[實用新型]一種工藝氣體分布均勻的磁控濺射真空鍍膜設備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201822006776.0 | 申請日: | 2018-11-30 |
| 公開(公告)號: | CN209412304U | 公開(公告)日: | 2019-09-20 |
| 發(fā)明(設計)人: | 劉杰;來華杭;施成亮 | 申請(專利權(quán))人: | 浙江上方電子裝備有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35 |
| 代理公司: | 杭州合信專利代理事務所(普通合伙) 33337 | 代理人: | 黃平英 |
| 地址: | 310000 浙*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 混合擋板 工藝氣體 氣體混合 布氣管 真空室 室內(nèi) 真空鍍膜設備 本實用新型 磁控濺射 靶材 吹出 緩沖 進氣 真空室內(nèi)部 充分混合 氣體產(chǎn)生 氣體分布 正面碰撞 擾動 布氣孔 側(cè)內(nèi)壁 出風口 出氣口 緩沖室 側(cè)方 鍍膜 側(cè)面 安置 | ||
本實用新型公開了一種工藝氣體分布均勻的磁控濺射真空鍍膜設備,包括鍍膜時內(nèi)部通入工藝氣體和安置靶材的真空室,所述真空室的進氣側(cè)與靶材之間設置有混合擋板,所述混合擋板與真空室進氣側(cè)內(nèi)壁之間具有作為氣體混合緩沖室的間隙,該間隙的側(cè)方具有出氣口;所述氣體混合緩沖室內(nèi)設置有若干布氣管,所述布氣管上設置有布氣孔。本實用新型真空室內(nèi)部設置混合擋板,布氣管吹出的工藝首先正面碰撞混合擋板,使得氣體在氣體混合緩沖室內(nèi)進行充分混合,達到均勻后再緩緩從側(cè)面的出風口吹出,避免對真空室內(nèi)的氣體產(chǎn)生擾動,使得真空室內(nèi)的氣體分布均勻。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型一種真空鍍膜設備,尤其涉及一種工藝氣體分布均勻的磁控濺射真空鍍膜設備。
背景技術(shù)
磁控濺射的工作原理是指電子在電場E的作用下,在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞,使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子;新電子飛向基片,Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶,并以高能量轟擊靶表面,使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中,中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜。工藝分布在真空室內(nèi)分布均勻至關(guān)重要,如工藝氣體在真空室內(nèi)分布不均勻,存在擾動等情況,會導致鍍膜厚度不均。
為了解決工藝氣體分布不均的問題,如CN201148466Y一種具有分散氣體的分散板的鍍膜裝置,該鍍膜裝置包括一具有一鍍膜室的中空狀殼體、一具有多數(shù)間隔設置于該鍍膜室中的電極板的電極單元、一用以將鍍膜氣體輸送進該殼體的鍍膜室中的輸氣管、一具有一與該鍍膜室相連通的泵的抽氣單元,以及一鄰近所述電極板的底面且具有多數(shù)相間隔的分流孔的分散板,所述分流孔涵蓋該電極板的底面的大部分面積,借由所述分流孔,讓鍍膜氣體可均勻分布于該鍍膜室中,以提高鍍膜良率、改善整體鍍膜效率。
又如CN2443972Y公開了一種中頻反應濺射鍍膜設備中反應氣體的供氣裝置,包括真空室、進氣管和壓電閥,在真空室內(nèi)置有靶、反應氣體布氣管和工作氣體布氣管,接有壓電閥的進氣管與反應氣體布氣管相通,在真空室內(nèi)兩靶的對稱軸線上置有管道兩邊呈對稱開有若干通氣出孔的氣體布氣管,兩根工作氣體布氣管置于兩靶的外側(cè)軸線上,工作氣體布氣管上均勻開有布氣孔。
又如CN2443972Y公開了一種中頻反應濺射鍍膜設備中反應氣體的供氣裝置,在真空室內(nèi)兩靶的對稱軸線上置有管道兩邊呈對稱開有若干通氣出孔的反應氣體布氣管,反應氣體布氣管置于具折角的擋板折角內(nèi),接有壓電閥的進氣管與反應氣體布氣管在兩只靶的幾何對稱中心相通,兩根工作氣體布氣管置于兩靶的外側(cè)軸線上,工作氣體布氣管上均勻開有布氣孔。
以上公開的鍍膜設備是通過布氣管或分散板讓工藝進行均勻分布,但是工藝經(jīng)過從布氣管或分散管出來后就直接進入了真空室,會對真空室內(nèi)的氣體產(chǎn)生擾動,從而導致氣體分布不均勻。
實用新型內(nèi)容
本實用新型提供了一種磁控濺射真空鍍膜設備,解決了傳統(tǒng)設備工藝氣體因擾動而分布不均勻的溫度。
一種磁控濺射真空鍍膜設備,包括鍍膜時內(nèi)部通入工藝氣體和安置靶材的真空室,所述真空室的進氣側(cè)與靶材之間設置有混合擋板,所述混合擋板與真空室進氣側(cè)內(nèi)壁之間具有作為氣體混合緩沖室的間隙,該間隙的側(cè)方具有出氣口;所述氣體混合緩沖室內(nèi)設置有若干布氣管,所述布氣管上設置有若干布氣孔。
優(yōu)選的,所述混合擋板為凹型結(jié)構(gòu),其邊沿具有與真空室壁固定連接的折邊,所述出氣口開設與所述折邊上,采用凹型結(jié)構(gòu)的混合擋板可以和真空室壁直接組成氣體混合緩沖室,而不需要其它部件,有助于簡化結(jié)構(gòu)和降低成本,當然也可以是真空室壁采用凹型結(jié)構(gòu),但很難設置出氣口。
優(yōu)選的,所述真空室的進氣側(cè)具有供混合擋板通過的開口以及密封所述開口作為真空室壁的門板,所述混合擋板固定在所述門板上。采用該方案可以先將混合擋板和門板組裝好,然后將混合擋板置入真空室內(nèi),門板固定在真空室外壁上,組裝方便,當然也可以在別處開口,但影響組裝。
優(yōu)選的,所述混合擋板的外側(cè)設面置有防著擋板,可以避免靶材沉浸在混合擋板上。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





