。
作為本實用新型再進一步的方案:所述轉動軸的外壁設置有從動齒輪,且從動齒輪與主動齒輪之間相互嚙合。
作為本實用新型再進一步的方案:所述儲釉箱的頂部外壁位于中間的位置設置有第二電動機,且第二電動機輸出軸的一端與轉動桿之間焊接。
作為本實用新型再進一步的方案:所述第一電動機、第二電動機和電磁閥均通過導線連接有開關,且開關通過導線連接有電源。
本實用新型的有益效果為:
1.通過設置的攪拌軸、攪拌葉和導流孔,使得設備能夠對釉料進行攪拌處理,以便于設備進行施釉工作,防止由于釉料的靜置時間過長導致釉料產生沉淀對設備的工作造成影響,此外,通過導流孔能夠緩解釉料對攪拌軸的壓力,防止攪拌軸由于壓力而發生斷裂;
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