[實用新型]一種貼片機上蠟裝置有效
| 申請號: | 201821948959.8 | 申請日: | 2018-11-23 |
| 公開(公告)號: | CN209577203U | 公開(公告)日: | 2019-11-05 |
| 發明(設計)人: | 張峰;吳張琪;蘇靜洪;陸吳強;高丹鋒 | 申請(專利權)人: | 天通日進精密技術有限公司 |
| 主分類號: | B05C5/00 | 分類號: | B05C5/00;B05C13/02;B05C11/00;B05C11/10 |
| 代理公司: | 嘉興啟帆專利代理事務所(普通合伙) 33253 | 代理人: | 張抗震 |
| 地址: | 314000 浙江省嘉興*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 吸附裝置 上蠟 收納裝置 本實用新型 襯底材料 蠟裝置 上表面 蠟液 貼片 傳片裝置 空腔結構 所處位置 依次設置 吸附盤 飛濺 倒出 供蠟 上襯 傳遞 | ||
本實用新型公開了一種貼片機上蠟裝置,包括:機架;吸附裝置,設置于機架上;傳片裝置,用于傳遞吸附裝置上襯底材料;所述吸附裝置包括依次設置的第一吸附裝置、第二吸附裝置、第三吸附裝置以及第四吸附裝置;所述機架上還設置有往第二吸附裝置上的襯底材料上表面上蠟的滴蠟機構;其中:所述機架上還設置有收納裝置,所述收納裝置為空腔結構,收納裝置底部開設有上蠟時可供第二吸附裝置及襯底材料進入的進入通道,收納裝置上表面開設有上蠟時可供蠟液通過的蠟液通道,所述第二吸附裝置的吸附盤在上蠟時其所處位置不低于進入通道的上沿。本實用新型通過收納裝置的設置有效的解決了在上蠟過程中蠟液倒出飛濺的問題。
技術領域
本實用新型涉及LED襯底材料的加工領域,特別是一種貼片機上蠟裝置。
背景技術
襯底材料是半導體照明產業技術發展的基礎,是半導體照明產業的關鍵材料之一,具有重要的地位。目前采用的LED襯底材料主要有藍寶石、氮化鎵以及碳化硅等。其中襯底材料拋光的平整度是衡量襯底材料質量的重要參數,而襯底材料拋光的平整度在一定程度上又受到襯底材料在粘片時平整度的影響。現有的粘片一般有兩種方式,一種是蠟粘片,一種是模板粘片;蠟粘片作為一種簡單快捷的粘片方式在單拋晶片中被大量的使用。而現有的用于蠟粘片的貼片機上蠟裝置在工作過程中往往會出現襯底材料上的蠟液因為離心里的作用到處飛濺,從而影響滴蠟裝置的正常運行;且現有的貼片機上蠟裝置中的吸附裝置在吸附過程中往往也會因為吸附力不夠均勻,過渡集中與一點而導致襯底材料在負壓的作用下產生局部翹曲,從而導致蠟液在襯底材料的表面不能形成均勻的蠟膜,從而影響后續襯底材料在載體上粘片時的水平度。
實用新型內容
本實用新型的目的在于提供一種能夠有效提升襯底材料表面蠟液均勻度且在襯底材料上蠟時能夠有效防止襯底材料表面蠟液飛濺的貼片機上蠟裝置。
為解決上述技術問題,本實用新型的技術方案為:
一種貼片機上蠟裝置,包括:機架;吸附裝置,設置于機架上;傳片裝置,用于傳遞吸附裝置上襯底材料;所述吸附裝置包括依次設置的第一吸附裝置、第二吸附裝置、第三吸附裝置以及第四吸附裝置;所述機架上還設置有往第二吸附裝置上的襯底材料上表面上蠟的滴蠟機構;其特征在于:所述機架上還設置有收納裝置,所述收納裝置為空腔結構,收納裝置底部開設有上蠟時可供第二吸附裝置及襯底材料進入的進入通道,收納裝置上表面開設有上蠟時可供蠟液通過的蠟液通道,所述第二吸附裝置的吸附盤在上蠟時其所處位置不低于進入通道的上沿。
進一步地,所述收納裝置上表面為玻璃。
進一步地,所述滴蠟機構一端設置有可驅動滴蠟機構作圓周轉動的轉動裝置。
進一步地,所述機架上還設置有廢蠟收集裝置,所述廢蠟收集裝置位于上滴蠟機構回程終點位置的正下方。
進一步地,所述吸附裝置包括吸附盤,吸附盤中心設置有貫通吸附孔;吸附盤上表面以吸附孔為中心等距的分布有若干第一氣槽,所述第一氣槽與吸附孔之間通過徑向布置的第二氣槽連通。
本實用新型的有益效果為:通過在第二吸附裝置處設置一個在上蠟時可將第二吸附裝置上的襯底材料容納在其內部的收納裝置,使得上蠟時襯底材料上表面的蠟液在離心力的作用而飛濺時能夠被收納裝置阻擋在其內部,從而減少了蠟液對本實用新中其他零部件的污染;而將收納裝置的上表面設置為玻璃材質,使得工作人員能夠隨時觀察襯底材料在收納裝置中上蠟狀況,方便了襯底材料上蠟質量的把控;而將滴蠟機構設置為可轉動的形式,當不須滴蠟時,滴蠟機構可以移離第二吸附裝置的正上方,從而有效的防止了在不須滴蠟時因為滴蠟機構中的蠟液滴落在第二吸附裝置上而對其造成污染,影響第二吸附裝置對襯底材料的吸附能力;最后在吸附裝置的吸附盤表面開設等距分布的第一氣槽且在第二氣槽的作用下與吸附孔實現連通,使得當襯底材料落位在吸附盤上后,第一吸附槽中具有與吸附孔同樣的負壓,從而使得襯底材料能夠均勻的受到來自吸附盤的吸力,從而避免了襯底材料因為受力布局而導致的翹曲,進一步地提升襯底材料表面蠟膜的平整度。
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