[實用新型]一種工業硅用半連續真空感應熔鑄爐

有效

• 申請號: 201822037380.2
• 申請日: 2018-12-06
• 公開（公告）號: CN209326332U
• 公開（公告）日: 2019-08-30
• 發明（設計）人: 張秀軍;張華;吉紅旗
• 申請（專利權）人: 西安藍海冶金設備有限公司
• 主分類號: F27B14/04
• 分類號: F27B14/04;F27B14/16
• 代理公司: 昆明合眾智信知識產權事務所 53113
• 代理人: 高興云

1.一種工業硅用半連續真空感應熔鑄爐，包括真空室(1)，其特征在于：在所述真空室(1)內設置可移動感應加熱坩堝裝置(3)，在所述真空室(1)的一側設置為所述可移動感應加熱坩堝裝置(3)加料的連續加料裝置(2)，所述真空室(1)內還設置有與可移動感應加熱坩堝裝置(3)配合搗料的移動搗料裝置(4)，在所述可移動感應加熱坩堝裝置(3)下方設有錠模車(5)。

2.根據權利要求1所述的一種工業硅用半連續真空感應熔鑄爐，其特征在于：所述真空室(1)內的可移動感應加熱坩堝裝置(3)在熔化的過程中通過連續加料裝置(2)進行一次或多次進行加料。

3.根據權利要求1所述的一種工業硅用半連續真空感應熔鑄爐，其特征在于：所述真空室(1)為立式圓套方形狀結構，室內通過抽真空系統進行抽空，所述真空室(1)設置有中間門及端門。

4.根據權利要求1所述的一種工業硅用半連續真空感應熔鑄爐，其特征在于：所述可移動感應加熱坩堝裝置(3)的加熱方式采用中頻、工頻或高頻加熱。

5.根據權利要求1～4任一項所述的一種工業硅用半連續真空感應熔鑄爐，其特征在于：所述連續加料裝置(2)設置在真空室的左側或右側。

6.根據權利要求1～4任一項所述的一種工業硅用半連續真空感應熔鑄爐，其特征在于：所述真空室(1)采用整體結構或分離結構。