[實用新型]一種教學型濺鍍儀

有效

• 申請號: 201821774552.8
• 申請日: 2018-10-23
• 公開（公告）號: CN209543736U
• 公開（公告）日: 2019-10-25
• 發明（設計）人: 熊啟紅;黃大剛
• 申請（專利權）人: 蘇州海茲思納米科技有限公司
• 主分類號: G09B25/02
• 分類號: G09B25/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型公開了一種教學型濺鍍儀，包括裝置本體、桌臺、固定桿、伸縮桿、固緊螺栓、固定塊、氬氣輸送器、真空室、活動板、工件放置槽、連接螺栓、輸送管、真空室固定臺、底座、連接軸、固定板、轉軸、金屬靶材、連接板、支撐塊和放電器，所述裝置本體包括桌臺，所述桌臺底部四角處均設置有固定桿，所述固定桿頂部均設置有伸縮桿，與現有技術相比，本實用新型的有益效果如下：本裝置設置有底座、真空室固定臺、活動板、工件放置槽、固定安、轉軸、連接軸、安裝孔和連接螺栓，從而可使活動板繞著轉軸活動，然后再通過安裝孔和連接螺栓將連接板和活動板緊密連接在一起，從而形成密閉狀態，從而更加便于教學使用。

技術領域

本實用新型涉及濺鍍技術領域，具體為一種教學型濺鍍儀。

背景技術

在真空環境下，通入適當的惰性氣體作為媒介，靠惰性氣體加速撞擊靶材，使靶材表面原子被撞擊出來，并在表面形成鍍膜，濺鍍，通常指的是磁控濺鍍，屬于高速低溫濺鍍法，該工藝要求真空度在1×10-3Torr左右，即1.3×10-3Pa的真空狀態充入惰性氣體氬氣，并在塑膠基材和金屬靶材之間加上高壓直流電，由于輝光放電產生的電子激發惰性氣體，產生等離子體，等離子體將金屬靶材的原子轟出，沉積在塑膠基材上以幾十電子伏特或更高動能的荷電粒子轟擊材料表面，使其濺射出進入氣相，可用來刻蝕和鍍膜，入射一個離子所濺射出的原子個數稱為濺射產額產額越高濺射速度越快，以Cu，Au，Ag等最高，Ti，Mo，Ta，W等最低，一般在0.1-10原子/離子，離子可以直流輝光放電產生，在兩極間加高壓產生放電，正離子會轟擊負電之靶材而濺射也靶材，而鍍至被鍍物上，傳統的濺鍍裝置整體體積較大，質量較重，不便于移動和安裝，且傳統的濺鍍裝置不能夠調節工作臺的高度，從而不便于所有人使用，傳統的濺鍍裝置真空室一直屬于封閉狀態，無法對內部情況進行觀測，不便于教學使用。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種教學型濺鍍儀，設置有桌臺、固定桿、伸縮桿和固緊螺栓，從而可通過調節固緊螺栓來調節桌臺的高度，從而調節真空室的高度，從而更加便于更多人的使用。

為實現上述目的，本實用新型提供如下技術方案：一種教學型濺鍍儀，包括裝置本體、桌臺、固定桿、伸縮桿、固緊螺栓、固定塊、氬氣輸送器、真空室、活動板、工件放置槽、連接螺栓、輸送管、真空室固定臺、底座、連接軸、固定板、轉軸、金屬靶材、連接板、支撐塊和放電器，所述裝置本體包括桌臺，所述桌臺底部四角處均設置有固定桿，所述固定桿頂部均設置有伸縮桿，所述伸縮桿頂部與所述桌臺底部四角處固定連接，所述桌臺頂部設置有氬氣輸送器，所述氬氣輸送器頂部中間固定安裝有底座，所述氬氣輸送器頂部固定安裝有真空室固定臺，所述真空室固定臺頂部固定安裝有真空室，所述真空室內部一側設置有金屬靶材，所述真空室一側固定安裝有連接板，所述金屬靶材一側設置有若干個放電器，所述底座頂部設置有活動板。

優選的，所述固定桿頂端一側設置有固緊螺栓，固定桿底部均固定安裝有固定塊，固定桿與伸縮桿之間通過固緊螺栓固定連接。

優選的，所述真空室固定臺位于底座的一側，真空室與氬氣輸送器之間通過輸送管連接。

優選的，所述底座頂部兩端均固定安裝有固定板，兩個固定板之間活動連接有轉軸，活動板一側固定安裝有連接軸，連接軸與轉軸活動連接，真空室底部一端固定安裝有支撐塊。

優選的，所述連接板頂部和活動板一端均設置有安裝孔，活動板底部一端設置有連接螺栓。

與現有技術相比，本實用新型的有益效果如下：

本實用新型通過設置有桌臺、固定桿、伸縮桿和固緊螺栓，從而可通過調節固緊螺栓來調節桌臺的高度，從而調節真空室的高度，從而更加便于更多人的使用，提高了裝置的適用性，本裝置設置有底座、真空室固定臺、活動板、工件放置槽、固定安、轉軸、連接軸、安裝孔和連接螺栓，從而可使活動板繞著轉軸活動，然后再通過安裝孔和連接螺栓將連接板和活動板緊密連接在一起，從而形成密閉狀態，從而更加便于教學使用。

附圖說明