[實用新型]一種實時云紋干涉圖高速相位測量及提取系統

有效

• 申請號: 201822212588.3
• 申請日: 2018-12-27
• 公開（公告）號: CN209416278U
• 公開（公告）日: 2019-09-20
• 發明（設計）人: 馬峻;毛露露;陳壽宏;徐翠鋒;尚玉玲;郭玲
• 申請（專利權）人: 桂林電子科技大學
• 主分類號: G01B11/02
• 分類號: G01B11/02;G01B11/16
• 代理公司: 北京中濟緯天專利代理有限公司 11429
• 代理人: 石燕妮

本實用新型提出一種實時云紋干涉圖高速相位測量及提取系統，該測量系統包括激光器、分光耦合器、相移器、隔振平臺、底座、平移臺、多維調節加載架、試件放置臺、云紋干涉光路結構、可調節支桿、圖像采集模塊和控制模塊；所述激光器、分光耦合器、相移器、底座設置于所述隔振平臺上，所述平移臺設置于底座上，所述多維調節加載架設置于平移臺上，所述試件放置臺設置于多維調節加載架上，所述激光器通過所述分光耦合器與所述云紋干涉光路結構連接，所述云紋干涉光路結構設置于所述試件放置臺的上方空間；所述相移器與所述試件放置臺連接；激光器發出的光經過云紋干涉光路結構后照射到待測試件表面，由待測試件反射至圖像采集模塊中。

技術領域

本實用新型涉及光學測量領域，具體涉及一種實時云紋干涉圖高速相位測量及提取系統。

背景技術

在現代光測技術中，云紋干涉法是一種非接觸式測量面內位移和應變場的方法，常制作或復制高靈敏度云紋光柵，以作為試件表面變形的傳感載體進行測試。對于云紋干涉圖的相位提取是光學測量中數字化處理的重要環節，采用相移干涉技術進行相位提取，不需要進行條紋中心定位和條紋級數確定，可直接得到云紋干涉圖上各點的相位分布，該技術以其高精度、高重復性等優勢，被廣泛應用于復合材料殘余應力測量、物體表面形變的測量、光學元件表面測量等光學測量領域。傳統的相位提取技術多采用通用處理器或專用DSP芯片實現，原理較復雜、穩定性較差，且不能滿足高精度大容量數據高速處理的要求。

實用新型內容

鑒于以上所述現有技術的缺點，本實用新型的目的在于提供一種實時云紋干涉圖高速相位測量及提取系統。

為實現上述目的及其他相關目的，本實用新型提供一種實時云紋干涉圖高速相位測量系統，該測量系統包括激光器2、分光耦合器3、相移器4、隔振平臺1、底座15、平移臺16、多維調節加載架17、試件放置臺5、云紋干涉光路結構6、可調節支桿7和圖像采集模塊8；

所述激光器2、分光耦合器3、相移器4、底座15設置于所述隔振平臺1上，所述平移臺 16設置于底座上，所述多維調節加載架17設置于平移臺上，所述試件放置臺5設置于多維調節加載架17上，所述激光器2通過所述分光耦合器3與所述云紋干涉光路結構6連接，所述云紋干涉光路結構6設置于所述試件放置臺5的上方空間；所述相移器4與所述試件放置臺5 連接；

激光器2發出的光經過云紋干涉光路結構后照射到待測試件表面，由待測試件反射至圖像采集模塊8中。

可選地，所述云紋干涉光路結構6包括光纖分光器60、場鏡61、第一反射鏡62、第二反射鏡63、第三反射鏡64、第四反射鏡65、第一激光耦合器66、第二激光耦合器67、第一準直鏡68、第二準直鏡69，

所述光纖分光器60將激光發射器發射的光分成兩路，其中一路光依次經所述第一激光耦合器66、第四反射鏡65、第二準直鏡69、第二反射鏡63照射到所述待測試件18表面；另一路光依次依次經所述第二激光耦合器67、第一反射鏡62、第一準直鏡68、第三反射鏡64照射到所述待測試件18表面上。

可選地，所述圖像采集模塊為COMS相機。

可選地，該測量系統還包括光柵，設置于待測試件的表面。

為實現上述目的及其他相關目的，本實用新型還提供一種實時云紋干涉圖高速相位提取系統，該提取系統包括所述的相位測量系統，還包括控制模塊10，所述控制模塊與所述圖像采集模塊電連接。

可選地，該提取系統還包括顯示模塊11，與所述控制模塊連接。

可選地，所述顯示模塊為液晶顯示屏。

可選地，所述控制模塊為FPGA。

可選地，所述圖像采集模塊與所述FPGA通過IDC軟扁平電纜連接。

可選地，所述顯示模塊與所述FPGA通過HDMI轉VGA信號轉接線連接。