[實用新型]一種半自動曝光機曝光臺面的水冷裝置

有效

• 申請號: 201821921778.6
• 申請日: 2018-11-21
• 公開（公告）號: CN209265175U
• 公開（公告）日: 2019-08-16
• 發明（設計）人: 陳振才;邱田生
• 申請（專利權）人: 東莞市多普光電設備有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京華仲龍騰專利代理事務所(普通合伙) 11548
• 代理人: 李靜

本實用新型涉及一種半自動曝光機曝光臺面的水冷裝置，包括框架，所述的框架的下表面均勻的開設有連通的水槽，且框架的下表面通過鎖緊孔配合鎖緊螺栓的結構安裝有水冷蓋板，所述的框架上還設置有與水冷蓋板配合的密封膠條，所述的密封膠條位于最外層水槽的外側，所述的水冷蓋板上設置有與水槽連通的進水口和出水口，且進水口和出水口連接到水循環裝置，本實用新型的目的是提供一種半自動曝光機曝光臺面的水冷裝置，對框架下部開始水槽配合水冷蓋板的設計，可以使冷卻水在水槽內流動，實現水冷的功能，且冷卻均勻，效果良好，同時不會影響到后續的取板操作，能使PCB板表面的油墨外觀保持良好。

技術領域

本實用新型涉及曝光機領域，尤其涉及一種半自動曝光機曝光臺面的水冷裝置。

背景技術

目前行業常見的自動曝光機曝光臺面冷卻方式多數是機械風冷；在風冷過程中存在死角及溫度不均的現象，而且對于無塵車間風冷也會吹動異物導致PCB曝光缺陷，更主要因素是因臺面溫度高低不均影響PCB漲縮，同時因冷卻效果不佳再加上PCB在曝光前其表層印制的油墨未干透（工藝設計需要，干透會造成曝光不良）從而容易粘在曝光臺面上，致使吸盤機構取板或人工取板時導致失敗及影響其PCB表面油墨外觀，因此有必要對曝光臺面冷卻控制方式進行改進。

實用新型內容

本實用新型的目的是提供一種半自動曝光機曝光臺面的水冷裝置，對框架下部開始水槽配合水冷蓋板的設計，可以使冷卻水在水槽內流動，實現水冷的功能，且冷卻均勻，效果良好，同時不會影響到后續的取板操作，能使PCB板表面的油墨外觀保持良好。

為了實現以上目的，本實用新型采用的技術方案為：一種半自動曝光機曝光臺面的水冷裝置，包括框架，所述的框架的下表面均勻的開設有連通的水槽，且框架的下表面通過鎖緊孔配合鎖緊螺栓的結構安裝有水冷蓋板，所述的框架上還設置有與水冷蓋板配合的密封膠條，所述的密封膠條位于最外層水槽的外側，且框架下表面開設有與密封膠條配合的溝槽，所述的水冷蓋板上設置有與水槽連通的進水口和出水口，且進水口和出水口連接到水循環裝置。

優選的，所述的框架的下部還開設有兩個調節口，且調節口與水槽不連通，調節口的外部也設置有密封膠條。

優選的，所述的密封膠條與水冷蓋板之間還設置有密封膠墊。

優選的，所述的水冷蓋板上還設置有與水槽連通的泄壓閥。

優選的，所述的鎖緊孔均勻的設置在位于密封膠條外側的部位。

附圖說明

圖1為一種半自動曝光機曝光臺面的水冷裝置的仰視爆炸圖。

圖2為框架部分的立體示意圖。

圖3為密封膠墊和水冷蓋板的立體示意圖。

圖中所示文字標注表示為：1、框架；2、密封膠條；3、密封膠墊；4、水冷蓋板；5、進水口；6、出水口；7、鎖緊孔；8、泄壓閥；11、水槽；12、調節口。

具體實施方式

為了使本領域技術人員更好地理解本實用新型的技術方案，下面結合附圖對本實用新型進行詳細描述，本部分的描述僅是示范性和解釋性，不應對本實用新型的保護范圍有任何的限制作用。

如圖1-3所示，本實用新型的具體結構為：一種半自動曝光機曝光臺面的水冷裝置，包括框架1，所述的框架1的下表面均勻的開設有連通的水槽11，且框架1的下表面通過鎖緊孔7配合鎖緊螺栓的結構安裝有水冷蓋板4，所述的框架1上還設置有與水冷蓋板4配合的密封膠條2，所述的密封膠條2位于最外層水槽的外側，且框架1下表面開設有與密封膠條2配合的溝槽，所述的水冷蓋板4上設置有與水槽11連通的進水口5和出水口6，且進水口5和出水口6連接到水循環裝置。