[實用新型]密封結構和顯示裝置

有效

• 申請號: 201821983747.3
• 申請日: 2018-11-29
• 公開（公告）號: CN209216952U
• 公開（公告）日: 2019-08-06
• 發明（設計）人: 馬濤;羅標;何為;楊成紹
• 申請（專利權）人: 合肥鑫晟光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: H01L23/29
• 分類號: H01L23/29;H01L23/31;H01L21/56
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 彭久云;孟祥潮

1.一種密封結構，其特征在于，所述密封結構包括：

襯底基板；

位于所述襯底基板上的密封膠；以及

位于所述襯底基板和所述密封膠之間且與所述密封膠接觸的接觸層，其中，所述接觸層的遠離所述襯底基板的接觸層表面在與所述密封膠接觸的接觸位置處是非平坦的。

2.根據權利要求1所述的密封結構，其特征在于，所述接觸層表面在與所述密封膠接觸的接觸位置處設置有至少一個接觸層凹槽，所述密封膠延伸到所述至少一個接觸層凹槽中。

3.根據權利要求2所述的密封結構，其特征在于，所述至少一個接觸層凹槽包括第一凹槽和第二凹槽，并且所述第一凹槽和所述第二凹槽的深度不同。

4.根據權利要求3所述的密封結構，其特征在于，所述至少一個接觸層凹槽包括多個所述第一凹槽和多個所述第二凹槽，并且多個所述第一凹槽和多個所述第二凹槽交錯設置。

5.根據權利要求2所述的密封結構，其特征在于，所述至少一個接觸層凹槽包括封閉的環形凹槽。

6.根據權利要求1-5中任一項所述的密封結構，其特征在于，所述密封結構還包括：

位于所述襯底基板和所述接觸層之間的有機層，其中，所述有機層的遠離所述襯底基板的有機層表面在所述密封膠所在位置處是非平坦的，以使所述接觸層表面在所述接觸位置處是非平坦的。

7.根據權利要求6所述的密封結構，其特征在于，所述有機層表面在所述密封膠所在位置處設置有至少一個有機層凹槽，所述接觸層和所述密封膠都延伸到所述至少一個有機層凹槽中。

8.根據權利要求7所述的密封結構，其特征在于，所述至少一個有機層凹槽包括至少一個通孔凹槽和至少一個盲孔凹槽，所述通孔凹槽的深度等于所述有機層的厚度，所述盲孔凹槽的深度小于所述有機層的厚度。

9.根據權利要求7所述的密封結構，其特征在于，所述至少一個有機層凹槽包括多個通孔凹槽，每個所述通孔凹槽的深度等于所述有機層的厚度。

10.根據權利要求1-5中任一項所述的密封結構，其特征在于，所述密封結構包括：

第一無機層，其位于所述襯底基板上；

第二無機層，其位于所述第一無機層的遠離所述襯底基板的一側，

其中，所述第一無機層和所述第二無機層在所述襯底基板上的正投影都與所述密封膠在所述襯底基板上的正投影交疊；并且，所述第二無機層作為所述接觸層，或者所述第一無機層和所述第二無機層都位于所述接觸層和所述襯底基板之間。

11.根據權利要求10所述的密封結構，其特征在于，對于同一干刻工藝，所述第一無機層的干刻速率小于所述第二無機層的干刻速率。

12.根據權利要求10所述的密封結構，其特征在于，所述第一無機層和所述第二無機層的材料的化學組成相同，并且所述第一無機層的折射率大于所述第二無機層的折射率。

13.根據權利要求12所述的密封結構，其特征在于，所述第一無機層和所述第二無機層的材料為二氧化硅薄膜、氮化硅薄膜或者氮氧化硅薄膜。

14.根據權利要求1-5中任一項所述的密封結構，其特征在于，所述密封膠為光固化型密封膠。

15.一種顯示裝置，其特征在于，所述顯示裝置包括權利要求1-14中任一項所述的密封結構。