[實用新型]一種工藝氣體分布均勻的磁控濺射真空鍍膜設備有效
| 申請號： | 201822006776.0 | 申請日： | 2018-11-30 |
| 公開（公告）號： | CN209412304U | 公開（公告）日： | 2019-09-20 |
| 發明（設計）人： | 劉杰;來華杭;施成亮 | 申請（專利權）人： | 浙江上方電子裝備有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 杭州合信專利代理事務所(普通合伙) 33337 | 代理人： | 黃平英 |
| 地址： | 310000 浙*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 混合擋板 工藝氣體 氣體混合 布氣管 真空室 室內 真空鍍膜設備 本實用新型 磁控濺射 靶材 吹出 緩沖 進氣 真空室內部 充分混合 氣體產生 氣體分布 正面碰撞 擾動 布氣孔 側內壁 出風口 出氣口 緩沖室 側方 鍍膜 側面 安置 | ||
1.一種磁控濺射真空鍍膜設備，包括鍍膜時內部通入工藝氣體和安置靶材的真空室，其特征在于，所述真空室的進氣側與靶材之間設置有混合擋板，所述混合擋板與真空室進氣側內壁之間具有作為氣體混合緩沖室的間隙，該間隙的側方具有出氣口；所述氣體混合緩沖室內設置有若干布氣管，所述布氣管上設置有若干布氣孔。
2.如權利要求1所述的磁控濺射真空鍍膜設備，其特征在于，所述混合擋板為凹型結構，其邊沿具有與真空室壁固定連接的折邊，所述出氣口開設與所述折邊上。
3.如權利要求2所述的磁控濺射真空鍍膜設備，其特征在于，所述真空室的進氣側具有供混合擋板通過的開口以及密封所述開口作為真空室壁的門板，所述混合擋板固定在所述門板上。
4.如權利要求1所述的磁控濺射真空鍍膜設備，其特征在于，所述混合擋板的外側面設置有防著擋板。
5.如權利要求1所述的磁控濺射真空鍍膜設備，其特征在于，所述布氣管包括主氣管和輔氣管，所述輔氣管分成相互獨立的若干段，每段連接一進氣管。
6.如權利要求1所述的磁控濺射真空鍍膜設備，其特征在于，所述布氣管通過卡夾固定在真空室內壁面上。
7.如權利要求1、2或3所述的磁控濺射真空鍍膜設備，其特征在于，所述真空室的進氣側設置有連接布氣管的接頭裝置。
8.如權利要求7所述的磁控濺射真空鍍膜設備，其特征在于，所述接頭裝置包括穿過真空室壁連接布氣管的連接管、穿套在連接管上與真空室壁密封配合的法蘭以及將法蘭固定在真空室壁上的卡箍。
9.如權利要求1所述的磁控濺射真空鍍膜設備，其特征在于，所述布氣孔正對所述混合擋板設置。
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