[實用新型]一種紫外線曝光機用氮氣幕

有效

• 申請號: 201821900348.6
• 申請日: 2018-11-16
• 公開（公告）號: CN209118056U
• 公開（公告）日: 2019-07-16
• 發明（設計）人: 朱文龍
• 申請（專利權）人: 海太半導體（無錫）有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 無錫市朗高知識產權代理有限公司 32262
• 代理人: 趙華

本實用新型提供一種紫外線曝光機用氮氣幕，包括氮氣幕殼體、底座、氣道、出氣孔、連接塊和圍擋邊，氮氣幕殼體呈圓弧形并固定安裝在底座上，氮氣幕殼體內設置有出氣孔，氮氣幕殼體內部設置有連接氣源與出氣孔的氣道，氮氣幕殼體外徑圈上設置有連接塊，氮氣幕殼體靠近凸起一側的外圓周上設置有圍擋邊，氮氣幕殼體表面涂布有特氟龍，材質采用陶瓷。本實用新型通過氮氣幕的機構完善了氮氣對產品的保護，有效的防止了因為紫外線照射使空氣中的氧氣和水蒸氣發生反應，造成紫外線的減弱從而導致的膠膜粘性過高產生的品質隱患。

技術領域

本實用新型主要涉及內存生產領域，尤其涉及一種紫外線曝光機用氮氣幕。

背景技術

在紫外線曝光機上，原有的氮氣保護系統由管道形式輸送至工作腔體中，以紫外線照射開始和結束為工作時機，打開和關閉氮氣，因此存在以下問題點：1.在氮氣出氣孔距離加工點較遠，出氣孔附近濃度較高，并且分布不均，無法形成對整個產品的工作區域整體覆蓋；2.在紫外線照射剛開始的瞬間，無法保證產品表面的氧氣和水蒸氣被徹底排除，從而無法確保紫外線曝光的效果。

已公開中國實用新型專利，申請號CN201320729766.4，專利名稱：用于光刻機曝光臺的清潔裝置，申請日：20131118，本實用新型涉及一種用于光刻機曝光臺的清潔裝置，包括一操作桿、與所述操作桿相連接的移動件，所述移動件靠近曝光臺的底部具有一凹腔，所述凹腔通過一進氣管與一氮氣源或清潔干燥的空氣源相連，通過一出氣管與一抽真空裝置相連。本實用新型采用一吹一吸的基本原理，通過氮氣吹力把光刻機曝光臺上的雜質顆粒吹起，然后通過另一端真空吸走顆粒，不但降低了操作者在狹小空間內的操作難度，降低了精密部件的損壞幾率，而且提高了清潔效率，實現了高效安全的清潔目的。

實用新型內容

本實用新型提供一種紫外線曝光機用氮氣幕，針對現有技術的上述缺陷，提供一種紫外線曝光機用氮氣幕，包括氮氣幕殼體1、底座2、氣道3、出氣孔4、連接塊5和圍擋邊6，所述氮氣幕殼體1呈圓弧形并固定安裝在底座2上，所述氮氣幕殼體1內設置有出氣孔4，所述氮氣幕殼體1內部設置有連接氣源與出氣孔4的氣道3，所述氮氣幕殼體1外徑圈上設置有連接塊5，所述氮氣幕殼體1靠近凸起一側的外圓周上設置有圍擋邊6，所述氮氣幕殼體1表面涂布有特氟龍，材質采用陶瓷。

優選的，氮氣幕殼體1通過螺栓固定安裝在在底座2上，所述螺栓設置有多個與出氣孔4對應，呈圓形陣列狀分布。

優選的，出氣孔4圍繞氮氣幕殼體1的圓心呈環形陣列狀分布，每一列所述出氣孔4設置有多個，對應的所述氣道3以圓心為中心發散設置。

優選的，每一列所述出氣孔4設置有四個，在所述氮氣幕殼體1上設置有八列上述出氣孔4。

優選的，氮氣幕殼體1的凸起部分正對產品，所述產品下方設置有紫外線光源7，所述氮氣幕殼體1和紫外線光源7均安裝在工作腔體8內，所述工作腔體8內在產品入口內的上方設置有傳感器9，所述傳感器9與安裝在氮氣幕殼體1上的電磁閥連接。

優選的，連接塊5上設置有螺栓孔10，所述螺栓孔10穿過螺栓與工作腔體8固定連接。

優選的，傳感器9為光學傳感器。

本實用新型的有益效果：通過氮氣幕的機構完善了氮氣對產品的保護，有效的防止了因為紫外線照射使空氣中的氧氣和水蒸氣發生反應，造成紫外線的減弱從而導致的膠膜粘性過高產生的品質隱患。

附圖說明

圖1為本實用新型的結構圖；

圖2為本實用新型的左視圖；

圖3為本實用新型的氣道結構圖；

圖4為本實用新型在工作腔體中的結構圖；

圖中，