[實用新型]一種拋光液循環利用的化學機械拋光設備

有效

• 申請號: 201821871781.1
• 申請日: 2018-11-14
• 公開（公告）號: CN209021902U
• 公開（公告）日: 2019-06-25
• 發明（設計）人: 章建群;汪選合;章慧云
• 申請（專利權）人: 江西現代職業技術學院
• 主分類號: B24B57/04
• 分類號: B24B57/04
• 代理公司: 南昌新天下專利商標代理有限公司 36115
• 代理人: 戴繼翔

本實用新型公開了一種拋光液循環利用的化學機械拋光設備，包括拋光箱，所述拋光箱底部上端固定連接有轉盤，所述轉盤的上端固定安裝有拋光墊，所述轉盤的下端固定連接有轉動軸，所述轉動軸穿過拋光箱，所述轉動軸下端固定連接有聯軸器，所述聯軸器的下端固定安裝有電機，所述電機的下端固定連接有底架，所述拋光液箱右端固定安裝有拋光液箱出液口，所述拋光箱右端固定連接有增壓泵，所述拋光液箱出液口和增壓泵進口處設置有另一連接管，所述增壓泵上端出口處固定連接有拋光液滴管。該拋光液循環利用的化學機械拋光設備，在現有的化學機械拋光設備的基礎上，進行了添加拋光液循環利用的裝置，避免拋光液的浪費，節約成本，結構簡單方便操作。

技術領域

本實用新型涉及拋光設備技術領域，具體為一種拋光液循環利用的化學機械拋光設備。

背景技術

化學拋光設備是一種將化學作用和機械作用相結合的拋光設備，首先工件表面材料與拋光液中的氧化劑、催化劑等發生化學反應，生成一層相對容易去除的軟質層,然后在拋光液中的磨料和拋光墊的機械作用下去除軟質層,使工件表面重新裸露出來，然后再進行化學反應,這樣在化學作用過程和機械作用過程的交替進行中完成工件表面拋光。

隨著制程技術的升級，導線與柵極尺寸的縮小，光刻技術對晶元表面的平坦程度的要求越來越高，而化學機械拋光是目前機械加工中唯一可以實現表面全局平坦化的技術，因此化學機械拋光設備的出現必不可少，但是現有的化學機械拋光機存在拋光液不能重復利用的缺點。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種拋光液循環利用的化學機械拋光設備，以解決上述背景技術中提出拋光液不能重復利用的問題。

為實現上述目的，本實用新型提供如下技術方案：一種拋光液循環利用的化學機械拋光設備，包括拋光箱，所述拋光箱底部上端固定連接有轉盤，所述轉盤的上端固定安裝有拋光墊，所述轉盤的下端固定連接有轉動軸，所述轉動軸穿過拋光箱，所述轉動軸下端固定連接有聯軸器，所述聯軸器的下端固定安裝有電機，所述電機的下端固定連接有底架，所述底架的上端固定安裝有拋光箱，所述拋光箱上端固定連接有支撐平臺，所述支撐平臺內貫穿連接有液壓氣缸，所述液壓氣缸下端伸縮桿固定連接有研磨體，所述底架前端固定連接有拋光液箱，所述拋光液箱前端的上方固定安裝有加液口，所述拋光液箱左端固定連接有拋光液箱進液口，所述拋光箱左端的下方固定連接有拋光箱出液口，所述拋光液箱進液口和拋光箱出液口間設置有連接管，所述拋光液箱右端固定安裝有拋光液箱出液口，所述拋光箱右端固定連接有增壓泵，所述拋光液箱出液口和增壓泵進口處設置有另一連接管，所述增壓泵上端出口處固定連接有拋光液滴管。

優選的，所述轉盤和拋光墊的直徑小于拋光箱的寬度，且轉盤和拋光墊的直徑小于拋光箱的長度。

優選的，所述研磨體位于轉盤的上方，且研磨體到轉盤中心點的距離小于轉盤的半徑。

優選的，所述加液口的高度高于拋光液箱出液口的高度。

優選的，所述拋光箱出液口的最低點等于拋光箱內的最低點，且拋光箱出液口的高度高于拋光液箱進液口的高度。

優選的，所述拋光液滴管的最高點高于拋光箱的最高點，且拋光液滴管到轉盤中心點的距離小于轉盤的半徑。

與現有技術相比，本實用新型的有益效果是：該拋光液循環利用的化學機械拋光設備，在現有的化學機械拋光設備的基礎上，進行了添加拋光液循環利用的裝置，拋光箱的設計，方便將使用后的拋光液收集在拋光箱內，然后從拋光箱的出口流入拋光液箱內，拋光液箱的另一端設置有拋光液的出口，拋光液從出口經拋光液滴管落在轉盤上，拋光液形成一個循環流動的路線，避免拋光液的浪費，節約成本，結構簡單方便操作。

附圖說明

圖1為本實用新型正面結構示意圖；

圖2為本實用新型側面結構示意圖；

圖3為本實用新型俯面結構示意圖；