[實用新型]一種多晶硅靶材制作裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201821575006.1 | 申請日: | 2018-09-27 |
| 公開(公告)號: | CN208869651U | 公開(公告)日: | 2019-05-17 |
| 發(fā)明(設計)人: | 魏明剛 | 申請(專利權)人: | 深圳市福耐科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/34 | 分類號: | C23C14/34;C23C14/35 |
| 代理公司: | 北京科家知識產權代理事務所(普通合伙) 11427 | 代理人: | 陳娟 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市寶安區(qū)沙井街*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 多晶硅靶 坩堝 制作裝置 固定環(huán) 本實用新型 底部表面 靶材 多晶硅顆粒 裝料 便于拆卸 頂部開口 固定擋板 固定卡槽 固定通孔 內側表面 鐵硼合金 整體制作 制作設備 裝置結構 坩堝內腔 摻雜劑 混勻 組裝 簡易 貫穿 制作 | ||
本實用新型公開了一種多晶硅靶材制作裝置,包括坩堝,所述的坩堝內腔底部且接近其內側表面的位置設置有固定擋板,所述的坩堝外表面頂部一周蓋有第一固定環(huán),所述的第一固定環(huán)頂部與底部表面且與坩堝頂部開口相對齊的位置貫穿開設有固定通孔,所述的第一固定環(huán)底部表面且與坩堝頂部相對齊的位置開設有第一固定卡槽,本實用新型涉及靶材制作設備技術領域。該一種多晶硅靶材制作裝置,達到了有利于提高整體制作效率的目的,整個裝置結構較簡單,使用成本較低,且便于拆卸組裝,使用方便,在裝料的同時完成多晶硅顆粒料和鐵硼合金摻雜劑的混勻,有利于提高整體的靶材制作效率,且有利于提高獲得的多晶硅靶材的品質,且操作簡易。
技術領域
本實用新型涉及靶材制作設備技術領域,具體為一種多晶硅靶材制作裝置。
背景技術
鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源,簡單說的話,靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料,用于高能激光武器中,不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時,會產生不同的殺傷破壞效應,例如:蒸發(fā)磁控濺射鍍膜是加熱蒸發(fā)鍍膜、鋁膜等,更換不同的靶材(如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等),即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等),靶材材料的技術發(fā)展趨勢與下游應用產業(yè)的薄膜技術發(fā)展趨勢息息相關,隨著應用產業(yè)在薄膜產品或元件上的技術改進,靶材技術也應隨之變化,如IC制造商近段時間致力于低電阻率銅布線的開發(fā),預計未來幾年將大幅度取代原來的鋁膜,這樣銅靶及其所需阻擋層靶材的開發(fā)將刻不容緩,另外,近年來平面顯示器(FPD)大幅度取代原以陰極射線管(CRT)為主的電腦顯示器及電視機市場.亦將大幅增加ITO靶材的技術與市場需求,此外在存儲技術方面,高密度、大容量硬盤,高密度的可擦寫光盤的需求持續(xù)增加.這些均導致應用產業(yè)對靶材的需求發(fā)生變化。現有的多晶硅靶材的制造裝置在進行填料時通常需要預先在多晶硅料內加入鐵硼合金摻雜劑后進行裝料,既增加了整體的靶材制造時間,從而降低了整體的制作效率,且在傾倒裝料過程易使得多晶硅料與鐵硼合金摻雜劑混合不均勻,從而影響獲得的靶材的整體品質。
實用新型內容
(一)解決的技術問題
針對現有技術的不足,本實用新型提供了一種多晶硅靶材制作裝置,解決了現有的多晶硅靶材的制造裝置在進行填料時通常需要預先在多晶硅料內加入鐵硼合金摻雜劑,既增加了整體的靶材制造時間,從而降低了整體的制作效率,且在傾倒裝料過程易使得多晶硅料與鐵硼合金摻雜劑混合不均勻,從而影響獲得的靶材的整體品質的問題。
(二)技術方案
實現以上目的,本實用新型通過以下技術方案予以實現:一種多晶硅靶材制作裝置,包括坩堝,所述的坩堝內腔底部且接近其內側表面的位置設置有固定擋板,所述的坩堝外表面頂部一周蓋有第一固定環(huán),所述的第一固定環(huán)頂部與底部表面且與坩堝頂部開口相對齊的位置貫穿開設有固定通孔,所述的第一固定環(huán)底部表面且與坩堝頂部相對齊的位置開設有第一固定卡槽,所述的固定通孔側表面的中間位置環(huán)繞開設有第二固定卡槽,所述的第二固定卡槽表面均勻分布且固定卡設有第一固定塊,所述的第一固定塊接近固定擋板的一側表面固定連接有固定連接桿,所述的固定連接桿遠離第一固定塊的一端固定連接有第二固定環(huán),所述的固定擋板頂部表面一周開設有第三固定卡槽,所述的第二固定環(huán)底部表面且與第三固定卡槽相對齊的位置固定連接有第二固定塊,所述的第一固定環(huán)頂部表面架設有固定支撐板,所述的固定支撐板頂部表面中間位置固定連接有防護固定框,所述的防護固定框內腔頂部通過固定底座固定連接有伺服電機,所述的伺服電機輸出端固定連接有攪拌輥,所述的攪拌輥遠離伺服電機的一端貫穿固定支撐板且延伸至坩堝內部。
優(yōu)選的,所述的固定擋板呈圓筒形,且所述的固定擋板遠離攪拌輥的一側表面與坩堝內表面之間形成有塊狀料填充縫隙。
優(yōu)選的,所述的第一固定塊固定卡設在第二固定卡槽表面并與之滑動連接。
優(yōu)選的,所述的第二固定環(huán)頂部表面與第一固定環(huán)頂部表面位于同一水平面上。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





