[實用新型]一種冷卻結構、主基板冷卻裝置及光刻機

有效

• 申請號: 201821616236.8
• 申請日: 2018-09-30
• 公開（公告）號: CN208922064U
• 公開（公告）日: 2019-05-31
• 發明（設計）人: 楚傳鵬;楊志斌;宋興龍
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備（集團）股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海思捷知識產權代理有限公司 31295
• 代理人: 王宏婧

1.一種冷卻結構，其特征在于，所述冷卻結構包括設置在主基板內部的供循環冷卻液通過的冷卻通道，所述冷卻通道為一根連續管道，所述連續管道在所述主基板內的路徑分為上下兩層且形狀相同，所述循環冷卻液在兩層管道中的流動方向相反。

2.根據權利要求1所述的冷卻結構，其特征在于，所述冷卻結構還包括多孔介質，所述多孔介質填充在所述連續管道的拐角處的內部。

3.根據權利要求2所述的冷卻結構，其特征在于，所述多孔介質由固體骨架和孔隙空間組成，所述固體骨架由形狀不規則的固定顆粒組成，所述固定顆粒之間的間隙相互連通形成形狀復雜、走向無序的所述孔隙空間。

4.根據權利要求1所述的冷卻結構，其特征在于，所述冷卻結構設置有第一進水口和第一出水口。

5.根據權利要求1所述的冷卻結構，其特征在于，所述兩層管道之間的距離通過仿真計算，使所述循環冷卻液對所述冷卻通道的沖擊力最小。

6.一種主基板冷卻裝置，其特征在于，所述主基板的冷卻裝置包括：溫度控制單元、分流塊和集流塊，所述主基板內部設置有根據權利要求1-5任一項所述的冷卻結構，所述冷卻結構設置有第一進水口和第一出水口，所述溫度控制單元設置第二進水口和第二出水口，所述溫度控制單元和所述主基板之間連接所述分流塊和所述集流塊，使所述循環冷卻液從所述第二出水口經所述分流塊進入所述第一進水口，流經所述冷卻通道后，從所述第一出水口經所述集流塊回流到第二進水口，進入所述溫度控制單元。

7.根據權利要求6所述的主基板冷卻裝置，其特征在于，所述主基板冷卻裝置還包括溫度傳感器和上位機，所述溫度傳感器安裝在所述集流塊和所述主基板上，用于采集所述主基板的溫度，所述上位機根據所述溫度傳感器的溫度反饋確定所述溫度控制單元的溫度設定值。

8.根據權利要求6所述的主基板冷卻裝置，其特征在于，所述主基板的材料包括鋁、鋁合金、不銹鋼、鋼、花岡巖、瓷器材料的任何一種或這些材料的采用復合、夾層或層壓結構的組合。

9.根據權利要求8所述的主基板冷卻裝置，其特征在于，當所述主基板的材料采用鋁或鋁合金時，所述主基板冷卻裝置還包括供氧裝置，所述供氧裝置在所述循環冷卻液進入所述主基板前對其進行充氧。

10.一種光刻機，其特征在于，所述光刻機包括主基板、框架、減振器、物鏡和測量分系統，所述主基板連接根據權利要求6-9任意一項所述的主基板冷卻裝置，所述物鏡和所述測量分系統均安裝在所述主基板上，所述主基板通過所述減振器安裝在所述框架上。