[實(shí)用新型]一種并聯(lián)式連續(xù)鍍膜設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201821560758.0
• 申請(qǐng)日: 2018-09-25
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN208933463U
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-06-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王晗權(quán);王興杰;周年生;方輝鶴;張洪波
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 百琪達(dá)智能科技（寧波）股份有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/35
• 分類號(hào): C23C14/35;C23C14/56;C23C14/50
• 代理公司: 寧波浙成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 33268
• 代理人: 洪松

本實(shí)用新型公開(kāi)了一種并聯(lián)式連續(xù)鍍膜設(shè)備，包括進(jìn)料倉(cāng)、過(guò)渡倉(cāng)和至少兩條鍍膜室，鍍膜室并聯(lián)連接于進(jìn)料倉(cāng)和過(guò)渡倉(cāng)之間，鍍膜室內(nèi)設(shè)置靶材、濺射電源和傳送機(jī)構(gòu)，濺射電源與所述靶材電連接，用以向所述靶材輸出濺射功率；進(jìn)料倉(cāng)內(nèi)設(shè)置有第一基片架，過(guò)渡倉(cāng)內(nèi)設(shè)有第二基片架和翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，第一基片架和第二基片架分別用于放置釹鐵硼磁片，翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)用以將第一基片架上的釹鐵硼磁片翻轉(zhuǎn)至第二基片架上。本實(shí)用新型具有自動(dòng)化程度高、釹鐵硼磁片不易氧化、工作效率高的特點(diǎn)。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及磁體制備技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種并聯(lián)式連續(xù)鍍膜設(shè)備。

背景技術(shù)

釹鐵硼（Nd2Fe14B）永磁體具有高剩磁、高矯頑力和高磁能積，是現(xiàn)今所知的綜合性能最高的稀土永磁材料，促進(jìn)了磁學(xué)器件的小型化、輕型化的發(fā)展，使得在風(fēng)力發(fā)電、變頻壓縮機(jī)和新能源乘用車等高端熱門領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用。

在現(xiàn)有技術(shù)中，為了獲得高性能的燒結(jié)釹鐵硼永磁體主要運(yùn)用到重稀土等元素的添加，晶界擴(kuò)散添加重稀土元素成為近年來(lái)研究的熱點(diǎn)，使用晶界擴(kuò)散的方法，使重稀土元素?cái)U(kuò)散進(jìn)入磁體晶界及主相晶粒邊緣區(qū)域，既能達(dá)到提高各向異性場(chǎng)的目的，又不明顯的降低剩磁和磁能積，同時(shí)成本微量增加。

磁控濺射便是晶界擴(kuò)散添加稀土元素的方法中的一種，磁控濺射是通過(guò)磁控濺射設(shè)備濺射重稀土金屬在釹鐵硼磁體表面，但是現(xiàn)有的磁控濺射是將磁體平放在托盤(pán)上，使一面濺射鍍膜之后冷卻，再進(jìn)行手工翻面，再對(duì)另一面進(jìn)行濺射，這無(wú)疑增加了濺射的時(shí)間，降低了生產(chǎn)效率，而且手工翻面容易導(dǎo)致釹鐵硼磁體發(fā)生氧化，而影響釹鐵硼磁體的性能。

發(fā)明內(nèi)容

針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足和缺陷，提供一種并聯(lián)式連續(xù)鍍膜設(shè)備，具有自動(dòng)化程度高、釹鐵硼磁片不易氧化、工作效率高的特點(diǎn)。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供以下技術(shù)方案。

一種并聯(lián)式連續(xù)鍍膜設(shè)備，包括進(jìn)料倉(cāng)、過(guò)渡倉(cāng)和至少兩條鍍膜室，鍍膜室并聯(lián)連接于進(jìn)料倉(cāng)和過(guò)渡倉(cāng)之間，鍍膜室內(nèi)設(shè)置靶材、濺射電源和傳送機(jī)構(gòu)，濺射電源與所述靶材電連接，用以向所述靶材輸出濺射功率；進(jìn)料倉(cāng)內(nèi)設(shè)置有第一基片架，過(guò)渡倉(cāng)內(nèi)設(shè)有第二基片架和翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，第一基片架和第二基片架分別用于放置釹鐵硼磁片，翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)用以將第一基片架上的釹鐵硼磁片翻轉(zhuǎn)至第二基片架上。

進(jìn)一步的，傳送機(jī)構(gòu)為伺服電機(jī)通過(guò)磁流體驅(qū)動(dòng)中間傳送輥。

進(jìn)一步的，進(jìn)料倉(cāng)和過(guò)渡倉(cāng)內(nèi)分別設(shè)有與中間傳送輥對(duì)接的內(nèi)傳送輥，內(nèi)傳送輥通過(guò)外部的同步帶機(jī)構(gòu)或內(nèi)部的鏈傳動(dòng)實(shí)現(xiàn)。

進(jìn)一步的，鍍膜室和進(jìn)料倉(cāng)之間設(shè)有進(jìn)料室，鍍膜室和過(guò)渡倉(cāng)之間設(shè)有出料室。

進(jìn)一步的，進(jìn)料室和進(jìn)料倉(cāng)之間以及出料室和過(guò)渡倉(cāng)之間分別設(shè)有真空翻板閥門。

進(jìn)一步的，進(jìn)料倉(cāng)內(nèi)設(shè)有三軸進(jìn)料機(jī)械手。

進(jìn)一步的，進(jìn)料倉(cāng)、過(guò)渡倉(cāng)和鍍膜室內(nèi)均連接有真空系統(tǒng)。

進(jìn)一步的，翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)為三軸翻轉(zhuǎn)機(jī)械手。

本實(shí)用新型的有益效果為：本實(shí)用新型的鍍膜設(shè)備，使用時(shí)，先將料盒內(nèi)的釹鐵硼磁片通過(guò)三軸進(jìn)料機(jī)械手移送至第一基片架內(nèi),第一基片架再通過(guò)內(nèi)傳送輥和中間傳送輥移送至鍍膜室內(nèi)進(jìn)行鍍膜,待釹鐵硼磁片一面鍍膜完成后,再移送至中間過(guò)渡倉(cāng),此時(shí)再通過(guò)翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)將第二基片架翻轉(zhuǎn)并將第二基片架的開(kāi)口處與第一基片架相貼合,再通過(guò)翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)將第一基片架和第二基片架同時(shí)夾緊并翻轉(zhuǎn)180度,此時(shí)第一基片架上的釹鐵硼磁片便會(huì)翻轉(zhuǎn)至第二基片架上,再將第二基片架移動(dòng)至另一并聯(lián)的鍍膜室內(nèi),對(duì)釹鐵硼磁片另一面進(jìn)行鍍膜, 釹鐵硼磁片可連續(xù)不斷地進(jìn)入鍍膜室進(jìn)行鍍膜,本實(shí)用新型通過(guò)自動(dòng)化對(duì)釹鐵硼磁片進(jìn)行鍍膜,提高了自動(dòng)化程度, 大大提高了工作效率,而且避免了釹鐵硼磁片被氧化。

附圖說(shuō)明

圖1是本實(shí)用新型的整體結(jié)構(gòu)示意圖。