[實用新型]一種真空腔體

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201821886650.0
• 申請日: 2018-11-14
• 公開（公告）號: CN209562884U
• 公開（公告）日: 2019-10-29
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 王漢清;楊圓明;趙鑫
• 申請（專利權(quán)）人: 新奧科技發(fā)展有限公司
• 主分類號: H05H1/00
• 分類號: H05H1/00
• 代理公司: 北京中博世達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

本實用新型實施例公開了一種真空腔體，涉及等離子體技術(shù)領(lǐng)域，用于在允許真空腔體外部射頻波對真空腔體內(nèi)部等離子體運動進(jìn)行良好控制的前提下，有效降低真空腔體在使用過程中的安全風(fēng)險，并提高其使用可靠性。該真空腔體包括支撐架以及多塊安裝在支撐架上用于與支撐架圍成真空腔室的蓋板；蓋板包括允許射頻波穿過的非金屬絕緣蓋板；支撐架上設(shè)有至少一組加固組件，加固組件位于非金屬絕緣蓋板面向真空腔室的一側(cè)，并用于支撐非金屬絕緣蓋板。本實用新型實施例提供的真空腔體用于實現(xiàn)射頻波對等離子體的控制。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及等離子體技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種真空腔體。

背景技術(shù)

相關(guān)技術(shù)中，在利用包含有真空腔體的真空裝置進(jìn)行等離子體刻蝕、等離子體沉積、等離子體加熱等諸多生產(chǎn)工藝時，通常是在真空腔體的真空腔室內(nèi)形成電場，以將該電場作用在真空腔室內(nèi)的等離子體上，通過電場控制等離子體的運動以實現(xiàn)等離子體刻蝕、等離子體沉積或等離子體加熱等。但是在利用電場控制等離子體運動的過程中，等離子體運動的受控性較差，容易使得待處理工件的表面出現(xiàn)刻蝕誤差或沉積誤差等。

基于此，為了更好地控制等離子體的運動，相關(guān)領(lǐng)域技術(shù)人員提出利用射頻波來控制等離子體運動的技術(shù)設(shè)想，然而現(xiàn)有的真空腔體多為金屬腔體，使得該真空腔體的金屬腔壁容易對射頻波進(jìn)行屏蔽，并不利于射頻波從真空腔體外部進(jìn)入其真空腔室內(nèi)來控制等離子體的運動。

實用新型內(nèi)容

本實用新型實施例的目的在于提供一種真空腔體，用于在允許真空腔體外部射頻波對真空腔體內(nèi)部等離子體運動進(jìn)行良好控制的前提下，有效降低真空腔體在使用過程中的安全風(fēng)險，并提高其使用可靠性。

為達(dá)到上述目的，本發(fā)明實施例提供了如下技術(shù)方案：

本實用新型實施例第一方面提供了一種真空腔體，包括支撐架以及多塊安裝在支撐架上用于與支撐架圍成真空腔室的蓋板；所述蓋板包括允許射頻波穿過的非金屬絕緣蓋板；所述支撐架上設(shè)有至少一組加固組件，該加固組件位于非金屬絕緣蓋板面向真空腔室的一側(cè)，并用于支撐非金屬絕緣蓋板。

可選的，上述支撐架包括相對設(shè)置的第一安裝部和第二安裝部，第一安裝部通過多根支撐桿與第二安裝部連接。上述加固組件包括至少兩根沿直線順次設(shè)置的加固桿；其中，第一根加固桿和最后一根加固桿分別與對應(yīng)的支撐桿連接，且每相鄰的兩根加固桿之間通過調(diào)節(jié)套相連。

可選的，各非金屬絕緣蓋板分別與第一安裝部、第二安裝部以及至少兩根支撐桿固定連接。

可選的，在與上述非金屬絕緣蓋板固定連接的至少兩根支撐桿中，上述加固組件設(shè)置于每相鄰的兩根支撐桿之間。

可選的，上述第一安裝部、第二安裝部以及至少兩根支撐桿各自用于與對應(yīng)的非金屬絕緣蓋板連接的部分，分別設(shè)有密封槽以及固定安裝孔；非金屬絕緣蓋板通過設(shè)在密封槽內(nèi)的密封圈與第一安裝部、第二安裝部以及至少兩根支撐桿密封連接；非金屬絕緣蓋板通過螺栓緊固件與上述固定安裝孔固定連接。

進(jìn)一步的，上述密封圈在自然狀態(tài)時伸出密封槽的高度等于密封槽槽深的1/4；或，密封圈在自然狀態(tài)時伸出密封槽的高度等于密封槽槽深的1/3；或，密封圈在自然狀態(tài)時伸出密封槽的高度大于密封槽槽深的1/4，且小于密封槽槽深的1/3。

可選的，上述密封圈包括氟橡膠密封圈。

可選的，上述非金屬絕緣蓋板上設(shè)有至少一個與真空腔室連通的功能孔；該功能孔包括抽氣孔、真空壓力測試孔或診斷設(shè)備檢測孔。

可選的，上述非金屬絕緣蓋板包括聚碳酸酯板、石英玻璃板或有機玻璃板。

可選的，上述支撐架包括金屬支撐架。