[實(shí)用新型]基板雙面處理高效傳遞系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201821825648.2 | 申請日: | 2018-11-07 |
| 公開(公告)號: | CN208767274U | 公開(公告)日: | 2019-04-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 彭博;徐春旭 | 申請(專利權(quán))人: | 沈陽芯源微電子設(shè)備有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/677 | 分類號: | H01L21/677;H01L21/67 |
| 代理公司: | 沈陽科苑專利商標(biāo)代理有限公司 21002 | 代理人: | 何麗英 |
| 地址: | 110168 遼*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基板 傳遞機(jī)器人 清洗單元 晶圓 中間單元 片盒 本實(shí)用新型 高效傳遞 雙面處理 機(jī)器人 緩存 傳遞基板 傳遞系統(tǒng) 工藝次序 晶圓清洗 傳輸 翻轉(zhuǎn) 送出 背面 清洗 送入 存儲 | ||
1.一種基板雙面處理高效傳遞系統(tǒng),其特征在于,包括片盒單元(1)、基板傳遞機(jī)器人A(2)、中間單元(3)、第一清洗單元(4)、基板傳遞機(jī)器人B(5)及第二清洗單元(6),其中,
所述片盒單元(1)用于存儲晶圓;
所述基板傳遞機(jī)器人A(2)用于在所述片盒單元(1)和中間單元(3)之間進(jìn)行晶圓傳輸;
所述中間單元(3)用于晶圓的緩存和翻轉(zhuǎn);
所述基板傳遞機(jī)器人B(5)用于在所述中間單元(3)和清洗單元之間進(jìn)行晶圓傳輸;
所述第一清洗單元(4)和第二清洗單元(6)分別設(shè)置于所述基板傳遞機(jī)器人B(5)的兩側(cè),用于對晶圓的背面及正面進(jìn)行清洗。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板雙面處理高效傳遞系統(tǒng),其特征在于,所述中間單元(3)設(shè)置于所述基板傳遞機(jī)器人A(2)和所述基板傳遞機(jī)器人B(5)之間,包括由下至上設(shè)置的基板送出過渡單元(7)、基板前翻轉(zhuǎn)單元(8)及基板后翻轉(zhuǎn)單元(9),其中基板送出過渡單元(7)用于緩存清洗后的晶圓,所述基板前翻轉(zhuǎn)單元(8)和所述基板后翻轉(zhuǎn)單元(9)用于晶圓的翻轉(zhuǎn)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板雙面處理高效傳遞系統(tǒng),其特征在于,所述第一清洗單元(4)和所述第二清洗單元(6)結(jié)構(gòu)相同,均包括上層清洗區(qū)和下層清洗區(qū),所述上層清洗區(qū)內(nèi)設(shè)置有多個基板正面清洗單元(11),所述下層清洗區(qū)內(nèi)設(shè)有多個背面清洗單元(10)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板雙面處理高效傳遞系統(tǒng),其特征在于,所述基板傳遞機(jī)器人B(5)將所述基板前翻轉(zhuǎn)單元(8)內(nèi)翻轉(zhuǎn)后背面朝上的晶圓輸送至所述背面清洗單元(10)內(nèi)進(jìn)行背面清洗,再將背面清洗單元(10)內(nèi)清洗完畢的晶圓輸送至所述基板后翻轉(zhuǎn)單元(9)內(nèi),所述基板后翻轉(zhuǎn)單元(9)將晶圓翻轉(zhuǎn)至正面朝上,所述基板傳遞機(jī)器人B(5)將正面朝上的晶圓輸送至所述基板正面清洗單元(11)內(nèi)進(jìn)行正面清洗,正面清洗完后的晶圓通過所述基板傳遞機(jī)器人B(5)輸送至所述基板送出過渡單元(7)內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板雙面處理高效傳遞系統(tǒng),其特征在于,所述基板傳遞機(jī)器人A(2)和所述基板傳遞機(jī)器人B(5)均包括機(jī)械臂(12)及設(shè)置于所述機(jī)械臂(12)末端的機(jī)械手(13),所述機(jī)械手(13)包括手掌(131)及設(shè)置于所述手掌(131)兩側(cè)的兩個手指(133),通過兩個手指(133)托舉晶圓的邊緣,完成晶圓的輸送。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基板雙面處理高效傳遞系統(tǒng),其特征在于,所述手掌(131)上設(shè)有位于兩個所述手指(133)之間的手掌支撐凸起(132),所述手掌支撐凸起(132)與兩個所述手指(133)一同支撐晶圓的邊緣部。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板雙面處理高效傳遞系統(tǒng),其特征在于,所述片盒單元(1)為多個,且呈一字型排列。
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