[實(shí)用新型]基于反射窗口提高太赫茲波成像信噪比的裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201821829068.0 | 申請(qǐng)日： | 2018-11-07 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN209513617U | 公開(kāi)（公告）日： | 2019-10-18 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 徐德剛;武麗敏;王與燁;姚建銓 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 天津大學(xué) |
| 主分類號(hào)： | G01N21/55 | 分類號(hào)： | G01N21/55 |
| 代理公司： | 天津市北洋有限責(zé)任專利代理事務(wù)所 12201 | 代理人： | 李林娟 |
| 地址： | 300072*** | 國(guó)省代碼： | 天津;12 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說(shuō)明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 信噪比 反射 本實(shí)用新型 成像 太赫茲波成像 反射式成像 采樣階段 成像信號(hào) 理論應(yīng)用 信號(hào)振幅 不均勻 菲涅爾 漫散射 簡(jiǎn)易 干涉 | ||
1.基于反射窗口提高太赫茲波成像信噪比的裝置，其特征在于，所述裝置包括：
太赫茲波平面反射鏡、第一太赫茲波離軸拋物面鏡、第二太赫茲波離軸拋物面鏡、第三太赫茲波離軸拋物面鏡依次設(shè)置在太赫茲波的出射光路上；
第一太赫茲波離軸拋物面鏡用于將輸出的太赫茲波聚焦入射到反射窗口上；第二太赫茲波離軸拋物面鏡設(shè)置在放樣品裝置的信號(hào)光出射光路上，用于接收信號(hào)光太赫茲波；第三太赫茲波離軸拋物面鏡設(shè)置在太赫茲波探測(cè)前，用于接收并聚焦信號(hào)光太赫茲波進(jìn)入探測(cè)器；
探測(cè)器設(shè)置在第三太赫茲波離軸拋物面鏡的信號(hào)光出射光路上，收集第三太赫茲波離軸拋物面鏡的反射光；
反射窗口為對(duì)太赫茲波高透的材料，其固定于二維掃描平臺(tái)上，用于放置待測(cè)成像樣品。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于反射窗口提高太赫茲波成像信噪比的裝置，其特征在于，所述太赫茲輻射源為連續(xù)或脈沖的太赫茲輻射源。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于反射窗口提高太赫茲波成像信噪比的裝置，其特征在于，所述太赫茲波平面反射鏡、第一太赫茲波離軸拋物面鏡、第二太赫茲波離軸拋物面鏡、第三太赫茲波離軸拋物面鏡，均鍍太赫茲波段的寬帶高反膜。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于反射窗口提高太赫茲波成像信噪比的裝置，其特征在于，所述太赫茲源產(chǎn)生太赫茲波輸出，以30°角度入射到反射窗口。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于天津大學(xué)，未經(jīng)天津大學(xué)許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201821829068.0/1.html，轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段，即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā)，因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng)，測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
