[實(shí)用新型]一種溝槽保護(hù)圈結(jié)構(gòu)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201821785110.3 | 申請(qǐng)日: | 2018-10-31 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN208835053U | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-05-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 不公告發(fā)明人 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 長(zhǎng)鑫存儲(chǔ)技術(shù)有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L23/528 | 分類(lèi)號(hào): | H01L23/528;H01L21/768;H01L23/00 |
| 代理公司: | 北京律智知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11438 | 代理人: | 于寶慶;崔香丹 |
| 地址: | 230000 安徽省合肥市*** | 國(guó)省代碼: | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 金屬互連層 保護(hù)圈 基底 金屬間介電層 層間介電層 字線(xiàn)結(jié)構(gòu) 第二連接件 第一連接件 芯片區(qū)域 本實(shí)用新型 層疊狀設(shè)置 最底層金屬 電位浮動(dòng) 浮動(dòng)節(jié)點(diǎn) 互連層 最底層 字線(xiàn) 泄露 | ||
1.一種溝槽保護(hù)圈結(jié)構(gòu),其特征在于,包括:
基底,所述基底具有多個(gè)芯片區(qū)域以及位于相鄰所述芯片區(qū)域間的保護(hù)圈區(qū)域;
溝槽,位于所述保護(hù)圈區(qū)域中;
字線(xiàn)結(jié)構(gòu),位于所述溝槽中;
多個(gè)金屬互連層,位于所述基底上,呈層疊狀設(shè)置;
金屬間介電層,位于相鄰所述金屬互連層之間,其中所述金屬間介電層中具有第一連接件,所述第一連接件連接上下相鄰的所述金屬互連層;
層間介電層,位于最底層的所述金屬互連層與所述基底之間,其中所述層間介電層中具有第二連接件,所述第二連接件連接最底層金屬互連層和所述字線(xiàn)結(jié)構(gòu)。
2.如權(quán)利要求1所述的溝槽保護(hù)圈結(jié)構(gòu),其特征在于,所述保護(hù)圈區(qū)域中的所述溝槽內(nèi)的所述字線(xiàn)結(jié)構(gòu)電位接地。
3.如權(quán)利要求1所述的溝槽保護(hù)圈結(jié)構(gòu),其特征在于,所述溝槽保護(hù)圈結(jié)構(gòu)中包含多個(gè)所述溝槽以及多個(gè)所述字線(xiàn)結(jié)構(gòu),所述溝槽的數(shù)量與所述字線(xiàn)結(jié)構(gòu)的數(shù)量相同,所述字線(xiàn)以及所述溝槽的數(shù)量為2或2的倍數(shù)。
4.如權(quán)利要求3所述的溝槽保護(hù)圈結(jié)構(gòu),其特征在于,最底層的所述金屬互連層與多個(gè)所述字線(xiàn)結(jié)構(gòu)中的至少一個(gè)通過(guò)所述第二連接件相連接。
5.如權(quán)利要求1所述的溝槽保護(hù)圈結(jié)構(gòu),其特征在于,所述芯片區(qū)域包含與所述溝槽保護(hù)圈區(qū)域中對(duì)應(yīng)相同或相似的各個(gè)部件,所述部件包括所述溝槽、所述字線(xiàn)結(jié)構(gòu)、所述層間介電層、所述第二連接件、所述金屬互連層、所述金屬間介電層以及所述第一連接件。
6.如權(quán)利要求1所述的溝槽保護(hù)圈結(jié)構(gòu),其特征在于,所述保護(hù)圈區(qū)域內(nèi)的所述金屬互連層、所述第一連接件、所述第二連接件以及所述字線(xiàn)結(jié)構(gòu)與所述芯片區(qū)域內(nèi)對(duì)應(yīng)的相同或相似的部件互不相連。
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