[實用新型]含硅廢液的處理系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201822087956.6 | 申請日: | 2018-12-12 |
| 公開(公告)號: | CN209397036U | 公開(公告)日: | 2019-09-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 耿曉東;周婕;王東飛;姚立強;李志 | 申請(專利權(quán))人: | 東泰高科裝備科技有限公司 |
| 主分類號: | C02F9/04 | 分類號: | C02F9/04;C02F101/10 |
| 代理公司: | 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;姜春咸 |
| 地址: | 102200 北京市昌平*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 滲透過濾裝置 處理系統(tǒng) 含硅廢液 沉淀箱 上清液 上清液出口 濃液出口 清液出口 滲透膜 濃縮 濃液 清液 本實用新型 外部 連通 過濾 環(huán)保 | ||
本實用新型提供一種含硅廢液的處理系統(tǒng),包括濃縮沉淀箱和滲透過濾裝置,所述濃縮沉淀箱包括上清液出口;所述滲透過濾裝置包括上清液入口、目標(biāo)清液出口、目標(biāo)濃液出口和設(shè)置在所述滲透過濾裝置內(nèi)的滲透膜;所述濃縮沉淀箱的上清液出口與所述滲透過濾裝置的上清液入口連通,以使得進入所述滲透過濾裝置的上清液能夠通過經(jīng)過所述滲透膜,并被過濾為目標(biāo)清液和目標(biāo)濃液,所述目標(biāo)清液出口用于將所述目標(biāo)清液引導(dǎo)至所述滲透過濾裝置外部,所述目標(biāo)濃液出口用于將所述目標(biāo)濃液引導(dǎo)至所述滲透過濾裝置外部。所述處理系統(tǒng)處理含硅廢液的成本更低,且更加環(huán)保。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及廢液處理領(lǐng)域,具體地,涉及一種含硅廢液的處理系統(tǒng)。
背景技術(shù)
在光伏領(lǐng)域和半導(dǎo)體領(lǐng)域中,會用到大量的硅晶片。對硅晶片進行加工時,會產(chǎn)生含硅廢液。目前,處理含硅廢液常用的方法是對含硅廢液進行混凝沉淀。但是,這種方法將產(chǎn)生大量含有重金屬的污泥。根據(jù)環(huán)保標(biāo)準(zhǔn),這種含有重金屬的污泥為危險物,對含有重金屬的污泥進行進一步處理時,成本通常更高。
因此,如何更環(huán)保地對含硅廢液進行處理成為本領(lǐng)域亟待解決的技術(shù)問題。
實用新型內(nèi)容
本實用新型的目的在于提供一種含硅廢液的處理系統(tǒng)。利用所述處理系統(tǒng)對含硅廢液進行處理,可以以較低的成本獲得環(huán)境友好的處理產(chǎn)物,以解決現(xiàn)有技術(shù)中處理含硅廢液成本高的問題。
為了實現(xiàn)上述目的,本實用新型提供一種含硅廢液的處理系統(tǒng),其中,所述處理系統(tǒng)包括濃縮沉淀箱和滲透過濾裝置,
所述濃縮沉淀箱包括上清液出口;
所述滲透過濾裝置包括上清液入口、目標(biāo)清液出口、目標(biāo)濃液出口和設(shè)置在所述滲透過濾裝置內(nèi)的滲透膜;
所述濃縮沉淀箱的上清液出口與所述滲透過濾裝置的上清液入口連通,以使得進入所述滲透過濾裝置的上清液能夠通過經(jīng)過所述滲透膜,并被過濾為目標(biāo)清液和目標(biāo)濃液,所述目標(biāo)清液出口用于將所述目標(biāo)清液引導(dǎo)至所述滲透過濾裝置外部,所述目標(biāo)濃液出口用于將所述目標(biāo)濃液引導(dǎo)至所述滲透過濾裝置外部。
優(yōu)選地,所述處理系統(tǒng)包括設(shè)置在所述上清液出口與所述上清液入口之間、將所述上清液入口與所述上清液出口連通的第一循環(huán)泵,所述第一循環(huán)泵用于將所述濃縮沉淀箱中的上清液從所述濃縮沉淀箱中泵送至所述滲透過濾裝置中。
優(yōu)選地,所述處理系統(tǒng)包括第一連通管,所述第一連通管的一端與所述目標(biāo)濃液出口連通,所述第一連通管的另一端與所述濃縮沉淀箱內(nèi)部連通。
優(yōu)選地,所述處理系統(tǒng)還包括反洗水箱,所述反洗水箱與所述滲透過濾裝置的內(nèi)部連通。
優(yōu)選地,所述處理系統(tǒng)還包括第二循環(huán)泵,所述第二循環(huán)泵將所述反洗水箱的出水口與所述清液出口連通,以將所述反洗水箱內(nèi)的液體泵送至所述滲透過濾裝置中。
優(yōu)選地,所述濃縮沉淀箱具有待處理液入口,所述處理系統(tǒng)還包括原液箱,所述原液箱具有待處理液出口,所述待處理液出口與所述待處理液入口連通。
優(yōu)選地,所述處理系統(tǒng)還包括攪拌裝置,所述攪拌裝置用于對所述原液箱中的液體進行攪拌。
優(yōu)選地,所述滲透過濾裝置包括管式膜、超濾膜、陶瓷膜中的任意一者。
優(yōu)選地,所述處理系統(tǒng)還包括壓制裝置,所述壓制裝置用于將從所述濃縮沉淀箱中獲得的沉淀物壓制成泥餅。
優(yōu)選地,所述處理系統(tǒng)還包括加熱裝置,所述加熱裝置用于所述沉淀物壓制的泥餅進行加熱,以控制所述泥餅的含水率。
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