[實用新型]水流自攪拌多級電耦合阻垢系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201821568219.1
• 申請日: 2018-09-25
• 公開（公告）號: CN209081506U
• 公開（公告）日: 2019-07-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張國安
• 申請（專利權(quán)）人: 張國安
• 主分類號: C02F1/48
• 分類號: C02F1/48
• 代理公司: 哈爾濱市松花江專利商標(biāo)事務(wù)所 23109
• 代理人: 牟永林

1.水流自攪拌多級電耦合阻垢系統(tǒng)，其特征在于：包括循環(huán)水流水槽(1)和高頻電磁波發(fā)射組件(2)；

循環(huán)水流水槽(1)內(nèi)底部并排間隔布置有N組高頻電磁波發(fā)射組件(2)，N≥2，N為整數(shù)；

相鄰兩個高頻電磁波發(fā)射組件(2)之間形成水?dāng)嚢杩臻g(20)，高頻電磁波發(fā)射組件(2)能釋放高頻電磁波并對水?dāng)嚢杩臻g(20)內(nèi)的流水進行磁化。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述水流自攪拌多級電耦合阻垢系統(tǒng)，其特征在于：每組所述高頻電磁波發(fā)射組件(2)包括電磁發(fā)射板(21)、支撐框架(22)和高頻電磁波發(fā)射器組(23)；

電磁發(fā)射板(21)由支撐框架(22)固定，支撐框架(22)設(shè)置在循環(huán)水流水槽(1)內(nèi)底部；

電磁發(fā)射板(21)具有多個平面(211)和多組波紋曲面，平面(211)和波紋曲面交替布置，相鄰兩個電磁發(fā)射板(21)之間形成水?dāng)嚢杩臻g(20)，每個所述平面(211)上安裝有一組電磁波發(fā)射器組(23)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述水流自攪拌多級電耦合阻垢系統(tǒng)，其特征在于：所述高頻電磁波發(fā)射器組(23)的每個高頻電磁波發(fā)射器包含多腔同軸連續(xù)頻率為2.4×10⁸赫茲的磁控管和防水外殼，防水外殼蓋裝在磁控管周圍。

4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述水流自攪拌多級電耦合阻垢系統(tǒng)，其特征在于：每組所述波紋曲面包含相交的兩個斜面(212)，兩個斜面(212)分別與一個平面(211)斜交。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述水流自攪拌多級電耦合阻垢系統(tǒng)，其特征在于：每組波紋曲面的兩個斜面(212)的夾角為40°-50°。

6.根據(jù)權(quán)利要求2、3或5所述水流自攪拌多級電耦合阻垢系統(tǒng)，其特征在于：所述支撐框架(22)包括固定架(221)和固定板(222)；電磁發(fā)射板(21)的兩側(cè)各安裝有一個固定架(221)，電磁發(fā)射板(21)的上下側(cè)各安裝有一個固定板(222)，固定架(221)和固定板(222)連接。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述水流自攪拌多級電耦合阻垢系統(tǒng)，其特征在于：所述固定板(222)上設(shè)置有固定槽(2221)，電磁發(fā)射板(21)插裝在固定槽(2221)上，固定板(222)的兩端還做有榫臺(2222)，電磁發(fā)射板(21)的兩側(cè)設(shè)置有卯合固定塊(33)，卯合固定塊(33)插裝在榫臺(2222)上，固定架(221)為帶有卯合槽(2211)的固定架，卯合固定塊(33)插裝在卯合槽(2211)內(nèi)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述水流自攪拌多級電耦合阻垢系統(tǒng)，其特征在于：所述循環(huán)水流水槽(1)為開口向上布置的[形槽，N組高頻電磁波發(fā)射組件(2)固接在循環(huán)水流水槽(1) 內(nèi)底部。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述水流自攪拌多級電耦合阻垢系統(tǒng)，其特征在于：所述水流自攪拌多級電耦合阻垢系統(tǒng)還包括四周敞開帶有上下板面的方形箱體(4)，方形箱體(4)設(shè)置在循環(huán)水流水槽(1)內(nèi)槽底，方形箱體(4)內(nèi)上下板面分別做有滑槽(41)和凸臺(42)，上下板面的滑槽(41)和凸臺(42)一一對應(yīng)布置，同一面上布置的滑槽(41)和凸臺(42)相間布置，每個滑槽(41)內(nèi)布置有一組可滑動的高頻電磁波發(fā)射組件(2)，上下相對應(yīng)的兩個凸臺(42)與相鄰兩個電磁發(fā)射板(21)圍成一個水?dāng)嚢杩臻g(20)。

10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述水流自攪拌多級電耦合阻垢系統(tǒng)，其特征在于：相鄰兩組高頻電磁波發(fā)射組件(2)的間距為28-32厘米。