[實用新型]基于數(shù)字微鏡設(shè)備的光學相干層析成像裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201821622942.3
• 申請日: 2018-09-30
• 公開（公告）號: CN209132156U
• 公開（公告）日: 2019-07-19
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 蘇勝飛
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市太赫茲科技創(chuàng)新研究院;深圳市太赫茲科技創(chuàng)新研究院有限公司
• 主分類號: G01N21/45
• 分類號: G01N21/45
• 代理公司: 深圳中一專利商標事務(wù)所 44237
• 代理人: 官建紅

1.基于數(shù)字微鏡設(shè)備的光學相干層析成像裝置，用于樣品的成像，其特征在于，包括：

寬帶光源；

光纖耦合器，用以將所述寬帶光源發(fā)出的光分成參考光和樣品光并分別送出；

參考臂，用以接收、準直所述參考光并使得準直后的參考光變?yōu)檠卦贩祷刂了龉饫w耦合器的參考回光，包括用以接收并準直所述參考光的第一準直透鏡和用以使準直后的參考光朝向所述第一準直透鏡反射的反射鏡，所述參考回光與所述參考光于所述第一準直透鏡處耦合；

樣品臂，用以接收、準直所述樣品光并將準直后的樣品光反射至所述樣品表面進而使到達所述樣品表面的樣品光變?yōu)檠卦贩祷刂了龉饫w耦合器的樣品回光，所述參考回光與所述樣品回光于所述光纖耦合器中發(fā)生干涉；所述樣品臂包括用以使準直后的樣品光朝向所述樣品反射的數(shù)字微鏡設(shè)備；

微鏡控制機，用以控制所述數(shù)字微鏡設(shè)備開關(guān)；

探測器，其與所述光纖耦合器相連接；以及

計算機，其與所述探測器相連接。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學相干層析成像裝置，其特征在于，所述光學相干層析成像裝置還包括參考臂控制機構(gòu)，所述參考臂控制機構(gòu)包括用于調(diào)節(jié)所述第一準直透鏡與所述反射鏡間距的第一調(diào)節(jié)組件和用于調(diào)節(jié)所述反射鏡傾斜角度的第二調(diào)節(jié)組件。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學相干層析成像裝置，其特征在于，所述樣品臂還包括用以接收、準直所述樣品光的第二準直透鏡和用以將所述數(shù)字微鏡設(shè)備反射出的樣品光聚焦至所述樣品表面的成像透鏡，所述數(shù)字微鏡設(shè)備設(shè)置在所述第二準直透鏡與所述成像透鏡之間并位于所述成像透鏡背離所述樣品一側(cè)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學相干層析成像裝置，其特征在于，所述數(shù)字微鏡設(shè)備反射光線與所述數(shù)字微鏡設(shè)備入射光線的夾角為90度。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學相干層析成像裝置，其特征在于，所述寬帶光源為超輻射發(fā)光二極管、飛秒激光器或發(fā)光二極管。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學相干層析成像裝置，其特征在于，所述探測器為光譜儀、電荷耦合元件或光電二極管。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學相干層析成像裝置，其特征在于，所述光纖耦合器為2×2單模光纖耦合器。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光學相干層析成像裝置，其特征在于，所述光纖耦合器的分光比為50：50。